新型等离子体刻蚀机及其进气机构的制作方法

文档序号:2924490阅读:304来源:国知局
专利名称:新型等离子体刻蚀机及其进气机构的制作方法
技术领域
本实用新型涉及等离子体刻蚀机技术领域,具体是一种新型等离子体刻蚀机及其进气机构。
背景技术
等离子体刻蚀机使用射频将反应气体CF4和O2转化成等离子体,用离子轰击硅片边缘达到边缘刻蚀的目的。但现有机台结构会造成部分CF4和O2未离化或离化后被直接抽走,导致硅片边缘刻蚀不充分,电性能Rsh偏低,硅片漏电现象严重。如图1所示,三孔式进气孔I设置在排气端3与射频电极板2之间的等离子体区中间部位,气体与射频电极板2未充分反应,就快速被排气端3抽出腔外,这种结构反应气体不能充分电离,等离子体与硅片反应不充分,等离子体被气体阻隔,不能与硅片接触,硅片刻蚀效率低。

实用新型内容本实用新型针对现有技术中存在的上述不足,提供了一种新型等离子体刻蚀机及其进气机构。本实用新型是通过以下技术方案实现的。一种新型等离子体刻蚀机,包括等离子体区、与等离子体区连通的排气端和进气机构、以及设置在等离子体区并远离排气端的射频电极板,所述进气机构设置在射频电极板附近。优选地,所述进气 机构包括若干细密进气孔,所述若干细密进气孔均匀分布于射频电极板附近。优选地,所述若干细密进气孔为喷淋式小孔结构。一种用于上述新型等离子体刻蚀机的进气机构,包括若干细密进气孔,所述若干细密进气孔均匀排布。优选地,所述若干细密进气孔为喷淋式小孔结构。本实用新型提供的新型等离子体刻蚀机及其进气机构,采用喷淋式小孔结构,且均匀分布在射频电极板附近,使CF4和O2的混合气体分散在射频电极板形成的射频区域,充分离化,产生能量粒子。本实用新型与现有技术相比,具有以下技术特点:1、提闻了娃片刻蚀质量;2、增加了电性能Rsh,减少边缘漏电失效;3、提高了化学品的利用率,使通入的气体充分电离并获得足够的能量。

通过阅读参照以下附图对非限制性实施例所作的详细描述,本实用新型的其它特征、目的和优点将会变得更明显:图1为现有技术中三孔式进气孔等离子体刻蚀机机构示意图;图2为本实用新型结构示意图;图中:1为进气孔,2为射频电极板,3为排气端,4为进气机构。
具体实施方式
下面结合具体实施例对本实用新型进行详细说明。以下实施例将有助于本领域的技术人员进一步理解本实用新型,但不以任何形式限制本实用新型。应当指出的是,对本领域的普通技术人员来说,在不脱离本实用新型构思的前提下,还可以做出若干变形和改进。这些都属于本实用新型的保护范围。如图2所示,本实施例提供了一种新型等离子体刻蚀机,包括等离子体区、与等离子体区连通的排气端3和进气机构4、以及设置在等离子区并远离排气端3的射频电极板2,所述进气机构4设置在射频电极板2附近。进一步地,所述进气机构4包括若干细密进气孔,所述若干细密进气孔均匀分布于射频电极板2附近。进一步地,所述若干细密进气孔为喷淋式小孔结构。用于本实施例提供的新型等离子体刻蚀机的进气机构,包括若干细密进气孔,所述若干细密进气孔均匀排布。进一步地,所述若干细密进气孔为喷淋式小孔结构。本实施例的进气机构采用喷淋式小孔结构,且均匀分布在射频电极板附近,其气体运送方式没有改变,通过本实施例的进气机构,使CF4和O2的混合气体分散在射频电极板形成的射频区域,充分离化,产生能量粒子。以上对本实用新型的具体实施例进行了描述。需要理解的是,本实用新型并不局限于上述特定实施方 式,本领域技术人员可以在权利要求的范围内做出各种变形或修改,这并不影响本实用新型的实质内容。
权利要求1.一种新型等离子体刻蚀机,包括等离子体区、与等离子体区连通的排气端和进气机构、以及设置在等离子体区并远离排气端的射频电极板,其特征在于,所述进气机构设置在射频电极板附近。
2.根据权利要求1所述的新型等离子体刻蚀机,其特征在于,所述进气机构包括若干细密进气孔,所述若干细密进气孔均匀分布于射频电极板附近。
3.根据权利要求2所述的新型等离子体刻蚀机,其特征在于,所述若干细密进气孔为喷淋式小孔结构。
4.一种用于权利要求1所述的新型等离子体刻蚀机的进气机构,其特征在于,包括若干细密进气孔,所述若干细密进气孔均匀排布。
5.根据权利要求4所述的用于权利要求1所述的新型等离子体刻蚀机的进气机构,其特征在于, 所述若干细密进气孔为喷淋式小孔结构。
专利摘要本实用新型公开了一种新型等离子体刻蚀机及其进气机构,包括等离子体区、与等离子体区连通的排气端和进气机构、以及设置在等离子区并远离排气端的射频电极板,所述进气机构设置在射频电极板附近。所述进气机构包括若干细密进气孔,所述若干细密进气孔均匀分布于射频电极板附近。本实用新型提高了硅片刻蚀质量;增加了电性能Rsh,减少边缘漏电失效;提高了化学品的利用率,使通入的气体充分电离并获得足够的能量。
文档编号H01J37/32GK203085499SQ20132008855
公开日2013年7月24日 申请日期2013年2月27日 优先权日2013年2月27日
发明者戴熙明, 孟利萍 申请人:上海艾力克新能源有限公司
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