圆环片铬版曝光治具及曝光方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及铬版曝光技术领域，尤其涉及一种圆环片铬版曝光治具及曝光方法。
【背景技术】
[0002]掩膜版制作方法是在以苏打玻璃或石英玻璃为基材的上表面依次镀铬(Cr遮光层)、氧化铬(CrO层)，感光胶(Resist光阻层)形成的掩膜版原材，使用软件控制曝光装置对掩膜版原材进行电子束曝光或激光曝光，再通过化学制程，即通过化学药液对感光胶及部分铬层去除从而形成设计者所需的图形图案，将图形图案铬印在玻璃基版上即成为光电行业用掩膜版。
[0003]随着光电产业的高速发展，掩膜版应用也随之扩大，目前掩膜版在TP、LED、IC等制造行业中应用广泛，也是各行业必不可少的重要模具之一。显示技术的发展，对掩膜版产品的精度要求也在提尚。
[0004]在铬版具体应用时，时常会用到呈圆环片状的铬版，而针对这种圆环片铬版的传统制作方法是:先将设计好的环形图案曝光在铬版原材上，通过化学制程制作出想要的图形设计铬版，经过内外圆切割制得圆环片铬版。
[0005]以上这种传统的圆环片铬版制作方法主要具有以下缺点:1)、切割圆环片内外圆切割设备精度控制要求极高，内环外环同心度±0.5mm ;2)、切割崩边控制难度大，且边缘Imm为图形设计区域；3)、用曝光后制作完成的铬版做切割原材，报废成本极大等。
【发明内容】
[0006]本发明实施例所要解决的技术问题在于，提供一种圆环片铬版曝光治具，以改变传统制作方法中铬版报废成本高，切割良率低的缺陷。
[0007]本发明实施例进一步所要解决的技术问题在于，提供一种圆环片铬版曝光方法，以改变传统制作方法中铬版报废成本高，切割良率低的缺陷。
[0008]为了解决上述技术问题，本发明提供如下技术方案:一种圆环片铬版曝光治具，包括基板，所述基板上开设有贯穿基板的阶梯槽孔，所述阶梯槽孔包括靠基板第一侧表面用于定位母版的第一定位槽和靠基板第二侧表面用于定位待曝光的子版的第二定位槽，所述第一定位槽和第二定位槽均是横截面为正方形的槽孔并共轴心设置，第二定位槽的槽宽大于第一定位槽的槽宽，第一定位槽的槽深和槽宽分别与母版的厚度和直径相匹配，第二定位槽的槽宽与子版的直径相匹配。
[0009]进一步地，所述阶梯槽孔的至少一槽壁上还设置有与阶梯槽孔贯通以方便取放铬版的耳孔。
[0010]进一步地，所述耳孔有两个，并分别设置于阶梯槽孔的相对两槽壁上并相互正对。
[0011]进一步地，所述基板上在第二定位槽的外围还对称设置有若干个用于与相应曝光平台上的定位孔对应配合以将基板定位于曝光平台上的定位孔。
[0012]进一步地，所述第一定位槽的四角处分别设有防止子版崩角的过渡圆孔。
[0013]另一方面，本发明还提供一种圆环片铬版曝光方法，其包括如下步骤:
定位治具步骤，将如上任一项所述的曝光治具以第一定位槽位于下方的方式定位于相应的曝光平台上；
定位母版步骤，将已光刻好的母版以膜面朝上的方式放置于第一定位槽内；
定位子版步骤，将需要光刻曝光的子版按膜面朝下的方式放置于第二定位槽内；
曝光步骤，设定好曝光参数，然后进行曝光处理。
[0014]本发明实施例的有益效果是:本发明采用同轴心设置且正方形横截面的第一定位槽和第二定位槽构成阶梯槽孔，可很好地保证母版和子版的同心度，制得的铬版同心度精度高，质量稳定可靠，有效解决了传统方法存在的报废成本高，切割良率低的缺陷，大大降低制作成本，而且操作方便，降低工人的劳动强度；此外，母版和待曝光的子版分别放置在第一定位槽和第二定位槽内，可保证曝光的无缝接触式曝光，保证无漏光现象，可有效提高复制版精度。本发明可广泛应用于PCB、LCD、TP等液晶显示面板的相关光罩加工行业中。
【附图说明】
[0015]图1是本发明圆环片铬版曝光治具的俯视示意图。
[0016]图2是本发明圆环片铬版曝光治具的剖面图。
【具体实施方式】
[0017]需要说明的是，在不冲突的情况下，本申请中的实施例及实施例中的特征可以相互结合，下面结合附图和具体实施例对本发明作进一步详细说明。
[0018]请参考图1及图2，本发明实施例提供一种圆环片铬版曝光治具，包括基板6，所述基板6上开设有贯穿基板6的阶梯槽孔，所述阶梯槽孔6包括靠基板第一侧表面用于定位母版的第一定位槽4和靠基板第二侧表面用于定位待曝光的子版的第二定位槽5，所述第一定位槽4和第二定位槽5均是横截面为正方形的槽孔并共轴心设置，第二定位槽5的槽宽大于第一定位槽4的槽宽，第一定位槽4的槽深和槽宽分别与母版的厚度和直径相匹配，第二定位槽5的槽宽与子版的直径相匹配，而第二定位槽5的槽深一般无特别要求，可以大于、等于或小于子版的厚度。
[0019]为方便取放铬版，在所述阶梯槽孔的至少一槽壁上还设置有与阶梯槽孔贯通的耳孔3，通常是在阶梯槽孔的相对两槽壁上并相互正对地设置有两个耳孔3，耳孔的位置偏离槽壁的中点位置，从而在放置母版和子版时，耳孔3不会破坏槽壁对母版和子版的限位作用。由于设置有耳孔3，在取放铬版时，手指或对应的夹具可伸入耳孔3内，操作上更方便。
[0020]为了更快速地将本发明曝光治具定位于曝光设备相应的曝光平台上，所述基板6上在第二定位槽5的外围还对称设置有若干个用于与相应曝光平台上的定位孔对应配合以将基板6定位于曝光平台上的定位孔I。
[0021]所述第一定位槽5的四角处分别设有过渡圆孔2来衔接相邻的两槽壁，可以有效避免子版发生崩角现象。
[0022]另一方面，本发明还提供一种圆环片铬版曝光方法，其包括如下步骤:
定位治具步骤，将上述的曝光治具以第一定位槽4位于下方的方式定位于相应的曝光平台上，在具体实施时，可以将所述铬版曝光治具的定位孔I与曝光平台上对应的定位孔对齐，并用定位栓穿入曝光治具上的定位孔I和曝光平台上的定位孔从而固定好位置；定位母版步骤，将已光刻好的母版以膜面朝上的方式放置于第一定位槽4内；
定位子版步骤，将需要光刻曝光的子版按膜面朝下的方式放置于第二定位槽5内；
曝光步骤，设定好曝光参数，然后进行曝光处理。
[0023]本发明可以根据曝光平台的最大尺寸来设计铬版曝光治具的基板外径，进而再确定曝光铬版尺寸，可以曝光铬版尺寸可达3-9寸。
[0024]由于第一定位槽4和第二定位槽5为同轴心设置且正方形横截面的槽孔，可以很好地保证母版和待曝光的子版的同心度，加工出来的铬版同心度精度高，而且质量稳定可靠；使用定位栓将本发明圆环片铬版曝光治具定位于曝光平台上，保证铬版曝光位置精度；耳孔3的设计，能方便取放铬版，而且还能很好地保证上下板材对位精度以及减少板材之间相对滑动；母版放置于第一定位槽内，待曝光的子版放置于第二定位槽内，可保证曝光的无缝接触式曝光，保证无漏光现象，可有效提高复制版精度。
[0025]尽管已经示出和描述了本发明的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本发明的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本发明的范围由所附权利要求及其等同范围限定。
【主权项】
1.一种圆环片铬版曝光治具，其特征在于，所述治具包括基板，所述基板上开设有贯穿基板的阶梯槽孔，所述阶梯槽孔包括靠基板第一侧表面用于定位母版的第一定位槽和靠基板第二侧表面用于定位待曝光的子版的第二定位槽，所述第一定位槽和第二定位槽均是横截面为正方形的槽孔并共轴心设置，第二定位槽的槽宽大于第一定位槽的槽宽，第一定位槽的槽深和槽宽分别与母版的厚度和直径相匹配，第二定位槽的槽宽与子版的直径相匹配。2.如权利要求1所述的圆环片铬版曝光治具，其特征在于，所述阶梯槽孔的至少一槽壁上还设置有与阶梯槽孔贯通以方便取放铬版的耳孔，且耳孔的位置偏离槽壁的中点位置。3.如权利要求2所述的圆环片铬版曝光治具，其特征在于，所述耳孔有两个，并分别设置于阶梯槽孔的相对两槽壁上并相互正对。4.如权利要求1或2或3所述的圆环片铬版曝光治具，其特征在于，所述基板上在第二定位槽的外围还对称设置有若干个用于与相应曝光平台上的定位孔对应配合以将基板定位于曝光平台上的定位孔。5.如权利要求1所述的圆环片铬版曝光治具，其特征在于，所述第一定位槽的四角处分别设有防止子版崩角的过渡圆孔。6.一种圆环片铬版曝光方法，其特征在于，包括如下步骤: 定位治具步骤，将如权利要求1~5任一项所述的曝光治具以第一定位槽位于下方的方式定位于曝光设备相应的曝光平台上； 定位母版步骤，将已光刻好的母版以膜面朝上的方式放置于第一定位槽内； 定位子版步骤，将需要光刻曝光的子版按膜面朝下的方式放置于第二定位槽内； 曝光步骤，启动曝光设备，设定好曝光参数，然后进行曝光处理。
【专利摘要】本发明公开一种圆环片铬版曝光治具，包括基板，基板上开设有贯穿基板的阶梯槽孔，阶梯槽孔包括靠基板第一侧表面用于定位母版的第一定位槽和靠基板第二侧表面用于定位待曝光的子版的第二定位槽，第一定位槽和第二定位槽均是横截面为正方形的槽孔并共轴心设置，第二定位槽的槽宽大于第一定位槽的槽宽，第一定位槽的槽深和槽宽分别与母版的厚度和直径相匹配，第二定位槽的槽宽与子版的直径相匹配。本发明还提供一种圆环片铬版曝光方法。本发明采用同轴心设置且正方形横截面的第一定位槽和第二定位槽构成阶梯槽孔，很好地保证母版和子版的同心度，制得的铬版同心度精度高，质量稳定可靠，有效解决了传统方法存在的报废成本高，切割良率低的缺陷。
【IPC分类】G03F7/20
【公开号】CN105045047
【申请号】CN201510566828
【发明人】杜武兵, 林伟, 蒋凌飞
【申请人】深圳市路维光电股份有限公司
【公开日】2015年11月11日
【申请日】2015年9月7日