一种银铜钛钎料及其制备方法和应用

文档序号:34046877发布日期:2023-05-05 15:02阅读:247来源:国知局
一种银铜钛钎料及其制备方法和应用

本发明涉及一种银铜钛钎料及其制备方法和应用,属于半导体封装和材料连接领域。


背景技术:

1、功率电力电子器件(典型器件是绝缘栅双极晶体管-igbt)是实现能源控制与转换的核心,广泛应用于高速铁路、智能电网、电动汽车与新能源装备等领域。随着功率密度和工作温度不断升高,功率电力电子器件对封装基板的散热能力和可靠性提出了更高要求。

2、封装基板由高导热、高绝缘陶瓷与铜通过活性金属钎焊(amb)连接而成。封装基板也因此称为陶瓷覆铜基板、陶瓷覆铜板。银铜钛钎料是实现高导热、高绝缘陶瓷与铜钎焊连接的关键,决定了陶瓷覆铜基板的性能和可靠性。

3、目前,银铜钛钎料多以焊膏的形式使用,焊膏中大量有机物挥发导致陶瓷覆铜基板的界面空洞率升高、可靠性及绝缘性能下降。相比之下,银铜钛箔带或片材钎料不存在这些问题,可实现导热陶瓷与铜高性能、高可靠钎焊连接,进而制备出性能优异的陶瓷覆铜基板。

4、但是,箔带或片材银铜钛钎料的制备存在技术困难。真空熔炼法制备银铜钛钎料时,ti易与cu反应生成脆性ti-cu金属间化合物,导致材料加工变形困难,极难制备出箔带或片材;大量的ti-cu金属间化合物的存在也导致银铜钛钎料焊接性能下降。粉末冶金法制备银铜钛钎料时,ti与cu也存在接触,烧结时ti与cu反应生成ti-cu金属间化合物。总之,目前已知的技术方案无法避免生成大量ti-cu金属间化合物,因而箔带或片材银铜钛钎料加工困难,钎焊性能不理想。


技术实现思路

1、为了解决上述问题,本发明提出以银包覆氢化钛粉为原料,银包覆层厚度为0.001-200μm;将银包覆氢化钛粉、铜粉与其他金属粉体混合均匀得到混合粉体,然后将混合粉体通过真空加压烧结制备成块体,再将块体轧制成箔带、拉拔成丝材或冲压成不同形状片材。对半导体封装和材料连接用银铜钛活性钎料的制备,本发明是重要技术进步。

2、一种银铜钛钎料及其制备方法,以银包覆氢化钛粉为原料,银包覆层厚度为0.001-200μm;将银包覆氢化钛粉、铜粉与其他金属粉体混合均匀得到混合粉体,然后将混合粉体通过真空加压烧结制备成块体,再将块体轧制成箔带、拉拔成丝材或冲压成不同形状片材。

3、银包覆氢化钛粉的制备方法包括如下步骤:

4、1、配制浓度为0.1-10mol/l的agno3溶液。

5、2、配制浓度为0.1-5mol/l的维生素c溶液或葡萄糖溶液;称取适量氢化钛粉体加入维生素c溶液或葡萄糖溶液中,超声分散后形成悬浮液。

6、3、磁力搅拌条件下,将步骤1所配置agno3溶液滴加到步骤2所配置混合溶液中。滴加结束后,继续磁力搅拌混合溶液,并升温至40-80℃保温10-30min。然后溶液自然冷却,将沉淀过滤、洗涤、干燥,得到银包覆氢化钛粉。ag与氢化钛重量比为0.1-90:0.1-70;优选0.1-90:0.1-20;更优选0.1-90:0.1-10。

7、进一步地,在上述技术方案中,银包覆层厚度为0.001-200μm;优选0.1-100μm;更优选0.1-20μm。

8、进一步地,在上述技术方案中,其他金属选自金、锂、铝、锡、铟、银、锌、镍、铬、镓、锆、钯、镧、铈中的一种或两种或多种。

9、进一步地,在上述技术方案中,所述氢化钛粉体平均粒径为0.1-300μm;优选0.1-100μm;更优选0.1-30μm。

10、所述银粉体平均粒径为0.1-300μm;优选0.1-100μm;更优选0.1-30μm。

11、所述铜粉体平均粒径为0.1-300μm;优选0.1-100μm;更优选0.1-30μm。

12、进一步地,在上述技术方案中,所述加压烧结包括热压烧结和放电等离子烧结;烧结温度:600-900℃;烧结压强:30-70mpa;烧结时间:5-180min。

13、进一步地,在上述技术方案中,所述轧制、拉拔或冲压变形后,致密度为90%~100%。

14、进一步地,在上述技术方案中,氢化钛重量含量为混合粉体的0.1%~70%;优选0.1%~30%;更优选0.1%~15%。

15、银重量含量为混合粉体的0.1%~90%;优选15%~90%;更优选40%~90%。

16、铜重量含量为混合粉体的0.1%~90%;优选10%~90%;更优选20%~50%。

17、进一步地,在上述技术方案中,其他金属重量含量为混合粉体的0.1%~30%。

18、本发明提供上述的方法得到的银铜钛钎料。

19、本发明提供上述银铜钛钎料在半导体封装和材料连接领域的应用。

20、发明有益效果

21、本发明涉及一种银铜钛钎料及其制备方法,是半导体封装和材料连接领域关键核心技术。本发明以银包覆氢化钛粉为原料,银包覆层厚度为0.001-200μm;氢化钛以及银包覆层有效避免了ti与cu直接接触,有效抑制了ti与cu的反应,避免生成大量ti-cu金属间化合物,材料的加工变形能力因而得到改善,制备出银铜钛箔带或片材钎料,并提高其钎焊性能。



技术特征:

1.一种银铜钛钎料的制备方法,其特征在于:以银包覆氢化钛粉为原料,银包覆层厚度为0.001-200μm;

2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于:氢化钛粉体平均粒径为0.1-300μm。

3.根据权利要求1所述的方法,其特征在于:加压烧结包括热压烧结和放电等离子烧结。

4.根据权利要求1所述的方法,其特征在于:氢化钛重量含量为混合粉体的0.1%~70%。

5.根据权利要求1所述的方法,其特征在于:银重量含量为混合粉体的0.1%~90%。

6.根据权利要求1所述的方法,其特征在于:铜重量含量为混合粉体的0.1%~90%。

7.根据权利要求1所述的方法,其特征在于:其他金属重量含量为混合粉体的0.1%~30%。

8.根据权利要求1~7任意一项所述的方法得到的银铜钛钎料。

9.根据权利要求8所述的银铜钛钎料在半导体封装和材料连接领域的应用。


技术总结
本发明公开了一种银铜钛钎料及其制备方法和应用。本发明以银包覆氢化钛粉为原料,采用真空加压烧结将银包覆氢化钛粉、铜粉和其他金属组成的混合粉体烧结成块体,再将块体轧制成箔带、拉拔成丝材或冲压成不同形状片材。本发明技术新颖,制备的高质量高性能银铜钛钎料满足半导体封装和材料连接需求。在航空航天、高速铁路、智能电网、电动汽车与新能源装备等领域应用前景广阔。

技术研发人员:刘绍宏,刘海瑞
受保护的技术使用者:东北大学
技术研发日:
技术公布日:2024/1/12
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