专利名称：新连续式真空低压渗碳淬火炉的制作方法
技术领域：
本发明属于热处理行业领域，特别是一种真空渗碳的连续设备。
背景技术：
目前的真空渗碳炉多为单室或双室结构，由渗碳加热区和淬火区组成，无 法实现连续作业，单室炉有的是渗碳与淬火为一体结构，在淬火的过程中必须 将整个加热室冷下来，在第二炉的生产过程中又一需要重新将加热室加热，浪 费了热能，功效低下，不适合大批量生产的需要。
发明内容
本发明为一台连续式真空低压渗碳淬火炉，它主要由预清洗烘干室、渗碳 式、扩散室、淬火室和后清洗室及回火室组合在一起。个室之间由滚道进行送 料，各室之间由闸板阀相互隔开，各室可实现独立抽真空。送料时间也可以根 据每个工作室的时间来设定，从而来达到高效连续作业的目的。
具体实施例方式
该设备主要有预清洗室、渗碳室、扩散室、淬火室和后清洗室、回火室组 成，各式之间由乍板相互隔开，各室由真空机组连接，可独立真空，送料机构 由滚道式送料机构来实现送料，可根据工件在各室需停留的时间来确定送料的 速度，工件可依次进入上面各室，从而来达到连续渗碳的目的。
权利要求
1、由预清洗烘干室、渗碳室、扩散室、淬火室、后清洗室及回火室组合在一起的连续式低压真空渗碳炉。
全文摘要
连续式真空低压渗碳淬火炉属热处理行业的一种真空渗碳连续炉具体实施方法。该设备主要有预清洗室、渗碳室、扩散室、淬火室和后清洗室、回火室组成，各式之间由乍板相互隔开，各室由真空机组连接，可独立真空，送料机构由滚道式送料机构来实现送料，可根据工件在各室需停留的时间来确定送料的速度，工件可依次进入上面各室，从而来达到连续渗碳的目的。
文档编号C23C8/08GK101492802SQ200810242440
公开日2009年7月29日 申请日期2008年12月26日 优先权日2008年12月26日
发明者顾啸强 申请人:苏州市万泰真空炉研究所有限公司