专利名称:带分立、可控衰减元件和狭缝光阑的狭缝x射线照相装置的制作方法
本发明涉及狭缝X射线照相装置。
这种装置包括分立、可控衰减元件，衰减元件与狭缝光阑共同工作。这种装置在正在审理的8400845号荷兰专利申请中得到了描述。在此提及该专利申请，作为参考。8400845号荷兰专利申请描述了适合的衰减元件的各种实施方案。8400845号荷兰专利申请所描述的衰减方法中，多数是基于采用X射线衰减材料制成的、或是涂有这种材料的并列的分立元件;在适当的控制信号的控制下，每个元件可以至少部分移至穿过、或者将要穿过狭缝光阑的X射线中，并且，这种移动可大可小，以便能局部衰减X射线。
若使用这种分立元件，会出现这样的危险，即在控制信号的影响下，元件会进入一种以很不希望的方式振动的状态，或者当这种状态改变时，元件会偏离它们的位置。因此，需要有一种阻尼装置，以抑制分立衰减元件的振动或滑动。
本发明的一个目的就是要满足这种需要。为此目的，根据本发明，上述类型装置的特征在于，每个可控衰减元件都附加有一个阻尼件。
下面将参照附图，对根据本发明的装置的几个实施方案予以描述。在附图中，图1显示了根据本发明的装置的第一实施方案;
图2是根据本发明的装置的侧面图;
图3是沿图2中Ⅲ-Ⅲ线所得的截面图;
图4显示的是根据本发明的装置的第三实施方案。
图1A为一个截面图，显示的是带有狭缝S的狭缝光阑1;来自以狭缝X射线照相术中常规方式工作的X射线源2的、基本上是平面的扇形X射线束B穿过狭缝S。
细长的衰减元件3的自由端在操作中或多或少地伸入X射线束B中，衰减元件3与多个并列的类似衰减元件相联。在没有示出的控制装置的影响下，每个衰减元件在操作中能按照箭头4所指方向，相对于固定支点5做旋转运动。适宜的控制装置在正在审理的8400845号荷兰专利申请中得到了描述。所述的控制装置不构成本发明的一部分，故在此不予以进一步的描述。
在图1所示的实施方案中，每个衰减元件包括连杆6，连杆6大致垂直延伸至衰减元件的纵向。所述连杆6远离衰减元件的一端与置于圆筒8中的活塞7相连。所述圆筒以已知方式充有一种液体，如油，以便在某种程度上对活塞在圆筒中的运动加以制动，从而避免衰减元件的振动或滑动。
图1B显示的是用于滑板状衰减元件3′的类似的阻尼件。以下将要描述的本发明的实施方案，既可用于滑板状衰减元件，又可用于旋转型细长衰减元件。
在图2和图3所示的本发明实施方案中，每个衰减元件包括一个叶片9，叶片9伸至装有适当液体10的容器11中。可以用油、乙醇或水作为阻尼液体。
叶片是用刚性材料制成的，并且可以被制成是带波纹的，如线9a所示。叶片可以被胶合在衰减元件上，最好叶片是用合成塑料材料制成的。叶片也可通过连杆而与衰减元件相连。这种实施方案尤其适用于滑板状衰减元件。容器11可以用任何适合的材料制成。图3是图2的正面图，其中略去了容器11的前壁。每个衰减元件3a-3f都配置有伸至容器11中的液体10里的叶片9a-9f。
为了避免在相联的衰减元件的运动中叶片相互影响，最好在容器中设置平行的隔离件12-16，以便每个叶片伸向容器中各自的仓内。
而且，隔离件12-16还增强了阻尼效应。
阻尼的程度可受容器中所选液体的粘度、容器中液位的高度、以及叶片的形状所影响。需要的话，容器中可充有多层溶和性极差的不同的液体。
图4为图2和图3的变异，其中，每个叶片都是用合成塑料材料制成的，并且，在每个叶片的两边部分地置有一层导电材料17a-17d。为了清楚起见，本图只示出了两个带叶片的衰减元件。在导电材料层附近，容器11两边的磁极N和S产生了一个非均匀磁场，磁场方向垂直于所述的叶片。一旦所述导电材料层17a-17d相对磁场运动时，在导电材料层17a-17d中产生的涡流损耗便使阻尼得以实现(傅科效应Foucault effect)。
在这种情况下，最好采用铜制成容器11。
利用涡流损耗的阻尼方法可单独使用，或者，如图4所示，与同样具有阻尼效应的装有液体的容器结合使用。
可以看出，在上述实施方案之外，本技术领域：
中的技术人员可随意做出各种变更。例如，可以使衰减元件带有导电金属叶片，其中，涡流损耗在非均匀磁场的影响下产生。在这种情况下，导电层17可以从图4所示的实施方案中略去。
也可以使用非导电材料制成的叶片，只在其一边上设置一个导电层。这些改动仍被视为不超出本发明的范围。
权利要求
1.一种狭缝X射线照相装置，特征在于该装置包括与狭缝光阑共同工作的分立、可控衰减元件，每个衰减元件附加有阻尼装置。
2.如权利要求
1所述的装置，特征在于每个可控衰减元件通过连接装置而与装有液体的圆筒中的活塞相连。
3.如权利要求
1所述的装置，特征在于每个可控衰减元件包括伸进装有液体的容器中的叶片。
4.如权利要求
3所述的装置，特征在于叶片可被制成带有皱纹。
5.如权利要求
3所述的装置，特征在于每个容器包括形成并列仓的隔离件，衰减元件的叶片伸向每个仓中。
6.如权利要求
5所述的装置，特征在于每个叶片至少在其一边的一部分带有导电材料，并且设置了用于产生方向垂直于叶片的非均匀磁场的装置。
7.如权利要求
6所述的装置，特征在于叶片是用导电材料制成的，并且设置了用于产生方向垂直于叶片的非均匀磁场的装置。
8.如权利要求
1所述的装置，特征在于每个衰减元件具有非导电材料制成的叶片，至少在叶片的一边部分地置有导电材料层，并且设置了产生方向垂直于叶片的非均匀磁场的装置。
9.如权利要求
1所述的装置，特征在于每个衰减元件具有导电材料制成的叶片，并且设置了产生方向垂直于叶片的非均匀磁场的装置。
专利摘要
狭缝X射线照相装置，包括与狭缝光阑共同工作的分立、可控衰减元件，每个衰减元件附加有阻尼装置。
文档编号G21K1/02GK85106432SQ85106432
公开日1987年3月18日 申请日期1985年8月27日
发明者雨果·夫拉斯布劳姆, 西蒙·杜英克 申请人:老代尔夫特光学工业有限公司导出引文BiBTeX, EndNote, RefMan