一种阵列基板的制备方法、显示面板及显示装置的制造方法
【专利摘要】本发明公开了一种阵列基板的制备方法、显示面板及显示装置，属于显示技术领域。本发明通过在会导致显示器出现周边发黄现象的第一阵列基板的边缘区域形成至少一个修复过孔组图案得到第二阵列基板，将第二阵列基板上的全部或部分修复过孔组图案中的每个修复过孔组图案包括的至少两个虚化过孔图案形成一个隔垫单元容腔图案，得到第三阵列基板，将第三阵列基板上的每个隔垫单元容腔图案蚀刻成一个隔垫单元容腔，得到第四阵列基板，使得将第四阵列基板应用于液晶盒时，与每个隔垫单元容腔图案对应的隔垫单元失去在第四阵列基板上的着力点而无法支撑第四阵列基板，从而减小液晶盒边缘区域的厚度，避免显示器出现周边发黄的现象。
【专利说明】
一种阵列基板的制备方法、显示面板及显示装置
技术领域
[0001]本发明涉及显示技术领域，特别涉及一种阵列基板的制备方法、显示面板及显示
目.0
【背景技术】
[0002]IXD因具有轻、薄、功耗低、亮度高以及画质高等优点，在平板显示领域占据了重要的地位。其中，LCD的液晶盒包括阵列基板、彩膜基板和液晶，通过阵列基板和彩膜基板对盒而将液晶封装在阵列基板和彩膜基板之间形成液晶盒。
[0003]在目前的液晶盒中，彩膜基板上形成有多个隔垫单元，每个隔垫单元远离彩膜基板的一端均顶在阵列基板上，液晶填充在多个隔垫单元之间，通过隔垫单元支撑阵列基板和彩膜基板，以保持阵列基板和彩膜基板之间存在一定距离。
[0004]在实现本发明的过程中，发明人发现现有技术至少存在以下问题:
[0005]在设计过程中，可能会出现彩膜基板边缘区域的隔垫单元的密度偏高的情形，在阵列基板和彩膜基板对盒后，容易造成在液晶盒的边缘区域，阵列基板与彩膜基板之间的距离大于在液晶盒的中部区域的阵列基板与彩膜基板之间的距离，导致背光源的光线透过液晶盒时经过不同位置的光程差不同，出现显示器周边发黄的现象。
【发明内容】
[0006]为了解决现有技术中由于彩膜基板边缘区域的隔垫单元的密度偏高，导致在阵列基板和彩膜基板对盒后，背光源的光线透过液晶盒时经过不同位置的光程差不同，出现显示器周边发黄的现象的问题，本发明实施例提供了一种阵列基板的制备方法、显示面板及显示装置。所述技术方案如下:
[0007]第一方面，提供了一种阵列基板的制备方法，所述阵列基板的制备方法包括:
[0008]形成第一阵列基板；
[0009]在所述第一阵列基板出光侧的边缘区域形成至少一个修复过孔组图案得到第二阵列基板，每个修复过孔组图案包括至少两个虚化过孔图案；
[0010]将所述第二阵列基板上的全部或部分修复过孔组图案中的每个修复过孔组图案包括的至少两个虚化过孔图案形成一个隔垫单元容腔图案，得到第三阵列基板，每个隔垫单元容腔图案分别与彩膜基板上的一个隔垫单元对应，每个隔垫单元在所述第三阵列基板上的投影区域位于其对应的隔垫单元容腔图案内；
[0011]将所述第三阵列基板上的每个隔垫单元容腔图案蚀刻成一个隔垫单元容腔，得到第四阵列基板。
[0012]进一步地，所述将所述第二阵列基板上的全部或部分修复过孔组图案中的每个修复过孔组图案包括的至少两个虚化过孔图案形成一个隔垫单元容腔图案，得到第三阵列基板之前，还包括:
[0013]将所述第二阵列基板上的每个修复过孔组图案蚀刻成修复过孔组，得到第五阵列基板，每个修复过孔组包括至少两个虚化过孔；
[0014]如果所述第五阵列基板能够导致显示器出现周边发黄现象，则执行所述将所述第二阵列基板上的全部或出现周边发黄区域的修复过孔组图案中的每个修复过孔组图案包括的至少两个虚化过孔图案形成一个隔垫单元容腔图案，得到第三阵列基板的步骤。
[0015]进一步地，所述将所述第二阵列基板上的全部或部分修复过孔组图案中的每个修复过孔组图案蚀刻成修复过孔组，得到第五阵列基板之后，还包括:
[0016]形成一组显示器，所述一组显示器中的每个显示器包括所述第五阵列基板；
[0017]如果所述一组显示器中出现周边发黄的显示器数目达到预设阈值，则确定所述第五阵列基板能够导致显示器出现周边发黄现象。
[0018]具体地，所述第五阵列基板上的每个修复过孔组对应所述彩膜基板上的一个隔垫单元，每个隔垫单元与其对应的修复过孔组接触。
[0019]具体地，所述至少两个虚化过孔中的相邻两个虚化过孔之间的距离为3到3.5微米。
[0020]具体地，所述相邻两个虚化过孔之间的距离为3微米。
[0021]具体地，所述在所述第一阵列基板出光侧的边缘区域形成至少一个修复过孔组图案得到第二阵列基板，包括:
[0022]使用光照掩膜板，按照第一曝光量对涂有光刻胶的第一阵列基板进行光照处理，以在所述第一阵列基板的边缘区域形成至少一个修复过孔组图案得到第二阵列基板。
[0023]具体地，所述将所述第二阵列基板上的全部或部分修复过孔组图案中的每个修复过孔组图案包括的至少两个虚化过孔图案形成一个隔垫单元容腔图案，得到第三阵列基板，包括:
[0024]使用所述光照掩膜板，按照第二曝光量对所述第二阵列基板进行光照处理，以将所述第二阵列基板上的全部或部分修复过孔组中的每个修复过孔组图案包括的至少两个虚化过孔图案形成一个隔垫单元容腔图案，得到第三阵列基板，所述第二曝光量大于所述第一曝光量。
[0025]具体地，所述将所述第三阵列基板上的每个隔垫单元容腔图案蚀刻成一个隔垫单元容腔，包括:将所述第三阵列基板上的每个隔垫单元容腔图案在其有机膜层上蚀刻成一个隔垫单元容腔，得到第四阵列基板。
[0026]第二方面，提供了一种显示面板，所述显示面板包括按照所述阵列基板的制备方法制备的阵列基板。
[0027]第三方面，提供了一种显示装置，所述显示装置包括所述显示面板。
[0028]本发明实施例提供的技术方案带来的有益效果是:
[0029]本发明通过在会导致显示器出现周边发黄现象的第一阵列基板的边缘区域形成至少一个修复过孔组图案得到第二阵列基板，将第二阵列基板上的全部或部分修复过孔组图案中的每个修复过孔组图案包括的至少两个虚化过孔图案形成一个隔垫单元容腔图案，得到第三阵列基板，将第三阵列基板上的每个隔垫单元容腔图案蚀刻成一个隔垫单元容腔，得到第四阵列基板，第四阵列基板的边缘区域上形成至少一个隔垫单元容腔，由于每个隔垫单元容腔图案分别与彩膜基板上的一个隔垫单元对应，每个隔垫单元在第三阵列基板上的投影区域位于其对应的隔垫单元容腔图案内，使得将第四阵列基板应用于液晶盒时，与每个隔垫单元容腔图案对应的隔垫单元失去在第四阵列基板上的着力点而无法支撑第四阵列基板，从而减小液晶盒边缘区域的厚度，避免显示器出现周边发黄的现象。
【附图说明】
[0030]为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0031 ]图1是本发明一实施例提供的阵列基板的制备方法的流程图；
[0032]图2是本发明又一实施例提供的第一阵列基板的结构示意图；
[0033]图3是本发明又一实施例提供的第四阵列基板的结构示意图；
[0034]图4是本发明又一实施例提供的第四阵列基板的使用状态示意图；
[0035]图5是本发明又一实施例提供的阵列基板的制备方法的流程图；
[0036]图6是本发明又一实施例提供的第五阵列基板的结构示意图；
[0037]图7是本发明又一实施例提供的第五阵列基板的结构示意图；
[0038]图8是本发明又一实施例提供的第五阵列基板的使用状态示意图。
[0039]其中:
[0040]I第一阵列基板，
[0041 ]11衬底基板，12薄膜晶体管层，13钝化层，14有机膜层，
[0042]2第四阵列基板，
[0043]21隔垫单元容腔，
[0044]3第五阵列基板，
[0045]31修复过孔组，311虚化过孔，
[0046]4彩膜基板，
[0047]5隔垫单元。
【具体实施方式】
[0048]为使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图对本发明实施方式作进一步地详细描述。
[0049]在本发明实施例描述中所述的出光侧，均是指靠近显示器的显示屏而背离背光模块的一侧，边缘区域是指显示面板上位于显示区域周边的非显示区域。
[0050]实施例一
[0051]如图1所示，本发明实施例提供了一种阵列基板的制备方法，该阵列基板的制备方法包括:
[0052]在步骤101中，形成第一阵列基板；
[0053]如图2所示，在本发明实施例中，第一阵列基板I包括衬底基板11、薄膜晶体管层
12、像素电极(图中未示出)、钝化层13和有机膜层14，薄膜晶体管层12形成在衬底基板11的出光侧，像素电极形成在薄膜晶体管层12的薄膜晶体管之间，钝化层13形成在薄膜晶体管层12的出光侧且覆盖薄膜晶体管层12，有机膜层14覆盖在钝化层13的出光侧，通过薄膜晶体管层12中的薄膜晶体管控制使用该第一阵列基板I的液晶盒内的液晶分子偏转。
[0054]在步骤102中，在第一阵列基板出光侧的边缘区域形成至少一个修复过孔组图案得到第二阵列基板，每个修复过孔组图案包括至少两个虚化过孔图案。
[0055]在本发明实施例中，在第一阵列基板的出光侧的边缘区域形成至少一个修复过孔组图案具体为:使用光照掩膜板，按照第一曝光量对涂有光刻胶的第一阵列基板进行光照处理，以在第一阵列基板的边缘区域形成至少一个修复过孔组图案得到第二阵列基板。更具体地，在第一阵列基板上的有机膜层上涂光刻胶，形成光阻层，光照掩膜板上设有修复过孔组图案，将光照掩膜板置于光阻层的出光侧，按照第一曝光量对第一阵列基板进行曝光，形成第二阵列基板。
[0056]在步骤103中，将第二阵列基板上的全部或部分修复过孔组图案中的每个修复过孔组图案包括的至少两个虚化过孔图案形成一个隔垫单元容腔图案，得到第三阵列基板，每个隔垫单元容腔图案分别与彩膜基板上的一个隔垫单元对应，每个隔垫单元在第三阵列基板上的投影区域位于其对应的隔垫单元容腔图案内。
[0057]在本发明实施例中，将第二阵列基板上的全部或部分修复过孔组图案中的每个修复过孔组图案包括的至少两个虚化过孔图案形成一个隔垫单元容腔图案，得到第三阵列基板具体为:使用光照掩膜板，按照第二曝光量对第二阵列基板进行光照处理，以将第二阵列基板上的全部或部分修复过孔组图案中的每个修复过孔组图案包括的至少两个虚化过孔图案形成一个隔垫单元容腔图案，得到第三阵列基板，第二曝光量大于第一曝光量。更具体地，保持光照掩膜板位于第二阵列基板上，按照第二曝光量对第二阵列基板进行曝光，第二阵列基板上的全部或部分修复过孔组图案中的每个修复过孔组图案中包括的至少两个虚化过孔图案连成一个隔垫单元容腔图案。
[0058]在步骤104中，将第三阵列基板上的每个隔垫单元容腔图案蚀刻成一个隔垫单元容腔，得到第四阵列基板。
[0059]在本发明实施例中，将第三阵列基板上的每个隔垫单元容腔图案蚀刻成一个隔垫单元容腔，得到第四阵列基板具体为:将第三阵列基板上的每个隔垫单元容腔图案在其有机膜层上蚀刻成一个隔垫单元容腔，得到第四阵列基板。更具体地，在对第三阵列基板进行显影操作后，通过蚀刻使得第三阵列基板的周边区域形成至少一个隔垫单元容腔，得到第四阵列基板，其中，第四阵列基板的结构示意图如图3所示，结合图4进行说明，至少一个隔垫单元容腔21形成在第四阵列基板2的有机膜层14上，其中，至少一个隔垫单元容腔21中的每个隔垫单元容腔21与彩膜基板4上的一个隔垫单元5对应，与隔垫单元容腔21对应的隔垫单元5在第四阵列基板2上的投影位于隔垫单元容腔21中，使用本发明实施例提供的第四阵列基板2时，由于隔垫单元容腔21的存在，与隔垫单元容腔21对应的隔垫单元5在第四阵列基板2上失去着力点而悬空于隔垫单元容腔21的出光侧，无法支撑第四阵列基板2，从而减小第四阵列基板2与彩膜基板3之间的距离。
[0060]本发明通过在会导致显示器出现周边发黄现象的第一阵列基板的边缘区域形成至少一个修复过孔组图案得到第二阵列基板，将第二阵列基板上的全部或部分修复过孔组图案中的每个修复过孔组图案包括的至少两个虚化过孔图案形成一个隔垫单元容腔图案，得到第三阵列基板，将第三阵列基板上的每个隔垫单元容腔图案蚀刻成一个隔垫单元容腔，得到第四阵列基板，第四阵列基板的边缘区域上形成至少一个隔垫单元容腔，由于每个隔垫单元容腔图案分别与彩膜基板上的一个隔垫单元对应，每个隔垫单元在第三阵列基板上的投影区域位于其对应的隔垫单元容腔图案内，使得将第四阵列基板应用于液晶盒时，与每个隔垫单元容腔图案对应的隔垫单元失去在第四阵列基板上的着力点而无法支撑第四阵列基板，从而减小液晶盒边缘区域的厚度，避免显示器出现周边发黄的现象。
[0061 ] 实施例二
[0062]如图5所示，本发明实施例提供了一种阵列基板的制备方法，该方法包括:
[0063]在步骤201中，形成第一阵列基板。
[0064]如图2所示，在本发明实施例中，第一阵列基板I包括衬底基板11、薄膜晶体管层
12、像素电极(图中未示出)、钝化层13和有机膜层14，薄膜晶体管层12形成在衬底基板11的出光侧，像素电极形成在薄膜晶体管层12的薄膜晶体管之间，钝化层13形成在薄膜晶体管层12的出光侧且覆盖薄膜晶体管层12，有机膜层14覆盖在钝化层13的出光侧，通过薄膜晶体管层12中的薄膜晶体管控制使用该第一阵列基板I的液晶盒内的液晶分子偏转。
[0065]在步骤202中，在第一阵列基板出光侧的边缘区域形成至少一个修复过孔组图案，得到第二阵列基板，每个修复过孔组图案包括至少两个虚化过孔图案。
[0066]在本发明实施例中，在第一阵列基板的出光侧的边缘区域形成至少一个修复过孔组图案具体为，在第一阵列基板的出光侧形成一层有机膜，并在该阵列基板的有机膜层上涂光刻胶，形成光阻层，将设有修复过孔组图案的光照掩膜板置于光阻层的出光侧，按照第一曝光量对第一阵列基板进行曝光，形成第二阵列基板。
[0067]在步骤203中，将第二阵列基板上的全部或部分修复过孔组图案中的每个修复过孔组图案蚀刻成修复过孔组，得到第五阵列基板，每个修复过孔组包括至少两个虚化过孔。
[0068]如图6所示，且结合图7和图8进行说明，在本发明实施例中，对第二阵列基板进行显影和蚀刻操作，得到第五阵列基板3，第五阵列基板3的边缘区域形成有至少一个修复过孔组31，至少一个修复过孔组31中的每个修复过孔组31包括至少两个虚化过孔311。将第五阵列基板3应用于显示器时，第五阵列基板3上的每个修复过孔组31对应彩膜基板4上的一个隔垫单元5，每个隔垫单元5与其对应的修复过孔组31接触。
[0069]具体地，彩膜基板4上的隔垫单元5通常为圆柱形结构，在本发明实施例中，每个修复过孔组31包括的至少两个虚化过孔311中的每个虚化过孔311均为直径小于与该修复过孔组31对应的隔垫单元5的直径的圆孔，每个修复过孔组31包括的至少两个虚化过孔311中的任意两个虚化过孔311之间的间隔与其对应的隔垫单元5接触，也即每个修复过孔组31包括的至少两个虚化过孔311均与其对应的隔垫单元5接触，以使该隔垫单元5可以支撑第五阵列基板3，也即第五阵列基板3与彩膜基板4对盒后，隔垫单元5可以以虚化过孔311之间的间隔为支撑，保持第五阵列基板3和彩膜基板4之间的距离。
[0070]当然，本领域技术人员可知，隔垫单元5的横截面形状也可为方形、三角形等其他多边形或椭圆形，且每个修复过孔组31包括的至少两个虚化过孔311的横截面尺寸的大小以与该修复过孔组31对应的隔垫单元5在第五阵列基板3上的投影位于该修复过孔组31包括的所有虚化过孔311上为准，保证每个修复过孔组31包括的至少两个虚化过孔311均与其对应的隔垫单元5接触。
[0071]在本发明实施例中，优选地，每个修复过孔组31包括的至少两个虚化过孔311中的相邻两个虚化过孔311之间的距离为3到3.5微米，避免在第一曝光量下相邻两个虚化过孔图案连通，优选地，相邻两个虚化过孔311之间的距离为3微米。且在本发明实施例中，相邻两个修复过孔组31之间的距离大于每组修复过孔组31中的任意两个相邻的虚化过孔311之间的距离，避免在曝光过程中相邻两个修复过孔组31之间发生影响。
[0072]当然，本领域技术人员可知，由于边缘区域的阵列基板和彩膜基板4之间的距离与显示器出现周边发黄现象的严重程度息息相关，故在本申请中，至少一个修复过孔组31也可分为N(N= 2,3,4,……)次曝光组，每次曝光组包括至少一个修复过孔组31，且第N次曝光组包括的修复过孔组31中的每个修复过孔组31的相邻两个虚化过孔311之间的距离大于第N-1次曝光组包括的修复过孔组31中的每个修复过孔组31的相邻两个虚化过孔311之间的距离，如N等于3，第一次曝光组包括的至少一个修复过孔组31中的每个修复过孔组31的相邻两个虚化过孔311之间的距离为3微米，第二次曝光组包括的至少一个修复过孔组31中的每个修复过孔组31的相邻两个虚化过孔311之间的距离为3.2微米，第三次曝光组包括的至少一个修复过孔组31中的每个修复过孔组31的相邻两个虚化过孔311之间的距离为3.4微米。第一次曝光组包括的至少一个修复过孔组31的图案在第二曝光量下形成隔垫单元容腔图案，第二次曝光组和第三次曝光组包括的修复过孔组的图案在高于第二曝光量的曝光量下形成隔垫单元容腔图案，工作人员可根据第五阵列基板3应用于显示器出现周边发黄现象的严重程度选择按第一次曝光组、第二次曝光组或第三次曝光组需要的曝光量进行曝光，当按第三次曝光组需要的曝光量进行曝光时，第一次曝光组、第二次曝光组和第三次曝光组包括的修复过孔组的图案均形成隔垫单元容腔图案，也即第二阵列基板上的全部修复过孔组图案中的每个修复过孔组图案包括的至少两个虚化过孔图案均形成隔垫单元容腔图案，当按第二次曝光组需要的曝光量进行曝光时，第一次曝光组和第二次曝光组包括的修复过孔组图案中的每个修复过孔组图案包括的至少两个虚化过孔图案均形成隔垫单元容腔图案，但第三次曝光组包括的修复过孔组图案中的每个修复过孔组图案包括的至少两个虚化过孔图案不会形成隔垫单元容腔图案，当按照第一次曝光组需要的曝光量进行曝光时，第一次曝光组包括的修复过孔组图案中的每个修复过孔组图案包括的至少两个虚化过孔图案形成隔垫单元容腔图案，但第二次曝光组和第三次曝光组包括的修复过孔组图案中的每个修复过孔组图案包括的至少两个虚化过孔图案不会形成隔垫单元容腔图案，按第二次曝光组需要的曝光量和第一次曝光组需要的曝光量进行曝光也即使第二阵列基板上的部分修复过孔组图案中的每个修复过孔组图案包括的至少两个虚化过孔图案形成一个隔垫单元容腔图案，得到第三阵列基板的情形。
[0073]当然，本领域技术人员可知，对第二阵列基板上的部分修复过孔组图案中的每个修复过孔组图案包括的至少两个虚化过孔图案形成一个隔垫单元容腔图案，得到第三阵列基板也可以为，通过使用光照掩膜板以使部分修复过孔组图案中的每个修复过孔组图案包括的至少两个虚化过孔图案形成一个隔垫单元容腔图案，得到第三阵列基板。
[0074]在步骤204中，形成一组显示器，一组显示器中的每个显示器均包括第五阵列基板。
[0075]在本发明实施例中，由于阵列基板和彩膜基板一旦对盒完成，阵列基板和彩膜基板的结构都无法改变，而在显示器生产完成投入检测之前，本领域技术人员无法得知依据某一设计图纸生产出的显示器是否会出现周边发黄的现象。故在本发明实施例中，通过先生产一组包括第五阵列基板的显示器来判断第五阵列基板是否会导致显示器出现周边发黄的现象，而后以第五阵列基板的设计为基础，通过调节曝光过程中的曝光量以实现对阵列基板的结构的改进，操作简单，且生产成本较低。
[0076]在步骤205中，根据一组显示器中出现周边发黄的显示器数目是否达到预设阈值，判断第五阵列基板是否能够导致显示器出现周边发黄现象；
[0077]如果是，则执行步骤206;
[0078]如果不是，则不再执行步骤206，该第五阵列基板可以直接用于显示器。
[0079]在本发明实施例中，本领域技术人员可以理解，当显示器出现周边发黄的现象是由阵列基板导致时，出现周边发黄现象的概率可达百分之百，但阵列基板与彩膜基板对盒过程中，工作人员的操作失误也可能改变边缘区域的阵列基板与彩膜基板之间的距离，为避免因出现周边发黄现象的数量不达百分之百而判断错误，在本发明实施例中，通过一组显示器中出现周边发黄现象的数量来判断第五阵列基板是否会导致显示器出现周边发黄的现象。如，一组显示器的数量为10台，若出现周边发黄现象的显示器的数量大于8台，即可判断出该第五阵列基板会导致显示器出现周边发黄现象，其中，预设阈值的大小可根据工作人员加工产品的产品良率来确定。
[0080]本发明通过在形成第三阵列基板之前，先判断第五阵列基板是否会导致显示器出现周边发黄的现象，如果第五阵列基板不会导致显示器出现周边发黄的现象，则在后续生产的显示器中可直接使用第五阵列基板，如果第五阵列基板会导致显示器出现周边发黄的现象，则在后续生产的显示器中不能继续使用第五阵列基板，而需要对第二阵列基板进行改进，以保证显示器能正常显示，避免在第五阵列基板不会导致显示器出现周边发黄现象的前提下开发第四阵列基板，画蛇添足，浪费人力物力。且根据出现周边发黄现象的显示器的数量判断第五阵列基板是否会导致显示器出现周边发黄的现象，判断结果较为准确。
[0081]在步骤206中，将第二阵列基板上的每个修复过孔组图案包括的至少两个虚化过孔图案形成一个隔垫单元容腔图案，得到第三阵列基板，每个隔垫单元容腔图案分别与彩膜基板上的一个隔垫单元对应，每个隔垫单元在第三阵列基板上的投影区域位于其对应的隔垫单元容腔图案内。
[0082]在本发明实施例中，将第二阵列基板上的每个修复过孔组图案包括的至少两个虚化过孔图案形成一个隔垫单元容腔图案，得到第三阵列基板具体为:保持光照掩膜板位于第二阵列基板上，按照第二曝光量对第二阵列基板进行曝光，第二曝光量大于第一曝光量，第二阵列基板上的每个修复过孔组图案中包括的至少两个虚化过孔图案连成一个隔垫单元容腔图案。
[0083]本发明通过同一块光照掩膜板形成第二阵列基板和第三阵列基板，通过调节曝光量以改变形成在阵列基板上的图案，操作简单，大大降低生产成本。
[0084]在步骤207中，将第三阵列基板上的每个隔垫单元容腔图案蚀刻成一个隔垫单元容腔，得到第四阵列基板。
[0085]在本发明实施例中，将第三阵列基板上的每个隔垫单元容腔图案蚀刻成一个隔垫单元容腔，得到第四阵列基板具体为:在对第三阵列基板进行显影操作后，通过蚀刻使得第三阵列基板的周边区域形成至少一个隔垫单元容腔，得到第四阵列基板。
[0086]其中，第四阵列基板的结构示意图3所示，结合图4进行说明，其中，第四阵列基板2的结构示意图如图3所示，结合图4进行说明，至少一个隔垫单元容腔21形成在第四阵列基板2的有机膜层14上，其中，至少一个隔垫单元容腔21中的每个隔垫单元容腔21与彩膜基板4上的一个隔垫单元5对应，与隔垫单元容腔21对应的隔垫单元5在第四阵列基板2上的投影位于隔垫单元容腔21中，使用本发明实施例提供的第四阵列基板2时，由于隔垫单元容腔21的存在，与隔垫单元容腔21对应的隔垫单元5在第四阵列基板2上失去着力点而悬空于隔垫单元容腔21的出光侧，无法支撑第四阵列基板2，从而减小第四阵列基板2与彩膜基板3之间的距离。
[0087]其中，本领域技术人员可以理解，在可以支撑第四阵列基板2的隔垫单元5的密度越高的位置，第四阵列基板2与彩膜基板4之间的距离越大，为了保证在各个位置处第四阵列基板2与彩膜基板4之间的距离一致，隔垫单元容腔21沿第四阵列基板2的边缘区域均匀分布O
[0088]当然，本领域技术人员可以理解，在有机膜层14的出光侧也形成有钝化层13，且钝化层13覆盖有机膜层14和隔垫单元容腔21的内壁。
[0089]实施例三
[0090]本发明实施例提供了一种显示面板，该显示面板包括通过实施例一或实施例二中所述的阵列基板的制备方法制备的阵列基板。
[0091]本发明通过在会导致显示器出现周边发黄现象的第一阵列基板的边缘区域形成至少一个修复过孔组图案得到第二阵列基板，将第二阵列基板上的全部或部分修复过孔组图案中的每个修复过孔组图案包括的至少两个虚化过孔图案形成一个隔垫单元容腔图案，得到第三阵列基板，将第三阵列基板上的每个隔垫单元容腔图案蚀刻成一个隔垫单元容腔，得到第四阵列基板，第四阵列基板的边缘区域上形成至少一个隔垫单元容腔，由于每个隔垫单元容腔图案分别与彩膜基板上的一个隔垫单元对应，每个隔垫单元在第三阵列基板上的投影区域位于其对应的隔垫单元容腔图案内，使得将第四阵列基板应用于液晶盒时，与每个隔垫单元容腔图案对应的隔垫单元失去在第四阵列基板上的着力点而无法支撑第四阵列基板，从而减小液晶盒边缘区域的厚度，避免显示器出现周边发黄的现象。
[0092]实施例四
[0093]本发明实施例提供了一种显示装置，该显示装置包括实施例三中所述的显示面板。
[0094]本发明通过在会导致显示器出现周边发黄现象的第一阵列基板的边缘区域形成至少一个修复过孔组图案得到第二阵列基板，将第二阵列基板上的全部或部分修复过孔组图案中的每个修复过孔组图案包括的至少两个虚化过孔图案形成一个隔垫单元容腔图案，得到第三阵列基板，将第三阵列基板上的每个隔垫单元容腔图案蚀刻成一个隔垫单元容腔，得到第四阵列基板，第四阵列基板的边缘区域上形成至少一个隔垫单元容腔，由于每个隔垫单元容腔图案分别与彩膜基板上的一个隔垫单元对应，每个隔垫单元在第三阵列基板上的投影区域位于其对应的隔垫单元容腔图案内，使得将第四阵列基板应用于液晶盒时，与每个隔垫单元容腔图案对应的隔垫单元失去在第四阵列基板上的着力点而无法支撑第四阵列基板，从而减小液晶盒边缘区域的厚度，避免显示器出现周边发黄的现象。
[0095]上述本发明实施例序号仅仅为了描述，不代表实施例的优劣。
[0096]以上所述仅为本发明的较佳实施例，并不用以限制本发明，凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。
【主权项】
1.一种阵列基板的制备方法，其特征在于，所述阵列基板的制备方法包括: 形成第一阵列基板； 在所述第一阵列基板出光侧的边缘区域形成至少一个修复过孔组图案得到第二阵列基板，每个修复过孔组图案包括至少两个虚化过孔图案； 将所述第二阵列基板上的全部或部分修复过孔组图案中的每个修复过孔组图案包括的至少两个虚化过孔图案形成一个隔垫单元容腔图案，得到第三阵列基板，每个隔垫单元容腔图案分别与彩膜基板上的一个隔垫单元对应，每个隔垫单元在所述第三阵列基板上的投影区域位于其对应的隔垫单元容腔图案内； 将所述第三阵列基板上的每个隔垫单元容腔图案蚀刻成一个隔垫单元容腔，得到第四阵列基板。2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述将所述第二阵列基板上的全部或部分修复过孔组图案中的每个修复过孔组图案包括的至少两个虚化过孔图案形成一个隔垫单元容腔图案，得到第三阵列基板之前，还包括: 将所述第二阵列基板上的每个修复过孔组图案蚀刻成修复过孔组，得到第五阵列基板，每个修复过孔组包括至少两个虚化过孔； 如果所述第五阵列基板能够导致显示器出现周边发黄现象，则执行所述将所述第二阵列基板上的全部或出现周边发黄区域的修复过孔组图案中的每个修复过孔组图案包括的至少两个虚化过孔图案形成一个隔垫单元容腔图案，得到第三阵列基板的步骤。3.如权利要求2所述的方法，其特征在于，所述将所述第二阵列基板上的全部或部分修复过孔组图案中的每个修复过孔组图案蚀刻成修复过孔组，得到第五阵列基板之后，还包括: 形成一组显示器，所述一组显示器中的每个显示器包括所述第五阵列基板； 如果所述一组显示器中出现周边发黄的显示器数目达到预设阈值，则确定所述第五阵列基板能够导致显示器出现周边发黄现象。4.如权利要求2所述的方法，其特征在于，所述第五阵列基板上的每个修复过孔组对应所述彩膜基板上的一个隔垫单元，每个隔垫单元与其对应的修复过孔组接触。5.如权利要求2所述的方法，其特征在于，所述至少两个虚化过孔中的相邻两个虚化过孔之间的距离为3到3.5微米。6.如权利要求5所述的方法，其特征在于，所述相邻两个虚化过孔之间的距离为3微米。7.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述在所述第一阵列基板出光侧的边 缘区域形成至少一个修复过孔组图案得到第二阵列基板，包括: 使用光照掩膜板，按照第一曝光量对涂有光刻胶的第一阵列基板进行光照处理，以在所述第一阵列基板的边缘区域形成至少一个修复过孔组图案，得到第二阵列基板。8.如权利要求7所述的方法，其特征在于，所述将所述第二阵列基板上的全部或部分修复过孔组图案中的每个修复过孔组图案包括的至少两个虚化过孔图案形成一个隔垫单元容腔图案，得到第三阵列基板，包括: 使用所述光照掩膜板，按照第二曝光量对所述第二阵列基板进行光照处理，以将所述第二阵列基板上的全部或部分修复过孔组图案中的每个修复过孔组图案包括的至少两个虚化过孔图案形成一个隔垫单元容腔图案，得到第三阵列基板，所述第二曝光量大于所述第一曝光量。9.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述将所述第三阵列基板上的每个隔垫单元容腔图案蚀刻成一个隔垫单元容腔，包括:将所述第三阵列基板上的每个隔垫单元容腔图案在其有机膜层上蚀刻成一个隔垫单元容腔，得到第四阵列基板。10.—种显示面板，其特征在于，所述显示面板包括按照权利要求1-9任一项权利要求所述的阵列基板的制备方法制备的阵列基板。11.一种显示装置，其特征在于，所述显示装置包括权利要求10所述的显示面板。
【文档编号】G02F1/1339GK105929613SQ201610534951
【公开日】2016年9月7日
【申请日】2016年7月7日
【发明人】姜文博, 薛艳娜, 王世君
【申请人】京东方科技集团股份有限公司, 北京京东方光电科技有限公司