一种具有曝光补正的光罩的制作方法
【专利摘要】本发明提供一种具有曝光补正的光罩，所述光罩包括遮光区域和被遮光区域包围的曝光区域，所述曝光区域包括补正子区域以及曝光子区域，所述补正子区域从所述曝光子区域的锐角顶点处沿两边设置。本发明通过将所述补正子区域从所述曝光子区域的锐角顶点处沿两边设置，经过锐角一边衍射的光会与锐角另一边的光发生叠加增强，从而增加光强度，增强曝光能力，进而达到增大曝光精度，经曝光蚀刻后得到想要的图案，进而使得电场分布均匀，提升液晶产品制作质量，进而提升到显示器的显示效果。
【专利说明】
一种具有曝光补正的光罩
技术领域
[0001]本发明涉及液晶显示技术领域，特别涉及一种具有曝光补正的光罩。
【背景技术】
[0002]当前，液晶显示器已经广泛的应用在电子显示产品上，如电视、计算机屏幕、笔记本电脑、移动电话等。
[0003]在液晶显示器中，为保证液晶的偏转角度，需要保证在面板中形成的电场强度。然而，在广视角(FFS)显示模式中，电场为横向分布，从而更需要保证像素电极的曝光精度，从而得到均匀的电场，使液晶均匀偏转。
[0004]在制作的光罩的过程中，当光罩上的尺寸小于曝光机的最小精度，由于曝光精度的限制，不能完全复制设计的图形，假设如果是锐角，经过曝光、蚀刻制作过程后，得到的光罩上的图形会形成圆角，如果使用这样的光罩，会使电场不均匀，影响液晶的偏转，形成暗带，从而影响产品的制作质量，进而影响到显示器的显示效果。
[0005]故，有必要提供一种光罩，以解决现有技术所存在的问题。
【发明内容】
[0006]为了避免由于曝光精度的限制，不能完全复制光罩设计的图形，本发明提供一种具有曝光补正的光罩。
[0007]本发明提供一种具有曝光补正的光罩，包括遮光区域和被遮光区域包围的曝光区域，所述曝光区域包括补正子区域以及曝光子区域，所述补正子区域从所述曝光子区域的锐角顶点处沿两边设置。在现有的光罩中，由于曝光精度的限制，该曝光区域中的锐角在曝光蚀刻后会变形成圆角形状，这样会导致电场不均匀，影响面板中的液晶偏转，因此通过将补正子区域从所述曝光子区域的锐角顶点处沿两边设置，且因为锐角的尺寸小于曝光机的曝光最小精度以及补正子区域的尺寸小于曝光机的曝光最小精度，这样不会影响的曝光图案。即经过锐角一边衍射的光会与锐角另一边的光发生叠加增强，从而增加光强度，增强曝光能力，进而达到增大曝光精度，经曝光蚀刻后得到想要的图案，进而使得电场分布均匀，提升液晶产品制作质量，进而提升到显示器的显示效果。
[0008]在本发明中的具有曝光补正的光罩，所述补正子区域与所述曝光子区域连通。此为补正子区域的具体位置。
[0009]在本发明中的具有曝光补正的光罩，所述补正子区域包括但不限于类锯齿波区域或类正弦波区域。
[0010]在本发明中的具有曝光补正的光罩，当所述补正子区域为圆形区域时，当所述补正子区域为锯齿波区域时，所述锯齿波区域中每个锯齿的最大深度小于曝光机的曝光最小精度。通过对补正子区域的形状及大小的限制，可以更加优化补正效果，进而提高显示器的显示效果。
[0011]在本发明中的具有曝光补正的光罩，所述锯齿波区域中锯齿沿锐角的顶点至两边均匀排列。
[0012]在本发明中的具有曝光补正的光罩，所述锯齿波区域中锯齿沿锐角的顶点至两边逐渐减小。通过设置距离锐角顶点更近的地方，锯齿尺寸更大，对光的增强效果更明显，而在较远的位置，锯齿尺寸较小，对光的增强效果较小，这样可以更加均匀的改善锐角的曝光强度，从而得到的想要得到的图案，进而提高显示器的显示效果。
[0013]在本发明中的具有曝光补正的光罩，当所述补正子区域为正弦波区域时，所述正弦波区域中每个正弦波的波峰小于曝光机的曝光最小精度。此为补正子区域的另一种具体的形状，通过对补正子区域的形状及大小的限制，可以更加优化补正效果，进而提高显示器的显示效果。
[0014]在本发明中的具有曝光补正的光罩，所述正弦波区域中的正弦波沿锐角的顶点至两边均匀排列
[0015]在本发明中的具有曝光补正的光罩，所述正弦波区域中的正弦波沿锐角的顶点至两边逐渐减小。进一步通过设定正弦波距离锐角顶点更近的地方，正弦波振幅更大，对光的增强效果更明显，而在具体锐角顶点较远的位置，正弦波振幅较小，对光的增强效果较小，从而得到想要的图案，进而提高显示器的显示效果。
[0016]与现有技术相比，本发明提供的具有曝光补正功能的光罩中曝光子区域的锐角顶点周围形成至少一补正子区域，该补正子区域取代了原有的锐角的两边的直线而形成类锯齿区域或者正弦波区域。由于锐角的尺寸小于曝光机的曝光最小精度以及补正子区域的尺寸小于曝光机的曝光最小精度，这样不会影响的曝光图案，经过锐角一边衍射的光会与锐角另一边的光发生叠加增强，从而增加光强度，增强曝光能力，进而达到增大曝光精度，经曝光蚀刻后得到想要的图案，进而使得电场分布均匀，提升液晶产品制作质量，进而提升显示器的显示效果。
【附图说明】
[0017]为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面对实施例中所需要使用的附图作简单的介绍。下面描述中的附图仅为本发明的部分实施例，对于本领域普通技术人员而言，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获取其他的附图。
[0018]图1为本发明中的光罩的补正子区域为锯齿波区域，且锯齿波区域中锯齿均匀排列的结构示意图；
[0019]图2为本发明中的光罩的补正子区域为锯齿波区域，且锯齿波区域中锯齿沿锐角的顶点至两边逐渐减小的结构示意图；
[0020]图3本发明中的光罩的补正子区域为正弦波区域，且正弦波区域中正弦波均匀排列的结构示意图；
[0021]图4本发明中的光罩的补正子区域为正弦波区域，且正弦波区域中正弦波沿锐角的顶点至两边逐渐减小的结构示意图。
【具体实施方式】
[0022]请参照附图中的图式，其中相同的组件符号代表相同的组件。以下的说明是基于所例示的本发明具体实施例，其不应被视为限制本发明未在此详述的其它具体实施例。
[0023]请参阅图1，为本发明的一较佳实施例提供的具有曝光补正功能的光罩I。该光罩I包括遮光区域11和曝光区域12。其中该曝光区域12被该遮光区域11包围。阴影部分为遮光区域11，空白部分为曝光区域12。
[0024]具体的，该遮光区域11包括本体111及自该本体111向外延伸而成的延伸部112。本实施例中，该本体111为矩形。该本体111包括一底边1111。可以理解的，其他实施例中该本体111的形状可以根据实际需求进行适应性调整，如方形、多边形等。
[0025]本实施例中，所述延伸部112自该本体111的底边1111斜向外延伸而成。该延伸部112大致呈U行结构。本实施例中，该延伸部112的首尾与该本体111的底边1111连接形成所述曝光区域20。可以理解的，其他实施例中，所述延伸部112的形状及数量根据实际需要进行适应性调整，只有能够与本体111连接配合形成所述曝光区域12即可。
[0026]该曝光区域12包括曝光子区域122和补正子区域121。具体的，本实施例中，该曝光子区域122大致呈菱形。也即所述延伸部112与该本体111配合形成的曝光区域12大致呈菱形。该曝光区域12位于该延伸部112与本体111连接的临界位置形成至少一锐角顶点区域。该补正子区域121从所述曝光子区域的锐角顶点处沿两边设置。该补正子区域121与该曝光子区域122连通。
[0027]优选的，所述补正子区域包括但不限于类锯齿波区域或类正弦波区域。
[0028]本实施例中，所述补正子区域121为锯齿波区域，该锯齿波区域121中每个锯齿1211的最大深度小于曝光机的曝光最小精度，当光透过锯齿波区域后会发生衍射，经过锐角一边衍射的光会与锐角另一条边的光发生叠加增强，从而增加光强度，增强曝光能力，进而达到增大曝光精度的目的。在刻蚀后，会形成两条边仍然是直线的锐角图形。通过多次实验可以得出，这种补正子区域可以使补正效果更佳，即更好的还原锐角图案。具体的，该锯齿区域121中的锯齿1211沿锐角的顶点至两边均匀排列，且每个锯齿紧密连接。
[0029]结合图1并参阅图2所示，优选的，图2中的锯齿波区域123中的锯齿1231沿锐角的顶点至两边逐渐减小，因为距离锐角顶点更近的地方，锯齿尺寸更大，对光的增强效果更明显，而在较远的位置，锯齿尺寸较小，对光的增强效果较小，这样可以更加均匀的改善锐角的曝光强度，更好的还原锐角图案。
[0030]请参阅图3，为本发明另一较佳实施例提供的具有曝光补正功能的光罩2。该光罩2包括遮光区域21和曝光区域22。其中该曝光区域22被该遮光区域21包围。阴影部分为遮光区域21，空白部分为曝光区域22。该曝光区域22包括曝光子区域222和补正子区域221。该光罩2的结构与前述光罩I的结构基本相同。不同之处在于，在本实施例中该补正子区域221为正弦波区域。所述正弦波区域221的中每个正弦波2211的最大波峰小于曝光机的曝光最小精度。当光透过正弦波后会发生衍射，经过锐角一边衍射的光会与锐角另一条边的光发生叠加增强，从而增加光强度，增强曝光能力，进而达到增大曝光精度的目的。在刻蚀后，会形成两条边仍然是直线的锐角图形。通过多次实验可以得出，这种补正子区域可以使补正效果更佳，即更好的还原锐角图案。具体的，该正弦波区域221中的正弦波沿锐角的顶点至两边均匀排列，且每个正弦波紧密连接。
[0031]结合图3并参阅图4，图4中正弦波区域223的正弦波2231沿着锐角的顶点至两边逐渐减小，因为距离锐角顶点更近的正弦波，振幅更大，对光的增强效果更明显，而在较远的位置的正弦波，振幅较小，对光的增强效果较小，这样可以更加均匀的改善锐角的曝光强度，从而得到的想要得到的图案。
[0032]可以理解的是，所述补正子区域的相关形状设计不局限于上述所描述的形状，可以使其他的结构，这里不一一举例描述。
[0033]上述锯齿区域中锯齿的尺寸与正弦波区域中正弦波的大小是通过曝光机根据光的波长，光源位置等条件设置的，对于本领域技术人员而言，是可以理解并计算出来的。
[0034]与现有技术相比，本发明提供的具有曝光补正功能的光罩中从曝光子区域的锐角顶点沿锐角两边形成至少一补正子区域，该补正子区域取代了原有的锐角的两边的直线而形成类锯齿区域或者正弦波区域。由于锐角的尺寸小于曝光机的曝光最小精度以及补正子区域的尺寸小于曝光机的曝光最小精度，这样不会影响的曝光图案，经过锐角顶点一边衍射的光会与锐角顶点另一边的光发生叠加增强，从而增加光强度，增强曝光能力，进而达到增大曝光精度，经曝光蚀刻后得到想要的图案，进而使得电场分布均匀，提升液晶产品制作质量，进而提升显示器的显示效果。
[0035]综上所述，虽然本发明已以优选实施例揭露如上，但上述优选实施例并非用以限制本发明，本领域的普通技术人员，在不脱离本发明的精神和范围内，均可作各种更动与润饰，因此本发明的保护范围以权利要求界定的范围为准。
【主权项】
1.一种具有曝光补正的光罩，包括遮光区域和被遮光区域包围的曝光区域，其特征在于， 所述曝光区域包括补正子区域以及曝光子区域， 所述补正子区域从所述曝光子区域的锐角顶点处沿两边设置。2.根据权利要求1所述的具有曝光补正的光罩，其特征在于，所述补正子区域与曝光子区域相连通。3.根据权利要求2所述的具有曝光补正的光罩，其特征在于，所述补正子区域包括但不限于类锯齿波区域或类正弦波区域。4.根据权利要求3所述的具有曝光补正的光罩，其特征在于，当所述补正子区域为锯齿波区域时，所述锯齿波区域中每个锯齿的最大深度小于曝光机的曝光最小精度。5.根据权利要求4所述的具有曝光补正的光罩，其特征在于，所述锯齿波区域中锯齿沿锐角的顶点至两边均匀排列。6.根据权利要求4所述的具有曝光补正的光罩，其特征在于，所述锯齿波区域中锯齿沿锐角的顶点至两边逐渐减小。7.根据权利要求3所述的具有曝光补正的光罩，其特征在于，当所述补正子区域为正弦波区域时，所述正弦波区域中每个正弦波的波峰小于曝光机的曝光最小精度。8.根据权利要求7所述的具有曝光补正的光罩，其特征在于，所述正弦波区域中的正弦波沿锐角的顶点至两边均匀排列。9.根据权利要求7所述的具有曝光补正的光罩，其特征在于，所述正弦波区域中的正弦波沿锐角的顶点至两边逐渐减小。
【文档编号】G03F1/38GK106019815SQ201610547768
【公开日】2016年10月12日
【申请日】2016年7月13日
【发明人】张春倩, 陈彩琴, 王超, 张启沛
【申请人】武汉华星光电技术有限公司