专利名称：用于连续真空涂布网幅式材料的系统和方法
技术领域：
本发明涉及连续真空涂布可连续提供的网幅式材料(比如薄层(laminas)、膜或片材)的系统和方法。
背景技术：
由于新产品的问世和用于获得新产品的技术创新，塑料得到了重要的发展。这反过来使得这些产品改进其性质并延伸其应用范围。因此，在某些情况下，传统材料比如玻璃甚至钢已被塑料替代。 由于它们的结构性质，聚合材料通常在可塑性、变形性、重量、对氧化过程的保持性和稳定性上比金属有优势。即使如此，它们具有局限性，比如它们的硬度、抗磨损性、耐热性和机械一至文性(mechanical consistency)。 —般用于补偿这些缺陷的通常的方法是借助于不同类型的化学或物理处理的应用而保护它们。这些方法是表面涂布方法，也称为涂布。在某些情况下，借助于这些类型的处理，已实现出人意料的结果，能制造具有高机械性能的塑料。 通常在塑料上涂布的其他类型的涂层是通过PVD(物理汽相沉积)技术在真空条件下沉积的多层光学涂层。这些涂层更给予塑料特定的光学性质。 无论它是否是聚合材料，对于薄层或网幅式材料的涂布存在几种选择。其中之一对应于称为空对空(air-to-air)的技术，其中材料从大气压通过预备真空室进入沉积室，如文献GB2084264所述。该技术的优势在于巻绕和松绕在大气压下进行，但它的缺陷在于它只对金属衬底情形下的硬材料有效。 更具体地，网幅式材料(即塑料膜、薄层、片材或网幅的情形)的涂布的另一技术描述于文献W003/046251。根据该技术，巻绕和松绕室必须处于真空条件，因此系统的加载、卸载和穿过(threading)涉及打破真空。此外，它可以包括的沉积系统的数目非常有限。
已知处理塑料以改进其表面性质(特别是一些光学、化学和抗磨损性)的需求。如果对塑料进行特殊处理，则可以改进其他性质，比如阻氧效果和抗湿性。这些涂布方法中许多借助于真空PVD技术进行。在网幅式软材料(比如聚合膜或薄层)上涂布这些涂层存在很多困难。这些困难之一源于需要在真空条件下进行巻绕和松绕(W003/046251)。这意味着对膜的加载、卸载和穿过过程必须打破真空，损失后续的安装效率，因为打破真空，尤其是再获得真空所需时间长。另一个缺陷由网幅式材料借助于辊和张力器(tensioner)滑动和驱动的事实造成。这意味着网幅式材料受到张力，所述张力造成变形问题。
另一个重要的事实是由于网幅式材料通过辊支持，进行涂布的材料的长度受限，因而这样的材料可以进行的处理数目也受限。此外，这个问题在网幅式材料(比如聚合薄层材料)的情形下加剧，因为在某些沉积过程(例如在溅射过程)中，塑料带静电。这种现象引起产生沿着与运动方向平行的方向移动所述材料的力，这导致防止所述运动的张力增大。 用于在真空下涂布薄层材料或聚合膜的方法的另一缺陷在于其设计或构造不允许沉积过程前后的处理，产生在真空条件下进行这类处理的困难。 最后，当沉积过程从网幅式材料的上部进行时产生另一缺陷，因为沉积过程的所有残留物因重力落在待涂布的材料上，在涂层中引起缺陷，该缺陷严重影响产品品质、生产质量和生产过程盈利。 考虑上述所有问题，本发明公开了连续真空涂布网幅式材料的系统和方法，克服了现有技术的缺陷。
发明内容
本发明的目的是能进行大量处理的连续真空涂布可连续提供的网幅式材料的系
统。所述系统至少由下列部分组成 a)进给构件，其提供待涂布的网幅式材料； b)至少一个输入室，其中引入待涂布的网幅式材料，且在其中进行输入大气压和相邻涂布室的真空压力之间的转变； c)所述涂布室包括至少一个用于在网幅式材料上沉积金属和/或介电组分的真空沉积模块； d)至少一个输出室，在其中进行相邻涂布室的真空压力和大气压之间的转变；禾口
e)收集构件，其收集经涂布的网幅式材料。 为了解决现有技术的问题，本发明的系统的特征主要在于其还包含驱动和支持构件，网幅式材料通过其一个表面固定在所述驱动和支持构件上以运输，至少通过涂布室。
在本发明中，网幅式材料应当理解为可以连续供给所述系统的任何聚合或非聚合基材料。这指的是薄层、膜或片材，即，指的是借助于本发明描述的系统和方法处理的连续或非连续单元。因此，在本发明中，网幅式材料应当理解为适合于例如借助于进给巻盘(feel reel)连续地供给涂布室的任何类型的纸张、织物、膜或薄层。显然，当网幅式材料由任何性质的单独片材组成时，应理解提供了可以连续供给这些片材的构件。
薄层可以定义为任何材料的薄网幅，如果它可被巻绕的话也称为膜。在任何情况下，薄层材料、薄层或膜的表述的使用在本发明中没有区别。 根据本发明的另一特征，用于真空涂布网幅式材料的系统包含驱动和支持构件。网幅式材料连同这些构件沿着竖直取向的直线路径通过涂布室。 可选地，本发明的系统设置为使得驱动和支持构件及网幅式材料沿着水平取向的直线路径通过涂布室。 处于水平位置的本发明的系统的特征还在于真空沉积模块位于网幅式材料的自由表面下方并与之相对。 根据本发明的另一方面，真空沉积模块的位置使得涂布直接在网幅式材料上发生，并沿着与所述驱动和支持构件的前进运动方向垂直(因而和所述网幅式材料的方向垂直)的方向在所述网幅式材料上涂布。 根据本发明的系统的特征在于所述沉积模块选自不同的沉积技术，即物理汽相沉积(PVD)技术沉积模块、化学汽相沉积(CVD)技术沉积模块、热沉积模块、电子枪沉积模块、溅射或离子注入技术沉积模块和等离子体处理沉积模块。 所述系统可包含多个相同类型或性质的模块，或者可选地，所述涂布室的沉积模
5块可有几个，且具有不同的性质或类型。 优选包含至少一个包括一个以上磁控管的溅射或离子注入技术沉积模块的系统。
本发明的系统的特征在于所述驱动和支持构件优选由至少一个循环输送带形成，网幅式材料在所述输送带上涂布，所述网幅式材料连同所述输送带以整体的方式至少沿着涂布室向前移动。 根据本发明的另一特征，所述循环输送带涂有聚合粘合剂薄层，网幅式材料借助于热粘合过程可分离地涂布于所述薄层上。 根据本发明的系统的特征也在于所述聚合粘合剂薄层包含至少一种选自下列组
的化合物聚烯烃、EVA(乙烯_乙酸乙烯酯)、聚氨酯、PVB、或丙烯酸或其共聚物。 根据本发明的另一特征，所述系统具有用于牵引所述网幅式材料的机械牵引构
件，设置于输出室附近，适合于将已经涂布的网幅式材料与所述驱动和支持构件分离。 本发明的系统的特征也在于所述驱动和支持构件涂有粘合剂表层，网幅式材料借
助于接触过程和/或热粘合过程可分离地固定于所述表层上。 使用在至少一个表面上已涂布了粘合剂且适合于直接固定于驱动和支持构件的网幅式材料(比如膜)的系统也是本发明的目的。 根据本发明的系统的另一特征，所述进给构件由松绕装置(imwindingdevice)形成；所述收集构件由巻绕装置形成。 根据本发明的系统的特征在于所述输入室和输出室包含多个具有多个真空泵的隔间。 根据本发明的另一方面，所述系统在进给构件与驱动和支持构件之间；和在驱动和支持构件与收集构件之间包含张力控制构件。 根据本发明的系统的特征在于它包含用于沉积涂层的光学控制构件，它位于驱动和支持构件的出口。 根据本发明的系统的特征也在于它包含至少一个在网幅式材料与驱动和支持构件之间引起耦合(coupling)的压力辊。 根据本发明的系统的特征在于它包含分别位于真空沉积模块前或后的预处理和/或后处理站。 根据本发明的另 一 特征，所述预处理站由保护性薄层引出站(extractionstation)组成。 可选地，也根据本发明，所述预处理站由层叠涂布站组成。 根据本发明的系统的特征在于所述预处理站由用于通过喷涂和/或辊技术沉积保护层的沉积站组成。 根据本发明的另一特征，所述系统包含后处理站，所述后处理站由用于借助于保护层和网幅式材料的粘合和/或通过热熔粘接技术涂布保护层的涂布站组成。
可选地，所述后处理站由层叠涂布站组成。 可选地，所述系统包含后处理站，所述后处理站由用于通过喷涂和/或辊技术沉积保护层的沉积站组成。 根据本发明的系统的特征在于所述网幅式材料为薄层、膜或片材的形式。
所述网幅式材料优选为聚合膜。
本发明的另一目的是用于真空涂布网幅式材料的方法，所述方法包括涂布步骤， 其中进行至少一个用于沉积金属和/或介电组分的真空沉积操作；所述方法的特征在于在 所述涂布步骤中，网幅式材料沿着线性方向被驱动并支持至真空沉积模块，以沉积金属和/ 或介电组分。 根据本发明的方法的特征在于，所述网幅式材料沿着线性方向被驱动并支持至多
个用于将所述材料调节至工作压力的构件，从用于将所述材料调节至对其涂布最佳的真空
压力的调节步骤，直到用于将所述网幅式材料恢复至大气压的合适的输出步骤。 根据本发明的另一特征，用于真空涂布网幅式材料的方法还包括对所述网幅式材
料的预处理和/或后处理步骤。
通过非限制性实施例，附图显示本发明系统的实施方案。在所述附图中
图1是根据本发明的系统的示意性图示，本发明的方法借助于所述系统进行。
附图详述 如图1所示，用于真空涂布连续或非连续的网幅式材料2(比如多个片材)(比如 膜、薄层、布、纸)的系统1包含进给构件3 ;输入室4 ;包括多个真空沉积模块6的涂布室 5 ;输出室7 ;和收集构件8。 进给构件3提供待涂布的网幅式材料2，在所示的情形中为膜或薄层形式的材料， 并且收集构件8收集经涂布的网幅式材料22。所述进给构件3和所述收集构件8分别由松 绕装置31和巻绕装置81形成。 输入室4进行输入大气压和涂布室5的真空压力之间的转变，待涂布的网幅式材 料2引入输入室4中。另外，输出室7进行涂布室5的真空压力和经涂布的网幅式材料22 的输出气压之间的转变。所述输入室4和所述输出室7使用被称为空对空的系统以调节工 作压力。对称的两个室(4，7)具有多个隔间ll，隔间11具有多个真空泵12，其中工作压力 的调节都在进给和卸载下进行，存在空气，防止打破真空。通常，真空处理需要真空加载和 卸载室，使得系统的理想操作得以保证，在沉积室内达到高真空。在此情况下，为了达到并 调节涂布室5需要的真空，使用具有不同的泵容量和真空容量的泵(例如，高空气泵容量和 低真空泵，和高真空容量泵；在它们之间存在其他中间泵)，使得借助于中等真空泵或低真 空泵(主要是机械泵、旋转泵和罗茨泵(Roots pump)，和高真空泵(比如扩散泵、涡轮分子 泵或低温泵)逐渐达到真空。 涂布室5的真空沉积模块6在待涂布的网幅式材料2上进行金属和介电组分的真 空沉积。用于所述沉积的不同技术是物理汽相沉积，称为PVD ;热沉积；借助于电子枪进行 的沉积；溅射或离子注入；化学汽相沉积，称为CVD，或等离子体处理。也可使用几个溅射 室，它们中的每一个包括几个磁控管。许多其他技术也可使用并适用于实现所需材料的沉 积。 所述系统1还包含驱动和支持构件9，其用于提供在涂布室5中待涂布的网幅式材 料2，例如连续的聚合材料薄层形式的材料。所述驱动和支持构件9设置为使得所述网幅式 材料2至少在通过涂布室5时沿着直线路径，所述网幅式材料2通过它的一个表面固定于 所述驱动和支持构件9上以运输。
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由图1推断，涂布室5的真空沉积模块6位于网幅式材料2下方并和它的不与驱
动和支持构件9接触的自由或裸露表面相对。这种类型的分布便于进行真空涂布聚合或非
聚合的网幅式材料2的方法，所述方法可连续工作可进行多次处理。在所示的情形中，网幅
式材料2在输入室4的入口固定于驱动和支持构件9，并在输出室7的出口引出。 在图1所示的系统1中，真空沉积模块6的位置使得涂布直接在网幅式材料2上
进行，并沿着与驱动和支持构件9的向前移动方向垂直的方向涂布于其上。通过这种类型
的构造，有利地防止了沉积过程的可能的残留物因重力而落在待涂布的网幅式材料2上，
引起涂层的不均匀，显著影响产品的品质和总的涂布方法的盈利和效率。 所述驱动和支持构件9由循环输送带91形成，网幅式材料2涂布在所述输送带
上。这个循环输送带91是金属的，主要由钢或铝制成，借助于两个辊(92,93)驱动，其中之
一是驱动辊，它包括导向机构以防止循环输送带91的侧向位移。至少在涂布室5内，待涂
布的网幅式材料2连同所述循环输送带91以整体的方式向前移动。根据其他可能的变化，
所述输送带是弹性的或由聚合材料与无机产品的组合形成，符合适合用作输送带表面的机
械性质和厚度。 在一个优选的实施方案中，循环输送带91涂有聚合粘合剂膜(未显示)，网幅式材 料2借助于热粘合过程可分离地固定于其上。所述聚合粘合剂薄层包含选自下列组的聚烯 烃化合物EVA(乙烯-乙酸乙烯酯)或聚己烯。另外，它也按下列方式提供它是包含其他 化合物(比如选自下列组的化合物聚氨酯、PVB、丙烯酸或TPU)的聚合粘合剂薄层。用于 将网幅式材料2固定于聚合粘合剂薄层的热粘合过程可借助于加热系统在3(TC和13(TC之 间通过预热所述聚合粘合剂薄层92进行。作为整体，提供压力辊15，在网幅式材料2与驱 动和支持构件9之间引起耦合。 达到的温度和施加的压力必须适合于保证网幅式材料2在涂布室5中的沉积过程
期间粘合，但同时适合于在真空涂布过程结束后通过机械牵引将其分离。 在根据本发明的系统1中，优选在驱动和支持构件9中提供冷却系统，位于涂布室
5内部，防止网幅式材料2的温度过度增大。所述冷却系统由冷却水传导系统组成，所述系
统与循环输送带91接触或接近，从而它们通过辐射和/或传导交换热量。此外，它们可以
包括用于借助于电接地并和循环输送带91接触的辊除去驱动和支持构件9中的静电的系统。 除了至少能进行涂布步骤外，所述系统可包括子系统或站，其中进行对网幅式材 料2和对涂布的膜或软材料22的预处理和后处理步骤。因此，在预处理步骤中可借助于层 叠过程(几个膜粘合以改进其性质，或借助于通过喷涂或辊技术的其他材料的表面处理过 程)除去为了该目的而设置于网幅式材料2中的保护性薄层。可选地，在后处理步骤中，可 通过粘合或热熔粘接技术(hotmelt technique),以及通过喷涂或辊式技术在涂布的软材 料22上层叠或沉积保护层而放置保护性薄层。 在未显示的另一个方案中，所述驱动和支持构件9涂有粘合剂表层(未显示)，所 选的网幅式材料2借助于接触过程或热粘合过程固定于其上。 在也未显示的另一个方案中，在此情形下可两面都具有粘合性(通过接触或温 度)的网幅式材料2在它的一个表面上涂布了粘合剂以直接固定于驱动和支持构件9，且在 另一个表面上涂布了粘合剂以便于待沉积的材料的固定。
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此外，为了一直控制网幅式材料2的张力，系统1在进给构件3与驱动和支持构件 9之间；且在驱动和支持构件9与收集构件8之间具有张力控制构件13。
网幅式材料2的涂层品质的控制在系统1中借助于光学控制构件14进行，该光学 控制构件14用于控制沉积的涂层，设置于驱动和支持构件9的出口 。 关于系统1的工作顺序或过程，必须提到用于网幅式材料2的真空涂布的方法包 括下列步骤-进给步骤，借助于进给构件3，用于提供用于被处理的网幅式材料2 ; _调节步骤100，其中网幅式材料2达到的初始大气压逐渐变为对其涂布最佳的真
空压力；-涂布步骤101，借助于多个用于沉积金属和介电组分的真空沉积操作进行网幅 式材料2的涂布；-输出步骤102，进行和调节步骤IOO相反的过程，即，逐渐将网幅式材料2的真空 压力变为经涂布的薄层材料22的输出气压；禾口
-收集步骤，收集和储存经涂布的软材料22。 显著地，在涂布步骤101中，网幅式材料2沿着线性方向被驱动并支持至真空沉积 模块6以沉积金属和介电组分。具体地，沉积的方向垂直于网幅式材料2在系统1中的向 前移动方向，并沿着由下(真空沉积模块6所处的位置)到上(固定于驱动和支持构件9 的薄层材料2所处的位置)的方向。 如上所述，能在所述方法中包括对软材料(2， 22)的预处理和后处理特别重要。在 这些步骤中，所述可能性预计在于在薄层材料2中沉积金属或介电组分之前将添加剂层 叠或加入薄层材料2中；或用任何有益的组合物喷涂经涂布的软材料22，所述组合物例如 用于保护其中沉积了金属组分的所述材料22。 特别优选能和前述空对空技术一起工作，因为它便于使这些预处理和后处理步骤 或处理站可以像通过金属和/或介电组分的真空沉积的涂布步骤(101)那样连续进行，因 此不妨碍所述方法的任何步骤，使之更完整并提升其效率。 如果网幅式材料2由多个非连续的片材或薄层组成，则提供构件使得它们可以连 续地供给系统，特别是在涂布室5中。因此，可以考虑设置于适合被巻绕的连续膜上的多个 独立且可分离的片材，或用于分配所述连续引入涂布室5的独立的片材单元的构件。
已充分描述了用于网幅式材料2的真空涂布的系统1和方法，显然关于预处理或 后处理站的数量或种类，沉积模块6、进给构件3和收集构件8、驱动和支持构件9的数量或 种类的任何改变也成为本发明目的的一部分。
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权利要求
用于连续真空涂布并连续提供网幅式材料(2)的系统(1)，其包含a)进给构件(3)，其提供待涂布的网幅式材料；b)至少一个输入室(4)，其中引入待涂布的网幅式材料，且在其中进行输入大气压和涂布室(5)的真空压力之间的转变；c)所述涂布室包括至少一个用于在网幅式材料上沉积金属和/或介电组分的真空沉积模块(6)；d)至少一个输出室(7)，在其中进行涂布室的真空压力和大气压之间的转变；和e)收集构件(8)，其收集经涂布的网幅式材料；其特征在于，所述系统还包含驱动和支持构件(9)，网幅式材料通过其一个表面固定在所述驱动和支持构件上以运输，至少通过涂布室。
2. 根据权利要求1的用于真空涂布的系统(l)，其特征在于所述驱动和支持构件(9)及网幅式材料(2)在沉积室中沿着竖直取向的直线路径。
3. 根据权利要求1的用于真空涂布的系统(l)，其特征在于所述驱动和支持构件(9)及网幅式材料(2)在沉积室中沿着水平取向的直线路径。
4. 根据权利要求3的系统(1)，其特征在于所述真空沉积模块(6)位于网幅式材料(2)的裸露表面下方并与之相对。
5. 根据前述权利要求任一项的系统(l)，其特征在于所述真空沉积模块(6)的位置使得涂布直接在网幅式材料(2)上发生，并沿着和所述驱动和支持构件(9)的前进运动方向相垂直的方向在所述网幅式材料(2)上涂布，因而和所述网幅式材料的方向垂直。
6. 根据前述权利要求任一项的系统(l)，其特征在于所述沉积模块(6)独立地选自物理汽相沉积(PVD)技术沉积模块、化学汽相沉积(CVD)技术沉积模块、热沉积模块、电子枪沉积模块、溅射或离子注入技术沉积模块和等离子体处理沉积模块。
7. 根据权利要求1到6任一项的系统(1)，其特征在于其包含多个相同类型的沉积模块(6)。
8. 根据权利要求1到6任一项的系统(1)，其特征在于其包含多个不同性质的沉积模块(6)。
9. 根据前述权利要求任一项的系统(l)，其特征在于其包含至少一个包括一个以上磁控管的溅射或离子注入技术沉积模块(6)。
10. 根据前述权利要求任一项的系统(l)，其特征在于所述驱动和支持构件(9)由至少一个循环输送带(91)形成，所述网幅式材料(2)涂布在所述循环输送带(91)上，且所述网幅式材料连同所述循环输送带(91)至少沿着涂布室(5)向前移动。
11. 根据权利要求10的系统(1)，其特征在于所述循环输送带(91)涂有聚合粘合剂薄层，借助于热粘合过程，所述网幅式材料可分离地固定于所述薄层上。
12. 根据权利要求ll的系统(l)，其特征在于所述聚合粘合剂薄层包含至少一种下述化合物聚烯烃、EVA(乙烯-乙酸乙烯酯)、聚氨酯、PVB、或丙烯酸或其共聚物。
13. 根据前述权利要求任一项的系统(l)，其特征在于其具有用于牵引所述网幅式材料的机械牵引构件(IO)，该构件设置于输出室(7)附近，适合于将已经涂布的网幅式材料(22)与所述驱动和支持构件(9)分离。
14. 根据前述权利要求任一项的系统(l)，其特征在于所述驱动和支持构件(9)涂有粘合剂表层，所述网幅式材料(2)借助于接触过程和/或热粘合过程可分离地固定于所述表层上。
15. 根据前述权利要求任一项的系统(l)，其特征在于所述网幅式材料(2)的至少一个表面上涂有粘合剂并适合于直接固定于所述驱动和支持构件(9)。
16. 根据前述权利要求任一项的系统(l)，其特征在于所述进给构件(3)由松绕装置(31)形成；所述收集构件(8)由巻绕装置(81)形成。
17. 根据前述权利要求任一项的系统(l)，其特征在于所述输入室(4)和所述输出室(7)包含多个隔间(ll)，所述隔间(11)具有多个真空泵(12)。
18. 根据前述权利要求任一项的系统(l)，其特征在于其在进给构件(3)与驱动和支持构件(9)之间，和在驱动和支持构件与收集构件(8)之间包含张力控制构件(13)。
19. 根据前述权利要求任一项的系统(l)，其特征在于其包含设置于所述驱动和支持构件(9)的出口的光学控制构件(14)，用于控制沉积的涂层。
20. 根据前述权利要求任一项的系统(l)，其特征在于其包含至少一个压力辊(15)，所述压力辊(15)在网幅式材料(2)与所述驱动和支持构件(9)之间引起耦合。
21. 根据前述权利要求任一项的系统(l)，其特征在于其包含分别位于所述真空沉积模块(6)前或后的预处理站和/或后处理站。
22. 根据权利要求21的系统(l)，其中所述预处理站由保护性薄层引出站组成。
23. 根据权利要求21的系统(l)，其中所述预处理站由层叠涂布站组成。
24. 根据权利要求21的系统(1)，其中所述预处理站由用于通过喷涂和/或辊技术沉积保护层的沉积站组成。
25. 根据权利要求21的系统(l)，其中所述后处理站由用于借助于保护层和薄层材料(22)的粘合和/或通过热熔粘接技术涂布保护层的涂布站组成。
26. 根据权利要求21的系统(l)，其中所述后处理站由层叠涂布站组成。
27. 根据权利要求21的系统(1)，其中所述后处理站由用于通过喷涂和/或辊技术沉积保护层的沉积站组成。
28. 根据前述权利要求任一项的系统(l)，其特征在于所述网幅式材料(2)为薄层、膜或片的形式。
29. 根据前述权利要求任一项的系统(l)，其特征在于所述网幅式材料(2)是聚合膜。
30. 用于真空涂布网幅式材料(2)的方法，其包括涂布步骤(101)，其中进行至少一个用于沉积金属组分的真空沉积操作；其特征在于，在所述涂布步骤中，所述网幅式材料沿着线性方向被驱动并支持至真空沉积模块(6)，以沉积金属和/或介电组分。
31. 根据前述权利要求的方法，其特征在于，所述网幅式材料(2)沿着线性方向被驱动并支持至多个用于将网幅式材料调节至工作压力的构件，从用于将网幅式材料调节至对其涂布最佳的真空压力的调节步骤(ioo)，直到用于将网幅式材料恢复至通常的大气压的合适的输出步骤(102)。
32. 根据权利要求30到31任一项的用于真空涂布网幅式材料(2)的方法，其特征在于其还包括对网幅式材料(2， 22)的预处理步骤和/或后处理步骤。
全文摘要
本申请公开了用于连续真空涂布可连续提供的网幅式材料(2)的系统(1)，该系统具有进给构件；至少一个输入室(4)，在其中进行输入大气压和涂布室(5)的真空压力之间的转变，涂布室(5)包括至少一个用于在网幅式材料上沉积金属和/或介电组分的真空沉积模块(6)；至少一个输出室(7)；和收集经涂布的网幅式材料的收集构件(8)。所述系统还包含驱动和支持构件(9)，网幅式材料通过其一个表面固定在所述驱动和支持构件上以运输，所述材料至少在通过涂布室时优选沿着直线路径。
文档编号C23C14/56GK101778963SQ200880102767
公开日2010年7月14日 申请日期2008年8月5日 优先权日2007年8月20日
发明者F·比柳恩达斯尤斯特, G·伊达尔戈利纳斯, I·萨利纳斯阿里斯, R·阿隆索埃斯特万 申请人:诺沃热尼奥公司