专利名称：等离子显示器介质层制作中荫罩引出预留窗口的制作方法
技术领域：
本发明涉及平板显示技术领域，尤其是等离子体显示器基板电极引出的 荫罩预留窗口的制作方法，具体的说是等离子显示器介质层制作中荫罩引出 预留窗口的制作方法。
背景技术：
等离子平板显示器Plasma Display Panel,简称PDP,是利用气体放电发 光进行显示的平面显示器。它具有厚度薄、重量轻、大面积、宽视角、响应 快、不受磁场干扰等优点。荫罩式等离子体显示器Shadow Mask Plasma Display Panel,简称SMPDP,是在现有PDP技术基础上，利用彩色阴极射线管CRT 中的荫罩板代替传统PDP中复杂的障壁。目前采用的荫罩式等离子体显示面 板主要包括前基板1 、后基板6和荫罩9，如附图1所示。前基板从玻璃基板 起，分别是汇流电极2 、前基板介质层8以及在介质层表面形成的前基板MgO 保护层3;后基板从玻璃基板起，分别是与汇流电极2垂直的寻址电极5、 后基板介质层7以及在介质层上形成的后基板MgO保护层4 。包含电极的前 后基板结构如附图2所示。而荫罩是由导电材料加工而成的包含网孔阵列的 金属薄网板。
为了使基板上的电极避免因放电而引起的溅射损伤，在电极上必须覆盖 一层介质层。电介质层的主要作用是保护汇流电极和寻址电极、积蓄电荷和 限制放电电流。要维持正常的发光放电状态，要求介质层透明且其耐电压强 度要高。在等离子体显示屏制作的前道工序中，为了形成能够保护汇流电极 和寻址电极的透明介质层，可以采用丝印、热压等方法。目前采用了压膜机 热压贴附的方法制作介质层，其优点在于工艺相对简单，对设备与工艺水平 的要求比较低，产生的缺陷少。介质贴附的好坏直接决定屏是否能用，如果贴附效果不好，耐压强度低， 易造成介质击穿。所以它是等离子显示屏制作中的一个重要环节，在整个工 艺中起着不可忽视的作用。目前，贴附基板介质层时会面临一个问题我们 为了降低阴罩上的电位，需要对荫罩上的电压进行电位引出，在基板窗口位 置如图3的基板电极引出区IO不需要贴附介质这样能够使阴罩接触到银电极 便于做阴罩引出。
发明内容
本发明的目的是针对现有的基板介质层贴附时需要对荫罩上的电压进行 电位引出不便的问题，提出一种操作简单、效率高的等离子显示器介质层制 作中荫罩引出预留窗口的制作方法。
本发明的技术方案是
一种等离子显示器介质层制作中荫罩引出预留窗口的制作方法，它包括 以下步骤
(a) .在带有电极的基板的电极引出区上贴附隔离物，隔离物的厚度小于 脂um;
(b) .将电极引出区带有隔离物的基板放入预热炉进行预热，预热温度为
80°C-170°C;
(c) .在贴附有隔离物的基板上制作介质层，贴附介质完毕后，基板表面
与隔离物临界的地方形成一道明显的印痕，然后用刀片沿着隔离物的边缘划 开，把隔离物和基板电极引出区上的介质层从基板上剥离，使得基板上的电
极引出区完全暴露；
(d) .用温度为8(TC-13(TC的压辊热压电极引出区完全暴露的基板，完成 介质层的制作。
本发明的隔离物为耐IO(TC以上温度的高温胶带。 本发明的介质层的制作方法为介质干膜压合方法。 本发明的压合次数为一次或多次。 本发明的刀片为手术刀。本发明的有益效果-
本发明解决了基板介质层贴附时荫罩上的电位引出不便的的问题，为大 批量规模化生产提供了捷径，且大大提高了成品率。
本发明对荫罩式等离子显示器的基板、电极和介质层进行多次热压，降 低所开基板电极引出区窗口周围介质的翘曲，降低因翘曲带来的噪音和对位 困难问题。
本发明在简易的设备上，通过简单的处理便可以得到理想的贴附效果。 制作工艺简单，成本低廉。
图1是荫罩式等离子显示屏的结构示意图。
图2是前后基板的结构示意图。
图3是本发明基板的电极引出区的示意图。
图4是本发明基板的电极引出区的局部放大结构示意图。
具体实施例方式
下面结合附图和实施例对本发明作进一步的说明。
一种等离子显示器介质层制作中荫罩引出预留窗口的制作方法，它包括
以下步骤
(a) .在带有电极的基板的电极引出区10上贴附隔离物11，隔离物11的厚度 小于100um;
(b) .将电极引出区IO带有隔离物11的基板放入预热炉进行预热，预热温度 为80°C-170°C;
(c) .在贴附有隔离物11的基板上制作介质层，贴附介质完毕后，基板表面
与隔离物11临界的地方形成一道明显的印痕，然后用刀片沿着隔离物11的
边缘划开，把隔离物11和基板电极引出区10上的介质层从基板上剥离，使 得基板上的电极引出区IO完全暴露；
(d) .用温度为8(TC-13(TC的压辊热压电极引出区IO完全暴露的基板，完成介质层的制作。
本发明的隔离物11为耐IO(TC以上温度的高温胶带。 具体实施时-
普通PDP或者SMPDP的任何尺寸的显示屏，都可以使用本种等离子显 示器介质层制作中荫罩引出预留窗口的制作方法。
一种等离子显示器介质层制作中荫罩引出预留窗口的制作方法，它包括
以下步骤在荫罩式等离子显示器的前基板1上制作汇流电极2;在带有汇流
电极2的前基板1的电极引出区IO上贴附耐100'C以上温度的高温胶带；清
洗机前基板去除表面的浮灰，在贴附有高温胶带的前基板1上制作前基板介
质层8，然后用手术刀片沿着高温胶带的边缘划开，把高温胶带和基板电极引 出区10上的前基板介质层8从前基板1上剥离，使得前基板1上的电极引出 区10完全暴露；将带有完全暴露的电极引出区10的前基板1放入预热炉进 行预热；预热后，压合荫罩式等离子显示器的前基板l、汇流电极2和前基板 介质层8，压合次数为一次或多次，完成前基板介质层8的制作，。
本发明的隔离物即高温胶带具有一定的粘性，便于固定在基板表面。如 果粘性不够，经过清洗时容易从基板表面脱落。但是其粘性又不可太强，否 则热压介质之后难以使其从玻璃基板表面剥离或者即使被剥离基板表面也会 有残胶不利于后续工艺的生产》
本发明未涉及部分均与现有技术相同或可采用现有技术加以实现。
权利要求
1、一种等离子显示器介质层制作中荫罩引出预留窗口的制作方法，其特征是它包括以下步骤(a). 在带有电极的基板的电极引出区(10)上贴附隔离物(11)，隔离物(11)的厚度小于100um；(b). 将电极引出区(10)带有隔离物(11)的基板放入预热炉进行预热，预热温度为80℃-170℃；(c). 在贴附有隔离物(11)的基板上制作介质层，贴附介质完毕后，基板表面与隔离物(11)临界的地方形成一道明显的印痕，然后用刀片沿着隔离物(11)的边缘划开，把隔离物(11)和基板电极引出区(10)上的介质层从基板上剥离，使得基板上的电极引出区(10)完全暴露；(d). 用温度为80℃-130℃的压辊热压电极引出区(10)完全暴露的基板，完成介质层的制作。
2、 根据权利要求1所述的等离子显示器中介质层的制做方法，其特征是所述 的隔离物(11)为耐100'C以上温度的高温胶带。
3、 根据权利要求1所述的等离子显示器中介质层的制做方法，其特征是所述 的介质层的制作方法为介质干膜压合方法。
4、 根据权利要求1所述的等离子显示器中介质层的制做方法，其特征是所述 的压合次数为一次或多次。
5、 根据权利要求l所述的等离子显示器中介质层的制做方法，其特征是所述 的刀片为手术刀。
全文摘要
一种等离子显示器介质层制作中荫罩引出预留窗口的制作方法，在带有电极的基板的电极引出区(10)上贴附隔离物(11)，然后在上面制作介质层，用刀片沿着隔离物(11)的边缘划开，把隔离物(11)和基板电极引出区(10)上的介质层从基板上剥离，使得基板上的电极引出区(10)完全暴露，然后放入预热炉进行预热，预热后，压合荫罩式等离子显示器的基板、电极和介质层，完成介质层的制作。本发明操作简单、成本低，为大批量规模化生产提供了捷径，且大大提高了成品率。
文档编号H01J9/14GK101521131SQ20091003081
公开日2009年9月2日 申请日期2009年4月16日 优先权日2009年4月16日
发明者文 刘, 朱立锋, 林青园, 王保平 申请人:南京华显高科有限公司