一种液晶显示屏曝光机的制作方法
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及液晶显示屏加工领域，具体是一种液晶显示屏曝光机。
【背景技术】
[0002]曝光机是集电子光学、电气、机械、真空、计算机技术等于一体的复杂的半导体加工设备，70年代以后广泛应用于半导体集成电路制造业，是在计算机的控制下，利用聚焦电子束对有机聚合物(通常称为电子抗蚀剂或光刻胶)进行曝光，它常用于半导体制造，光电电子，平板，射频微波，衍射光学，微机电系统，凹凸或覆晶设备和其他要求精细印制领域。现有的曝光机曝光的尺寸较小，不适用于大尺寸的基板曝光，若将现有的曝光机对大尺寸的基板进行曝光，其曝光的效果极差，基板的曝光面曝光不均匀，特别是基板边缘地带的曝光效果极差。
【实用新型内容】
[0003]本实用新型的目的在于提供一种液晶显示屏曝光机，以解决上述【背景技术】中提出的问题。
[0004]为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案:
[0005]一种液晶显示屏曝光机，包括放板台、曝光室、曝光平台和光源，所述放板台的台面与曝光室的入口相对应，曝光平台包括透光平台座和翻转盖，翻转盖可转动开合的安装在透光平台座上，翻转盖内设置有一层挡光膜；所述曝光室内水平设置有一伸缩气缸，伸缩气缸的活塞杆与曝光平台连接；曝光室内设光源调整机构，光源调整机构包括光传感器、移动机构和照射强度调整单元，光源以矩阵排列方式设置于光源平台上，光源平台固设在曝光室底部；所述光传感器设置于移动机构；所述照射强度调整单元包括处理单元及存储单元，光传感器、移动机构和存储单元电连接处理单元，处理单元电连接光源；所述移动机构包括相互连接的第一维度移动机构及第二维度移动机构，第一维度移动机构及第二维度移动机构的移动方向相互垂直，光传感器通过连接件设置于第一维度移动机构；第一维度移动机构包括轨道，第二维度移动机构包括轨道。
[0006]进一步的，所述光源平台上设有一灯光罩，灯光罩上方开口且其截面为弧形。
[0007]进一步的，所述曝光室上方设置有一控制室。
[0008]与现有技术相比，本实用新型的光源发出的光经过灯光罩的弧形面放射形成平行光，且对基板进行曝光，降低了光源的流失，增加了光源的强度，在相同曝光强度时，可以节约光源的数量，降低能耗；通过灯光罩的反射，保证了光源直射基板的曝光面，解决了大尺寸基板曝光不均匀，基板四周曝光质量不高的问题，且方便随时检测并调整曝光机的若干光源的照射强度至均匀，以提升曝光机曝光成品的合格率。
【附图说明】
[0009]图1为液晶显示屏曝光机的结构示意图。
[0010]图2为液晶显示屏曝光机中曝光平台的结构示意图。
[0011]图3为液晶显示屏曝光机中移动机构的结构示意图。
【具体实施方式】
[0012]下面结合【具体实施方式】对本专利的技术方案作进一步详细地说明。
[0013]请参阅图1-3，一种液晶显示屏曝光机，包括放板台1、曝光室2、曝光平台4和光源91，所述放板台I的台面与曝光室2的入口相对应，曝光平台4包括透光平台座41和翻转盖42，翻转盖42可转动开合的安装在透光平台座41上，为保证翻转盖42不漏光，增加基板的曝光效果，翻转盖42内设置有一层挡光膜43 ;所述曝光室2内水平设置有一伸缩气缸3，伸缩气缸3的活塞杆与曝光平台4连接，通过伸缩气缸3的活塞杆的来回移动，实现曝光平台4的来回移动；曝光室2内设光源调整机构，光源调整机构包括光传感器5、移动机构6和照射强度调整单元7，光传感器5用以感测曝光机的若干光源91的照射强度，光源91以矩阵排列方式设置于光源平台9上，光源平台9固设在曝光室2底部；所述光传感器5设置于移动机构6 ;所述照射强度调整单元7包括处理单元71及存储单元72，光传感器5、移动机构6和存储单元72电连接处理单元71，处理单元71电连接光源91 ;所述移动机构6包括相互连接的第一维度移动机构61及第二维度移动机构62，第一维度移动机构61及第二维度移动机构62的移动方向相互垂直，光传感器5通过连接件设置于第一维度移动机构61 ;第一维度移动机构61包括轨道以使光传感器5及连接件在X轴上移动，第二维度移动机构62包括轨道以使第一维度移动机构61在Y轴上移动；第一维度移动机构61包括轨道以使光传感器5及连接件在X轴上移动；所述光源平台9上设有一灯光罩10，灯光罩10上方开口且其截面为弧形，光源91发出的光经过灯光罩10的弧形面放射形成平行光，且对基板进行曝光，降低了光源的流失，增加了光源的强度，在相同曝光强度时，可以节约光源91的数量，降低能耗；通过灯光罩10的反射，保证了光源直射基板的曝光面，解决了大尺寸基板曝光不均匀，基板四周曝光质量不高的问题；所述曝光室2上方设置有一控制室8，控制室8内的控制元件控制伸缩气缸3 ;本实用新型的工作时，操作人员手动打开曝光平台4，将电路板放置在透光平台座41的固定区域内，然后合上曝光平台4，点动启动按钮，伸缩气缸3运动，将曝光平台4移动到曝光区域，然后伸缩气缸3停止工作，光源91打开，光源91的光源在灯光罩10的反射作用下，降低了光源的流失，增加了光源的强度，保证了光源直射基板的曝光面，实现基板的全方位曝光，提高了基板的曝光效果，曝光完成后，为降低能耗，光源91关闭，伸缩气缸3运动，将曝光平台4移出曝光室2，取出曝光好的基板，再重复上述动作。
[0014]上面对本专利的较佳实施方式作了详细说明，但是本专利并不限于上述实施方式，在本领域的普通技术人员所具备的知识范围内，还可以在不脱离本专利宗旨的前提下作出各种变化。
【主权项】
1.一种液晶显示屏曝光机，包括放板台、曝光室、曝光平台和光源，其特征在于，所述放板台的台面与曝光室的入口相对应，曝光平台包括透光平台座和翻转盖，翻转盖可转动开合的安装在透光平台座上，翻转盖内设置有一层挡光膜；所述曝光室内水平设置有一伸缩气缸，伸缩气缸的活塞杆与曝光平台连接；曝光室内设光源调整机构，光源调整机构包括光传感器、移动机构和照射强度调整单元，光源以矩阵排列方式设置于光源平台上，光源平台固设在曝光室底部；所述光传感器设置于移动机构；所述照射强度调整单元包括处理单元及存储单元，光传感器、移动机构和存储单元电连接处理单元，处理单元电连接光源；所述移动机构包括相互连接的第一维度移动机构及第二维度移动机构，第一维度移动机构及第二维度移动机构的移动方向相互垂直，光传感器通过连接件设置于第一维度移动机构；第一维度移动机构包括轨道，第二维度移动机构包括轨道。2.根据权利要求1所述的液晶显示屏曝光机，其特征在于，所述光源平台上设有一灯光罩，灯光罩上方开口且其截面为弧形。3.根据权利要求1所述的液晶显示屏曝光机，其特征在于，所述曝光室上方设置有一控制室。
【专利摘要】本实用新型公开了一种液晶显示屏曝光机，包括放板台、曝光室、曝光平台和光源，所述放板台的台面与曝光室的入口相对应，曝光平台包括透光平台座和翻转盖，翻转盖可转动开合的安装在透光平台座上，翻转盖内设置有一层挡光膜；所述曝光室内水平设置有一伸缩气缸，伸缩气缸的活塞杆与曝光平台连接；曝光室内设光源调整机构，光源调整机构包括光传感器、移动机构和照射强度调整单元，光源以矩阵排列方式设置于光源平台上，光源平台固设在曝光室底部；所述光传感器设置于移动机构；本实用新型方便随时检测并调整曝光机的若干光源的照射强度至均匀，以提升曝光机曝光成品的合格率。
【IPC分类】G02F1/13, G03F7/20
【公开号】CN204694990
【申请号】CN201520399041
【发明人】郝建华, 欧迪斐, 李会斌
【申请人】深圳市华宇彩晶科技有限公司
【公开日】2015年10月7日
【申请日】2015年6月10日