激光刻蚀装置的制作方法

本申请涉及材料加工，具体涉及一种激光刻蚀装置。

背景技术：

1、激光刻蚀是一种利用激光技术进行材料加工的方法，因其具备高精度、非接触性和可控性等优点，被广泛应用于材料加工技术领域。

2、然而，在刻蚀过程中，待刻蚀产品很容易受到污染，导致刻蚀效果不佳，产品良率下降。

技术实现思路

1、有鉴于此，本申请致力于提供一种激光刻蚀装置，能够有效降低污染，提升刻蚀效果和产品良率。

2、第一方面，本申请提供了一种激光刻蚀装置，包括：真空腔室，激光器，以及与所述激光器电连接的控制组件；

3、所述真空腔室，用于放置刻蚀对象，并为所述刻蚀对象提供真空环境；

4、所述激光器，用于在所述控制组件的控制下，对所述真空腔室中的刻蚀对象进行激光刻蚀；

5、其中，所述激光器位于所述刻蚀对象的重力方向一侧。

6、可选地，所述真空腔室上设置有光学窗口；

7、所述激光器发出的激光，通过所述光学窗口对所述真空腔室中的刻蚀对象进行刻蚀。

8、可选地，所述真空腔室内设置有固定组件；

9、所述固定组件用于固定所述刻蚀对象，以使所述刻蚀对象被所述激光器刻蚀。

10、可选地，还包括与所述控制组件电连接的第一抽气组件；

11、所述真空腔室还设置有第一真空抽气孔；

12、所述控制组件，还用于控制所述第一抽气组件通过所述第一真空抽气孔对所述真空腔室内进行抽气，以使所述真空腔室内保持真空环境。

13、可选地，所述真空腔室内还设置有微尘收集器；所述微尘收集器位于所述激光器与所述刻蚀对象之间；所述微尘收集器上设置有通孔；所述激光器发出的激光通过所述通孔照射所述刻蚀对象，以对所述刻蚀对象进行刻蚀；

14、所述微尘收集器，用于容纳刻蚀过程中产生的微粒。

15、可选地，所述微尘收集器上还连接有静电发生器；

16、所述静电发生器，用于给所述微尘收集器提供静电，以使所述微尘收集器在静电作用下吸附真空环境中因刻蚀产生的微粒。

17、可选地，所述真空腔室内还设置有与所述控制组件电连接的传动组件；

18、所述传动组件，用于在所述控制组件的控制下，带动所述刻蚀对象移动，以使所述激光器发出的激光通过所述通孔，在所述刻蚀对象上刻蚀出目标图案；

19、可选地，所述传动组件，还用于带动所述刻蚀对象进入所述真空腔室，和/或，带动所述刻蚀对象离开所述真空腔室。

20、可选地，所述真空腔室上设置有第一进口组件和第一出口组件；

21、所述第一进口组件，用于提供第一进口给所述刻蚀对象，以使所述刻蚀对象通过所述第一进口进入所述真空腔室，并在所述刻蚀对象进入所述真空腔室后，封闭所述第一进口；

22、所述第一出口组件，用于提供第一出口给所述真空腔内的所述刻蚀对象，并在所述刻蚀对象离开所述真空腔室后，封闭所述第一出口。

23、可选地，还包括真空传入缓冲腔室；

24、所述真空腔室设置有第一进口；所述真空传入缓冲腔室设置有第二进口和第二出口；所述第二出口与所述第一进口连接；

25、所述真空传入缓冲腔室，用于提供常压环境给所述刻蚀对象，以使所述刻蚀对象在常压环境下，通过所述第二进口进入所述真空传入缓冲腔室内；还用于提供真空环境给所述刻蚀对象，以使所述真空传入缓冲腔室内的所述刻蚀对象在真空环境下，通过所述第二出口和所述第一进口进入所述真空腔室内。

26、可选地，还包括真空传出缓冲腔室；

27、所述真空腔室设置有第一出口；所述真空传出缓冲腔室设置有第三进口和第三出口；所述第一出口与所述第三进口连接；

28、所述真空传出缓冲腔室，用于提供真空环境给所述刻蚀对象，以使所述刻蚀对象在真空环境下，通过所述第一出口和所述第三进口进入所述真空传出缓冲腔室内；还用于提供常压环境给所述刻蚀对象，以使所述真空传出缓冲腔室内的所述刻蚀对象在常压环境下，通过所述第三出口离开。

29、本申请的方案中，激光刻蚀装置包括：真空腔室、激光器以及与激光器电连接的控制组件；真空腔室用于放置刻蚀对象，并为刻蚀对象提供真空环境；激光器用于在控制组件的控制下，对真空腔室中的刻蚀对象进行激光刻蚀；其中，激光器位于刻蚀对象的重力方向一侧。将刻蚀对象置于真空环境中，并利用位于刻蚀对象下方的激光器对刻蚀对象进行刻蚀，一方面可以隔绝外界环境的影响，另一方面可以使得刻蚀过程中产生的微粒受重力影响下落，从而避免微粒飞溅并污染刻蚀对象，提升了刻蚀效果，增加了产品良率。

技术特征：

1.一种激光刻蚀装置，其特征在于，包括：真空腔室，激光器，以及与所述激光器电连接的控制组件；

2.根据权利要求1所述的激光刻蚀装置，其特征在于，所述真空腔室上设置有光学窗口；

3.根据权利要求1所述的激光刻蚀装置，其特征在于，所述真空腔室内设置有固定组件；

4.根据权利要求1所述的激光刻蚀装置，其特征在于，还包括与所述控制组件电连接的第一抽气组件；

5.根据权利要求1所述的激光刻蚀装置，其特征在于，所述真空腔室内还设置有微尘收集器；所述微尘收集器位于所述激光器与所述刻蚀对象之间；所述微尘收集器上设置有通孔；所述激光器发出的激光通过所述通孔照射所述刻蚀对象，以对所述刻蚀对象进行刻蚀；

6.根据权利要求5所述的激光刻蚀装置，其特征在于，所述微尘收集器上还连接有静电发生器；

7.根据权利要求5所述的激光刻蚀装置，其特征在于，所述真空腔室内还设置有与所述控制组件电连接的传动组件；

8.根据权利要求1所述的激光刻蚀装置，其特征在于，所述真空腔室上设置有第一进口组件和第一出口组件；

9.根据权利要求1所述的激光刻蚀装置，其特征在于，还包括真空传入缓冲腔室；

10.根据权利要求1所述的激光刻蚀装置，其特征在于，还包括真空传出缓冲腔室；

技术总结
本申请提供了一种激光刻蚀装置，包括：真空腔室，激光器，以及与激光器电连接的控制组件；真空腔室，用于放置刻蚀对象，并为刻蚀对象提供真空环境；激光器，用于在控制组件的控制下，对真空腔室中的刻蚀对象进行激光刻蚀；其中，激光器位于刻蚀对象的重力方向一侧。将刻蚀对象置于真空环境中，并利用位于刻蚀对象下方的激光器对刻蚀对象进行刻蚀，一方面可以隔绝外界环境的影响，另一方面可以使得刻蚀过程中产生的微粒受重力影响下落，从而避免微粒飞溅并污染刻蚀对象，提升了刻蚀效果，增加了产品良率。

技术研发人员：邢汝博,陆海峰,吕奎
受保护的技术使用者：云谷（固安）科技有限公司
技术研发日：
技术公布日：2024/1/15