专利名称：用于刻蚀触摸屏上不可视区域导电薄膜的装置的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种激光微加工设备，尤其涉及一种用于刻蚀触摸屏上不可视区域导电薄膜的装置。
背景技术：
由于IT产业(小型cell)及电视(大型cell)等不同用途的电子产品持续增长需求，对于玻璃基底或PET基底的不可视区域上导电薄膜蚀刻有较高刻蚀功能性要求。具体体现在蚀刻导电薄膜厚度在200nm 30um范围内变化时，可以制造出稳定的较小线宽、 功能完好的导电膜层线条要求。传统的导电膜层线条功能的实现是运用丝网印刷方式，不可视区域导电薄膜材料印刷宽度最细只能达到lOOum，且良品率较低，线性不均勻，更换不同批次产品较为繁琐，需要用化学药水清洗，绷网张力值较小，成本亦较高，产生的废气液严重影响环境，成品材料耐磨性、耐化学药品性较差，易老化发脆。该印刷方式工序复杂、生产中需要较多耗材，产线需要较多人力维护，存在较大的局限性，丝网印刷不可视区域导电薄膜材料引脚的线性不良成为导致显示器和触摸屏失效的重要因素，这些不良品都是对已经接近成品的电子材料一种重要浪费。不可视区域导电薄膜材料的激光蚀刻方法可以避免这些问题的出现，而且激光具有非接触、无污染环境、易控制等特性，使其成为当代不可视区域导电薄膜材料线宽控制的重要应用热点，并且逐渐会在工业中得到广泛的应用。首先，不可视区域导电薄膜材料系由高纯度的金属的微粒、粘合剂、溶剂、助剂所组成的一种机械混和物的粘稠状的浆料。不可视区域导电薄膜材料对其组成物质要求十分严格，其品质的高低、含量的多少，以及形状、 大小对不可视区域导电薄膜材料性能都有着密切关系。用激光器蚀刻不可视区域导电薄膜材料可以达到较稳定的线宽，使不可视区域导电薄膜材料的线宽最细可以达到20um，可以使未来触摸屏不可视区域更小，激光刻蚀时可以方便的更换蚀刻图形，无废弃物产生，可大量节省研发成本及缩短产品开发周期。
实用新型内容本实用新型的目的是克服现有技术存在的不足，提供一种用于刻蚀触摸屏上不可视区域导电薄膜的装置。本实用新型的目的通过以下技术方案来实现用于刻蚀触摸屏上不可视区域导电薄膜的装置，特点是高频率短脉冲激光器的输出端布置有光间，光间的输出端设置有扩束镜，扩束镜的输出端依次布置有45度全反射镜，45度全反射镜的输出端依次布置有动态聚焦镜和扫描场镜，扫描场镜正对于工作平台， 所述工作平台的一侧安装有吹气装置，所述工作平台的另一侧安装有集尘装置。进一步地，上述的用于刻蚀触摸屏上不可视区域导电薄膜的装置，其特征在于所述高频率短脉冲激光器是波长为266nm 1064nm、脉宽在IOOps 50ns、频率在IOKHz 200KHz的激光器。本实用新型技术方案突出的实质性特点和显著的进步主要体现在本实用新型通过不同波长的高频率的脉冲激光器作为激光源，对不同触摸屏产品中不可视区域导电薄膜材料进行激光蚀刻，使不可视区域的薄膜材料在高频率的短脉冲激光器的作用下气化而达到蚀除的目的，通过高精度动态聚焦镜和振镜配合，一次性实现蚀刻范围500mmX500mm，产生的粉尘经过吹气系统和大流量积尘系统集尘，从而加工出无污染、线性稳定、功能完好的触摸屏电子产品。
以下结合附图对本实用新型技术方案作进一步说明
图1 本实用新型的结构示意图。图中各附图标记的含义见下表
权利要求1.用于刻蚀触摸屏上不可视区域导电薄膜的装置，其特征在于高频率短脉冲激光器 (1)的输出端布置有光闸O)，光闸( 的输出端设置有扩束镜(3)，扩束镜C3)的输出端依次布置有45度全反射镜0)，45度全反射镜(4)的输出端依次布置有动态聚焦镜( 和扫描场镜(6)，扫描场镜(6)正对于工作平台(10)，所述工作平台(10)的一侧安装有吹气装置(7)，所述工作平台(10)的另一侧安装有集尘装置(9)。
2.根据权利要求1所述的用于刻蚀触摸屏上不可视区域导电薄膜的装置，其特征在于所述高频率短脉冲激光器(1)是波长为 1064nm、脉宽在IOOps 50ns、频率在 IOKHz 200KHz的激光器。
专利摘要本实用新型提供一种用于刻蚀触摸屏上不可视区域导电薄膜的装置，高频率短脉冲激光器的输出端布置有光闸，光闸的输出端设置有扩束镜，扩束镜的输出端依次布置有45度全反射镜，45度全反射镜的输出端依次布置有动态聚焦镜和扫描场镜，扫描场镜正对于工作平台，工作平台的一侧安装有吹气装置，工作平台的另一侧安装有集尘装置。采用优化的光路聚焦系统和高频率的脉冲激光器，对不可视区域导电薄膜材料进行蚀刻，得到较细较稳定的线宽，且不损伤基底。
文档编号B23K26/40GK202123323SQ20112015839
公开日2012年1月25日 申请日期2011年5月18日 优先权日2011年5月18日
发明者张伟, 狄建科, 赵裕兴 申请人:江阴德力激光设备有限公司, 苏州德龙激光有限公司