专利名称：蒸发源及使用该蒸发源的蒸镀装置的制作方法
蒸发源及使用该蒸发源的蒸镀装置技术领域
本发明是关于一种蒸发源及使用该蒸发源的蒸镀装置。
技术背景
蒸镀装置已广泛用于各种电子零件的薄膜蒸镀，特别是用于半导体、LCD、有机电 场显示装置等电子装置及显示装置的薄膜形成中。如今，使用蒸发装置蒸镀形成薄膜也开 始用于各种电子装置的外观装饰中。
蒸镀装置是将蒸镀材料及被镀基板置于真空容器内，并由蒸发源加热蒸镀材料使 其蒸发或者升华而汽化，汽化后的蒸镀材料堆积在被镀基板的表面而形成薄膜。作为上述 蒸镀装置的蒸镀材料的蒸发源，提出有电阻加热式蒸发源、感应加热式蒸发源、电子束加热 式蒸发源、激光加热式蒸发源等，其中电阻加热式蒸发源是采用具有一定电阻的电极放热 对蒸镀材料进行加热，该蒸发源设备便宜、操作容易。
请参阅图1及图2，一种现有的电阻加热式蒸发源包括二导电杆10，该二导电杆 10两侧等间隔地、对称突出有多对等长的支撑件12，每对支撑件12可用于固定一发热电阻 14，蒸镀材料(图未示)则可通过缠绕等方式与该发热电阻14接触，由此可在导电杆10上 沿长度方向上连续地设置蒸镀材料。蒸镀时，多个待镀工件(图未示)可围绕该蒸发源旋 转地设置于该蒸发源的周边。上述蒸发源只在导电杆10的两侧(即相对的两个方向)设 置用于支撑蒸镀材料的支撑件12，且支撑件12等间隔、等长度设置，利用该蒸发源加热汽 化的蒸镀材料粒子在蒸发源周围的空间分布不均勻，导致待镀工件上形成的镀膜厚度不均 勻，从而影响使用该待镀工件的电子装置的功能或外观质量。发明内容
有鉴于此，有必要提供一种可形成均勻镀膜的蒸发源。
另外，还有必要提供一种使用该蒸发源的蒸镀装置。
—种蒸发源，其包括一电极组件以及多层支撑单元，该电极组件包括四间隔设置 的电极杆，该多层支撑单元沿该电极杆的长度方向间隔设置，每层支撑单元包括向不同方 向伸出的四支撑架，每一支撑架包括分别由相邻的二电极杆伸出的二支撑臂及若干架设于 该二支撑臂上的发热电阻丝，所述相邻二支撑单元之间的间距由邻近该电极杆两端朝邻近 该电极杆中部位置逐渐增大。
一种蒸镀装置，包括一真空腔室，及置于该真空腔室内的一蒸发源、一底座及固定 于底座上的多个用于放置待镀工件的固定架，该蒸发源设于该底座中央，该固定架可自转 地围绕该蒸发源旋转，该蒸发源包括一电极组件以及多层支撑单元，该电极组件包括四间 隔设置的电极杆，该多层支撑单元沿该电极杆的长度方向间隔设置，每层支撑单元包括向 不同方向伸出的四支撑架，每一支撑架包括分别由相邻的二电极杆伸出的二支撑臂及若干 架设于该二支撑臂上的发热电阻丝，所述相邻二支撑单元之间的间距由邻近该电极杆两端 朝邻近该电极杆中部位置逐渐增大。
上述蒸镀装置的蒸发源沿该电极杆设置多层支撑单元，且每层支撑单元包括四向 不同方向伸出的支撑架，每一支撑架分别由相邻的二电极杆上各伸出一支撑臂组成，且靠 近该电极杆两端位置的支撑单元较位于该电极杆中部位置的支撑单元密集。由此可使蒸镀 材料的汽化粒子均勻的分布在蒸发源周围，因此可于待镀工件上形成均勻的镀膜。
图1为一种现有的蒸发源的侧视示意图2为图1中蒸发源的局部立体示意图3为本发明较佳实施例蒸发源的立体示意图4为本发明较佳实施例蒸发源的局部示意图5为图4中V部的放大图6为使用图3所示蒸发源的蒸镀装置的剖面示意图。
具体实施方式
请参阅图3，本发明较佳实施例的蒸发源200，包括一电极组件22以及多层用于支 撑蒸镀丝材60(参见图幻的支撑单元M。
电极组件22的外围形状呈长方体形，其包括四电极杆220及位于该四电极杆220 端部、将该四电极杆220并联连接的连接部224，该四电极杆220为该长方体的四个棱柱设 置。该四电极杆220通过该连接部2M进行电导通。
请进一步参阅图4，每层支撑单元M包括四支撑架对0，该四支撑架240大致在同 一水平面延伸，且相邻的二支撑架MO的延伸方向大致互相垂直。
每一支撑架240包括分别由相邻的二电极杆220伸出的二支撑臂241及若干架设 于该二支撑臂241上的发热电阻丝M3。每一支撑架MO的二支撑臂241上对称开设有至 少一对卡固槽M12及邻近该卡固槽M12开设的一螺孔M14。每一螺孔M14用于螺接一 定位垫片2416。
每对卡固槽M12用于架设二线形的发热电阻丝M3，比如钨丝。发热电阻丝243 两两并排固定，从而在中间形成一容置槽，容置槽可用于放置一蒸镀丝材60 (请参阅图5)。 定位垫片M16用于压紧架设于支撑架240上的发热电阻M3，防止其掉落。所述电极组件 22及支撑臂241均由金属，如紫铜材料做成。所述多层支撑单元M沿电极杆220的长度 方向间隔设置，且靠近电极杆220两端位置的相邻二支撑单元M之间的间距向位于电极杆 220中部位置的相邻二支撑单元M之间的间距逐渐增大，靠近电极杆220两端位置的支撑 臂Ml的长度向位于电极杆220中部位置的支撑臂Ml的长度逐渐变小。
请参阅图6，使用上述蒸发源200的蒸镀装置300包括该蒸发源200、一底座30、固 定于底座30上的多个用于放置待镀工件的固定架40及一真空腔室50。
蒸发源200具有如上所述的结构。
底座30大致为环状，蒸发源200竖立于底座30的中央，底座30可围绕蒸发源200自转。
所述多个固定架40间隔设置于底座30的周缘，每一固定架40上设置有多个用于 摆放待镀工件70的工作台42。该多个固定架40可随底座30围绕蒸发源200旋转，并且每一固定架40可进行自转。
真空腔室50用于提供真空的蒸镀氛围。蒸发源200、一底座30及固定架40容置 于真空腔室50内。
用该蒸镀装置300对多个待镀工件70进行镀膜时，待镀工件70固定于工作台42 上，并随底座30围绕蒸发源200旋转，同时随固定架40进行自转。电极组件22通电后，发 热电阻丝243加热蒸镀丝材60，并使其汽化，汽化后的蒸镀材料粒子堆积在待镀工件70的 表面而形成薄膜。
上述蒸镀装置300的蒸发源200利用蒸镀材料的汽化粒子飞行路径的特点，每一 支撑单元M设置四个向不同方位延伸的支撑架对0，并使靠近电极杆220两端位置的相邻 二支撑单元M之间的间距向位于电极杆220中部位置的相邻二支撑单元M之间的间距 逐渐增大。同时，使组成支撑架MO的支撑臂241的长度由电极杆220两端位置向电极杆 220中部位置逐渐变小，从而使蒸镀材料的汽化粒子可以均勻的分布在蒸发源200周围，于 待镀工件上形成均勻的镀膜。
权利要求
1.一种蒸发源，其包括一电极组件以及多层支撑单元，其特征在于该电极组件包括 四间隔设置的电极杆，该多层支撑单元沿该电极杆的长度方向间隔设置，每层支撑单元包 括向不同方向伸出的四支撑架，每一支撑架包括分别由相邻的二电极杆伸出的二支撑臂及 若干架设于该二支撑臂上的发热电阻丝，所述相邻二支撑单元之间的间距由邻近该电极杆 两端朝邻近该电极杆中部位置逐渐增大。
2.如权利要求1所述的蒸发源，其特征在于所述支撑臂的长度由邻近该电极杆两端 朝该电极杆中部位置逐渐变小。
3.如权利要求1所述的蒸发源，其特征在于该电极组件的外围形状呈长方体形，该四 电极杆为该电极组件的四个棱柱设置。
4.如权利要求1所述的蒸发源，其特征在于每相邻二支撑架互相垂直地设置在同一 水平面。
5.如权利要求1所述的蒸发源，其特征在于每一支撑架的二支撑臂上对称开设有至 少一对卡固槽及邻近该卡固槽开设有一螺孔，每对卡固槽卡固二所述发热电阻丝，每一螺 孔螺接一定位垫片。
6.如权利要求1所述的蒸发源，其特征在于该电极组件还该包括位于该四电极杆端 部、将该四电极杆并联连接的连接部，该四电极杆通过该连接部进行电导通。
7.一种蒸镀装置，包括一真空腔室，及置于该真空腔室内的一蒸发源、一底座及固定于 底座上的多个用于放置待镀工件的固定架，该蒸发源设于该底座中央，该固定架可自转地 围绕该蒸发源旋转，该蒸发源包括一电极组件以及多层支撑单元，其特征在于该电极组件 包括四间隔设置的电极杆，该多层支撑单元沿该电极杆的长度方向间隔设置，每层支撑单 元包括向不同方向伸出的四支撑架，每一支撑架包括分别由相邻的二电极杆伸出的二支撑 臂及若干架设于该二支撑臂上的发热电阻丝，所述相邻二支撑单元之间的间距由邻近该电 极杆两端朝邻近该电极杆中部位置逐渐增大。
8.如权利要求7所述的蒸镀装置，其特征在于所述支撑臂的长度由邻近该电极杆两 端朝该电极杆中部位置逐渐变小。
9.如权利要求7所述的蒸镀装置，其特征在于该电极组件的外围形状呈长方体形，该 四电极杆为该电极组件的四个棱柱设置。
10.如权利要求7所述的蒸镀装置，其特征在于每相邻二支撑架互相垂直地设置在同 一水平面。
11.如权利要求7所述的蒸镀装置，其特征在于每一支撑架的二支撑臂上对称开设有 至少一对卡固槽及邻近该卡固槽开设有一螺孔，每对卡固槽卡固二所述发热电阻丝，每一 螺孔螺接一定位垫片。
12.如权利要求7所述的蒸镀装置，其特征在于该电极组件还该包括位于该四电极杆 端部、将该四电极杆并联连接的连接部，该四电极杆通过该连接部进行电导通。
全文摘要
本发明提供一种蒸发源，其包括一电极组件以及多层用于支撑蒸镀材料的支撑单元，该电极组件包括四间隔设置的电极杆，该多层支撑单元沿该电极杆的长度方向间隔设置，每层支撑单元包括四向不同方向伸出的支撑架，每一支撑架分别由相邻的二电极杆上各伸出一支撑臂组成，且靠近该电极杆两端位置的支撑单元较位于该电极杆中部位置的支撑单元密集。本发明还提供一种使用上述蒸发源的蒸镀装置。
文档编号C23C14/56GK102031485SQ20091030769
公开日2011年4月27日 申请日期2009年9月25日 优先权日2009年9月25日
发明者林圣来 申请人:深圳富泰宏精密工业有限公司