激光定位校准系统、方法、终端设备及可读储存介质与流程

本发明涉及激光雕刻，具体涉及激光定位校准系统、方法、终端设备及可读储存介质。

背景技术：

1、半导体激光由于其极强的可靠性和成本优势，在雕刻和切割材料加工等领域有着广泛的应用前景。但是现在市面上半导体激光器由于技术和结构限制不易放置雕刻材料，如若雕刻前未把雕刻材质放置得当,往往会导致雕刻材料、时间的浪费。

技术实现思路

1、有鉴于此，本发明的目的旨在克服现有技术的不足和结构的限制,通过单片机控制发出一束十字激光，发出的十字激光即代表实际雕刻时激光的雕刻位置，雕刻前辅助放置材料和观察雕刻区域。

2、本发明所采用的技术方案是：提供一种激光定位校准系统，包括第一激光发射器、x轴驱动电机、y轴驱动电机、x轴导轨、y轴导轨、驱动控制器以及第二激光发射器；所述第二激光发射器设于所述第一激光发射器一侧，所述第一激光发射器与所述x轴导轨活动连接，所述x轴导轨与所述y轴导轨活动连接，所述驱动控制器与第一激光发射器、x轴驱动电机、y轴驱动电机、第二激光发射器电连接；所述x轴驱动电机用于带动所述第一激光发射器在所述x轴导轨上平移；所述y轴驱动电机用于带动所述第一激光发射器在所述y轴导轨上平移。

3、在一种可能的实现方式中，还包括电源，所述电源用于给激光定位校准系统转换电压以及供电，所述电压与所述驱动控制器电连接。

4、在一种可能的实现方式中，还包括操作显示器，所述操作显示器与所述驱动控制器电连接。

5、在一种可能的实现方式中，还包括报警器，所述报警器与所述驱动控制器电连接。

6、本发明还公开了一种激光定位校准方法，应用于上述任一项所述激光定位校准系统，包括以下步骤：

7、雕刻前开启第二激光发射器；

8、根据第二激光发射器发出的十字激光灯位置把雕刻材料放好；

9、雕刻时,机器自动去第二激光发射器发出的十字激光灯处开始雕刻。

10、在一种可能的实现方式中，当十字激光灯位置不准时通过操作显示器进行精度调节。

11、在一种可能的实现方式中，精度调节方式具体为控制第一激光发射器去指定坐标自动画一个十字痕迹,控制第二激光发射器发出的十字激光与十字痕迹重合。

12、在一种可能的实现方式中，其特征在于，开启第二激光发射器后，机器开始雕刻前会往指定坐标处后再进行雕刻。

13、本发明还公开了一种终端设备，包括存储器和处理器，所述存储器存储有程序，所述程序被所述处理器执行时实现上述任一的激光定位校准方法。

14、本发明还公开了一种计算机可读存储介质，其上存储有程序，所述程序被处理器执行时实现如上述任一的激光定位校准方法。

15、与现有技术相比，本发明的激光定位校准系统，通过第二激光发射器时刻跟第一激光发射器移动,雕刻前通过第二激光发射器发出的十字光位置取代激光器开始雕刻后机器雕刻区域，进而达到辅助放置雕刻材料和观察雕刻区域的目的。

技术特征：

1.激光定位校准系统，其特征在于，包括第一激光发射器、x轴驱动电机、y轴驱动电机、x轴导轨、y轴导轨、驱动控制器以及第二激光发射器；

2.根据权利要求1所述的激光定位校准系统，其特征在于，还包括电源，所述电源用于给激光定位校准系统转换电压以及供电，所述电压与所述驱动控制器电连接。

3.根据权利要求1所述的激光定位校准系统，其特征在于，还包括操作显示器，所述操作显示器与所述驱动控制器电连接。

4.根据权利要求1所述的激光定位校准系统，其特征在于，还包括报警器，所述报警器与所述驱动控制器电连接。

5.激光定位校准方法，其特征在于，应用于权利要求1-4任一项所述激光定位校准系统，包括以下步骤：

6.根据权利要求5所述的激光定位校准方法，其特征在于，当十字激光灯位置不准时通过操作显示器进行精度调节。

7.根据权利要求6所述的激光定位校准方法，其特征在于，精度调节方式具体为控制第一激光发射器去指定坐标自动画一个十字痕迹,控制第二激光发射器发出的十字激光与十字痕迹重合。

8.根据权利要求7所述的激光定位校准方法，其特征在于，开启第二激光发射器后，机器开始雕刻前会往指定坐标处后再进行雕刻。

9.一种终端设备，其特征在于，包括存储器和处理器，所述存储器存储有程序，所述程序被所述处理器执行时实现如权利要求5-8任一所述的激光定位校准方法。

10.一种计算机可读存储介质，其上存储有程序，其特征在于，所述程序被处理器执行时实现如权利要求5-8任一所述的激光定位校准方法。

技术总结
本发明公开了一种激光定位校准系统、方法、终端设备及可读储存介质，其中系统包括第一激光发射器、X轴驱动电机、Y轴驱动电机、X轴导轨、Y轴导轨、驱动控制器以及第二激光发射器；第二激光发射器设于第一激光发射器一侧，第一激光发射器与X轴导轨活动连接，X轴导轨与Y轴导轨活动连接，X轴驱动电机用于带动第一激光发射器在X轴导轨上平移；Y轴驱动电机用于带动第一激光发射器在Y轴导轨上平移。发明的激光定位校准系统，通过第二激光发射器时刻跟第一激光发射器移动,雕刻前通过第二激光发射器发出的十字光位置取代激光器开始雕刻后机器雕刻区域，进而达到辅助放置雕刻材料和观察雕刻区域的目的。

技术研发人员：贺云,李泽彬
受保护的技术使用者：深圳原子智造科技有限公司
技术研发日：
技术公布日：2024/1/14