专利名称：镀膜设备的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种真空镀膜设备，尤其涉及一种加热稳定的镀膜设备。
技术背景随着光学产品的发展，光学元件的应用范围越来越广。相应地，业界采用各种方法来制 造光学元件以适应市场对不同规格光学元件的需求(请参阅"Fabrication of Diffractive Optical Lens for Beam splitting Using LIGA Process" ， Mechatronics and Automation, Proceedings of the 2006 IEEE International Conference on, 卯.1242-1247， 2006.06)。通常来说，制造出的光学元件需经过后续处理以获得适于应用 的良好性能。镀膜工序为后续处理中的重要步骤之一。镀膜是指以物理或化学方法在光学元件表面镀 上单层或多层薄膜，利用入射、反射及透射光线在薄膜界面产生的干涉作用实现聚焦、准直 、滤光、反射及折射等效果。现在普遍采用真空溅射镀膜的方式在工件上产生薄膜，溅射镀膜过程中，惰性气体(通 常为氩气)在高压下辉光放电，产生氩离子，氩离子轰击靶材表面，使靶材表面的原子获得 能量并逸出表面，沉积在工件上形成薄膜。在溅射镀膜中，有时采用红外线灯管等红外线加热方式对工件进行加热，使得工件的温 度发生变化从而使靶材原子容易沉积在表面。但是，由于氩离子、靶材原子等带电粒子会落 在红外线灯管上，对红外线灯管造成干扰，使得加热不稳定。发明内容有鉴于此，有必要提供一种加热稳定的镀膜设备。一种用于对工件进行镀膜的镀膜设备，，其包括具有开口的第一腔体、设置在所述开口 处的挡板和红外线加热单元，所述红外线加热单元设置在所述第一腔体中，所述红外线加热 单元发出红外线对所述工件加热，所述挡板将所述红外线加热单元密封在所述第一腔体中， 所述红外线通过所述挡板后对所述工件进行加热。进一步地，，第一腔体的内壁上设置有反射单元。与现有技术相比，本发明实施例的镀膜设备的红外线通过挡板后对工件进行加热，从而 使得红外线加热单元不会受到其他物质的干扰，进而使得加热稳定。3另外，反射单元反射入射至第一腔体上的红外线，红外线被反射后穿过挡板，使得较多 的红外线通过挡板对工件进行加热，从而使得加热效率较高。
图l是本发明实施例提供的镀膜设备的示意图。
具体实施例方式
下面将结合附图对本发明作进一步详细说明。
如图12所示，其为本发明实施例提供的一种镀膜设备IO。该镀膜设备10包括腔体11、红 外线加热单元12、供气单元13、真空单元14、阴极15和阳极16。
腔体l 1由金属制成，其包括接地的第一腔体l 1 l和接地的第二腔体l 12。 红外线加热单元12设置在第一腔体111内并与第一腔体l 11电绝缘，其可以为红外线加热 灯管、红外线加热板等。在本实施例中，第一腔体lll为具有开口的拱形，其内壁设置有反 射单元122、开口处设置有一挡板121。反射单元122可以为通过溅镀方法设置在第一腔体 lll内的薄膜，薄膜的材料主要为氧化钛和氧化硅。挡板121的材料为铝酸盐玻璃或者类金刚 石碳(Diamond Like-Carbon, DLC)。其中，铝酸盐玻璃具有良好的热学、光学性质，红外 线的透过率较好，其包括钙铝酸盐玻璃、锶铝酸盐玻璃、钡铝酸盐玻璃、镁铝酸盐玻璃或铍 铝酸盐玻璃。
第二腔体112的一端具有开口，第一腔体111的开口与第二腔体112的开口相对形成腔体 11。第二腔体112的开口端设置有旋转单元124和阳极16 (—般接地)，阳极16用来固定被镀 膜的工件20，旋转单元124可以带动阳极16旋转以使工件20旋转。
红外线加热单元12发出的红外线部分直接穿过挡板121照射至工件20上，工件20吸收红 外线从而使得温度升高；其它部分的红外线被反射单元122反射后穿过挡板121。
阴极15位于第二腔体112的与工件20相对的一端，镀膜材料的靶30设置在阴极15上。
供气单元13和真空单元14均位于第二腔体112上，供气单元13用来向第二腔体112内输送 惰性气体，例如氩气(Ar)，真空单元14的功能是用来实现第二腔体112内的真空环境。
工件20需要被镀膜时，将工件20固定在阳极16上，真空单元14对第二腔体112抽取真空 以达到镀膜所需的真空度，通过供气单元13输入氩气，在阴极15和阳极16之间加几千伏电压 ，两极间即产生氩气辉光放电。氩气放电产生的氩离子在电场作用下飞向阴极15，与靶30表 面原子碰撞，耙原子受碰撞从耙30的表面在工件20表面沉积成膜。
本实施例的镀膜设备10具有多个优点，首先，由于挡板121的存在，耙原子和氩离子不 会落入第一腔体lll内，从而使得红外线加热单元12不会受到靶原子和氩离子干扰，使得加热稳定。其次，由于第一腔体111内设置有反射单元122，其可以将红外线反射再次穿过挡板 121，从而使得加热效率较高。再则，工件20可以在旋转单元124的带动下旋转，使得工件 20各处的温度均匀。
另外，本领域技术人员还可以在本发明精神内做其它变化，当然，这些依据本发明精神 所做的变化，都应包含在本发明所要求保护的范围之内。
权利要求
1.一种镀膜设备，用于对工件进行镀膜，所述镀膜设备包括具有开口的第一腔体和红外线加热单元，所述红外线加热单元设置在所述第一腔体中，所述红外线加热单元发出红外线对所述工件加热，其特征在于进一步包括一个设置在所述开口处的挡板，所述挡板将所述红外线加热单元密封在所述第一腔体中，所述红外线通过所述挡板后对所述工件进行加热。
2.如权利要求l所述的镀膜设备，其特征在于所述挡板的材料为 铝酸盐玻璃。
3.如权利要求2所述的镀膜设备，其特征在于所述铝酸盐玻璃包 括钙铝酸盐玻璃、锶铝酸盐玻璃、钡铝酸盐玻璃、镁铝酸盐玻璃或铍铝酸盐玻璃。
4.如权利要求l所述的镀膜设备，其特征在于所述挡板的材料为 类金刚石碳。
5.如权利要求2至4任一项所述的镀膜设备，其特征在于所述第一 腔体的内壁上设置有反射单元，所述红外线加热单元发出的红外线被所述反射单元反射后通 过所述挡板。
6.如权利要求5所述的镀膜设备，其特征在于进一步包括一个第 二腔体，所述红外线通过所述挡板入射至所述第二腔体。
7.如权利要求6所述的镀膜设备，其特征在于所述第二腔体设置 有抽真空单元和供气单元。
8.如权利要求6所述的镀膜设备，其特征在于所述第二腔体靠近 所述第一腔体开口的一端设置有旋转单元，所述旋转单元用来旋转所述工件。
9.如权利要求5所述的镀膜设备，其特征在于所述第一腔体内设 置有反射镜片组。
全文摘要
本发明涉及真空溅射镀膜设备，一种用于对工件进行镀膜的镀膜设备，其包括具有开口的第一腔体、设置在所述开口处的挡板和红外线加热单元，所述红外线加热单元设置在所述第一腔体中，所述红外线加热单元发出红外线对所述工件加热，所述挡板将所述红外线加热单元密封在所述第一腔体中，所述红外线通过所述挡板后对所述工件进行加热。红外线通过红外线穿透视窗后对工件进行加热，使得红外线加热单元不会受到其他物质的干扰、加热稳定。
文档编号C23C14/22GK101672934SQ20081030447
公开日2010年3月17日 申请日期2008年9月11日 优先权日2008年9月11日
发明者洪新钦 申请人:鸿富锦精密工业(深圳)有限公司;鸿海精密工业股份有限公司