一种粉体材料表面等离子体处理装置制造方法
【专利摘要】本实用新型涉及一种粉体材料表面等离子体处理装置，包括反应腔、电极组件、电源和气体分布板，所述反应腔顶部设置有用于抽真空的抽气口，所述反应腔底部设置有用于通入反应气体的气体入口，所述反应腔内设置有反应腔室，所述电极组件和气体分布板设置于所述反应腔室内，所述电极组件设置于所述气体分布板上方，所述气体分布板上设置有若干用于反应气体进入的气孔，所述电极组件与所述电源电连接。本实用新型气体入口通入反应气体，反应气体从气体分布板的气孔进入反应腔室内并同时吹送粉体材料向上运动，电极组件通电形成高频电场将反应气体电离对粉体材料表面处理，避免了粉体材料堆积无法完全均匀的处理，处理效果好，提高工作效率。
【专利说明】一种粉体材料表面等离子体处理装置
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及等离子体处理装置，尤其涉及一种粉体材料表面等离子体处理装置。
【背景技术】
[0002]低温等离子体表面处理是:在负压(真空)下，给反应气体环境施加高频电场，气体在高频电场的激励下电离，产生等离子体。等离子体是物质的第四态，其中含有大量的电子、离子和自由基等各种活性粒子，活性粒子与材料表面发生物理和化学反应，从而使材料表面的结构、成分和基团发生变化，得到满足实际要求的表面。等离子体反应速度快、处理效率高，而且改性仅发生在材料表面，对材料内部本体材料的性能没有影响，是理想的表面改性手段。
[0003]粉体是一种干燥、分散的固体颗粒组成的细微粒子。现有技术中，等离子体处理装置在处理粉体表面时，由于粉体堆积，微粒间的团聚使得没有暴露在等离子体气氛中的表面得不到处理，难以实现微粒表面全部处理，导致处理不完全、不均匀，处理效果差。
[0004]因此，亟需一种粉体材料表面等离子体处理装置。
实用新型内容
[0005]本实用新型的目的是克服现有技术存在的缺陷，提供一种粉体材料表面等离子体
处理装置。
[0006]实现本实用新型目的的技术方案是:一种粉体材料表面等离子体处理装置，包括反应腔、电极组件、电源和气体分布板，所述反应腔顶部设置有用于抽真空的抽气口，所述反应腔底部设置有用于通入反应气体的气体入口，所述反应腔内设置有反应腔室，所述电极组件和气体分布板设置于所述反应腔室内，所述电极组件设置于所述气体分布板上方，所述气体分布板上设置有若干用于反应气体进入的气孔，所述电极组件与所述电源电连接。
[0007]进一步的，所述电极组件为包裹于所述反应腔外壁体上的环形电极。
[0008]进一步的，还包括用于排气的气泵，所述气泵与所述抽气口连接，，气泵与抽气口之间还设置有过滤器。
[0009]进一步的，还包括用于提供反应气体的气源，所述气源与所述气体入口连接。
[0010]本实用新型具有积极的效果:本实用新型气体入口通入反应气体,反应气体从气体分布板的气孔进入反应腔室内并同时吹送粉体材料向上运动，电极组件通电形成高频电场将反应气体电离对粉体材料表面处理，避免了粉体材料堆积无法完全均匀的处理，处理效果好，提高工作效率。
【专利附图】
【附图说明】
[0011]为了使本实用新型的内容更容易被清楚地理解，下面根据具体实施例并结合附图，对本实用新型作进一步详细的说明，其中:
[0012]图1为本实用新型第一实施例的结构示意图；
[0013]图2为本实用新型第二实施例的结构示意图。
[0014]其中:1、气源，2、气体入口，3、气体分布板，4、电极组件，5、过滤器，6、气泵，7、抽气
口，8、反应腔。
【具体实施方式】
[0015]实施例1
[0016]如图1所示，本实用新型第一实施例提供一种粉体材料表面等离子体处理装置，包括反应腔8、电极组件4、电源(图中未示出)和气体分布板3，反应腔8顶部设置有用于抽真空的抽气口 7，反应腔8底部设置有用于通入反应气体的气体入口 2，反应腔8内设置有反应腔室(图中未示出)，电极组件4和气体分布板3设置于反应腔室内，电极组件4设置于气体分布板3上方，气体分布板3上设置有若干用于反应气体进入的气孔(图中未不出)，电极组件4与电源电连接，电极组件4为包裹于反应腔室外壁体上的环形电极。
[0017]本实施例气体入口 2通入反应气体，反应气体从气体分布板3的气孔进入反应腔室内并同时吹送粉体材料向上运动,平板电极通电并在平板电极之间形成高频电场将反应气体电离对粉体材料表面处理，避免了粉体材料堆积无法完全均匀的处理，处理效果好，提高工作效率。
[0018]实施例2
[0019]如图2所示，其余与实施例1相同，不同之处在于，本实施例还包括用于排气的气泵6和用于提供反应气体的气源1，气源I与气体入口 2连接，气泵6与抽气口 7连接，气泵6与抽气口 7之间还设置有过滤器5，过滤器5有效的避免排气的过程中带走粉体材料，更加环保。
[0020]以上所述的具体实施例，对本实用新型的目的、技术方案和有益效果进行了进一步详细说明，所应理解的是，以上所述仅为本实用新型的具体实施例而已，并不用于限制本实用新型，凡在本实用新型的精神和原则之内，所做的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。
【权利要求】
1.一种粉体材料表面等离子体处理装置，其特征在于，包括反应腔、电极组件、电源和气体分布板，所述反应腔顶部设置有用于抽真空的抽气口，所述反应腔底部设置有用于通入反应气体的气体入口，所述反应腔内设置有反应腔室，所述电极组件和气体分布板设置于所述反应腔室内，所述电极组件设置于所述气体分布板上方，所述气体分布板上设置有若干用于反应气体进入的气孔，所述电极组件与所述电源电连接。
2.根据权利要求1所述的粉体材料表面等离子体处理装置，其特征在于，所述电极组件为包裹于所述反应腔外壁体上的环形电极。
3.根据权利要求1或2所述的粉体材料表面等离子体处理装置，其特征在于，还包括用于排气的气泵，所述气泵与所述抽气口连接，气泵与抽气口之间还设置有过滤器。
4.根据权利要求3所述的粉体材料表面等离子体处理装置，其特征在于，还包括用于提供反应气体的气源，所述气源与所述气体入口连接。
【文档编号】H01J37/32GK203562396SQ201320760475
【公开日】2014年4月23日 申请日期:2013年11月27日 优先权日:2013年11月27日
【发明者】沈文凯, 王红卫 申请人:苏州市奥普斯等离子体科技有限公司