具有MCrAlX层和富铬层的层化的涂层系统及其生产方法

文档序号:3361038阅读:226来源:国知局
专利名称:具有MCrAlX层和富铬层的层化的涂层系统及其生产方法
具有MCrAIX层和富铬层的层化的涂层系统及其生产方法本发明涉及一种具有MCrAlX层、富Cr层的层化的系统,其具有独特的耐氧化和热腐蚀性,以及生产这样的系统的方法。优选的施用铝化物层。EP0587341描述了一种耐高温腐蚀复合涂层,这里该方法包括下面的步骤 -施涂MCrAlY类型的合金涂覆材料。-任选的铬化该MCrAlY类型的涂层,来产生具有铬化的顶层的涂层,其在涂层的M 成分中具有处于固溶体中的额外的铬。-铝化该涂层,来产生具有表面层的涂层,其含有涂层的M成分的铝化物。-将钼层沉积到该铝化的涂层的表面顶上。EP1327702描述了一种MCrAlY涂层系统,其包含β-NiAl内层和γ/β-MCrAlY和 TBC外层。在该文献中,据称可以通过加入0. 1-4%的Si来提高这些涂层的耐氧化性。该涂层是使用气相方法,CVD, PVD等来沉积的。US2005/0003227描述了类似于US' 227的系统,但是这里还包括钼类型金属的中间层。在该文献中,据称可以通过加入0. 1-4%的Si来提高这些涂层的耐氧化性。EP1029100/US6416882描述了一种MCrAlY类型的键合涂层,其包含最高m的硅。铝化物和/或铬改性的涂层系统也描述在US72^701,US6183888,US7060366, US6287644, EP1082216, US6001492, US5507623, EP1541808 和 US6569492 中。EP0587341描述了一种耐高温腐蚀复合涂层,这里该方法包括下面的步骤 -施涂MCrAlY类型的合金涂覆材料。-任选的铬化该MCrAlY类型的涂层,来产生具有铬化的顶层的涂层,其在涂层的M 成分中具有处于固溶体中的额外的铬。-铝化该涂层,来产生具有表面层的涂层,其含有涂层的M成分的铝化物。-将钼层沉积到该铝化的涂层的表面顶上。但是这些涂层仍然是不够好的。所以本发明的目标是解决这种问题。该问题是通过权利要求1的层系统和根据权利要求27的其生产方法来解决的。在从属权利要求中,列出了更有利的实施方案,其可以任意组合来获得另外的优
点ο本发明的观念基于不同的涂层化学,其适于在某些温度和环境标准中保护基底。 例如在高温氧化过程中,β-NiAl外层提供了通过在高温反应中,与系统中的氧气反应来形成致密的薄氧化铝而提供了保护,这种反应典型的是在工业中找到的类似的β-NiAl涂层,并且在文献中广泛记载的。在大约750°C -800°C高到大约950°C的温度,会发生宽的前腐蚀,这消耗了 Cr和Al未保护的基底材料。同样,使用形成β-NiAl涂层的氧化铝将保护抗I型腐蚀。但是,对于II型腐蚀来说,局部的蚀损类型的腐蚀是更可能的。在与SO2和 SO3相组合的气流中的熔融盐冷凝到涡轮部件上,这在所述表面上形成了小坑。对于这样的腐蚀最好的防御是引入富Cr涂层系统。本发明的重要方面是富Cr层是连续的,并且是尽可能热稳定的,所以如该部件是在II型腐蚀环境中运行的,则消耗了 β-NiAl,但是,腐蚀损伤被限制到β-NiAl外层,并且连续的α-Cr层提供了合适的保护,增加了提高涂层腐蚀保护的元素,例如但不限于Si或者Hf。加入MCrAlY涂层形式的应变适应基层,其提供了一定程度的应变适应性以及应当适应β-NiAl和α-Cr的最终保护层。通过设计,则该层化的涂层结构基本上允许环境“选择”最适于提供保护的涂料组合物。图3清楚的证实了这种观念。Si或者其他有益的元素的引入能够提高该α-Cr层的预期寿命。附图表示了


图1-5是层系统的实施例图6是燃气涡轮图7是叶片图8是燃烧室。附图和说明仅仅是本发明的实施方案。图1表示了一种示例性的部件1,作为本发明的层系统。部件1具有金属基底4,其优选包含耐热的浇铸的或者锻造的镍或者钴合金,其优选是 Hastelloy X。优选在(图4的a.))的基底4上,施涂了内层或者最低MCrX层7,特别的,施涂仅仅一个MCrX层7(图4的b.)),这里X是钇⑴和/或硅(Si)和/或硼⑶和/或铝 (Al)。该MCrX内层7包含MCrAlX',并且X’至少是钇⑴和优选仅仅是钇⑴。这个MCrAlX’内层7特别的包含NiCrAlY层和非常特别的包含(单位at%) Ni, 22%Cr, 10%A1,1. 0%Y,特别的由 Amdry 962 组成。该MCrX内层7优选是通过HVOF施涂的。该MCrX内层7还优选与基底4接触。在这个MCrX内层7之上或者之中,施涂了富铬层10 (图4的c.)),特别的是α -Cr 层。该铬化优选是在1000°c -1150°c的温度优选进行1-6小时,非常优选在1050°C -1075°C 的温度进行2h-4h。该铬化处理将至少部分的在内层7上产生扩散层(因此在图4 c中的7代表了内层7的厚度,或者代表存在着扩散层,并不是一种组合物)。该富铬层10优选是扩散层。这种层系统1优选进行热处理,以使得覆盖Cr层扩散到MCrAlX'内层7中。优选在这个α-铬层10上施涂了附加的另外的镍基层,第一 MCrX'’外层13,其优选是最外层(图4的d.))。这个MCrX' ’层的X’ ’优选是硅(Si)和硼(B)。此外,该第一 MCrX',外层13可以是含硅和/或硼的镍铬合金Ni-Cr_Si_B。这个第一 MCrX'’外层13具有与内层7不同的组成,并且非常特别的是NiCrSiB 层(Amdryl03,其组成为(单位:at%) 74% 的 Ni,17% 的 Cr,9. 2% 的 Y,9% 的 Si,0. 1% 的 B)。在施涂了 MCrX’ ’ (NiCrSiB)层之后,优选通过HVOF施涂之后,优选进行稳定化热处理。这种稳定化热处理是在优选1000°c -1200°c的温度优选进行1-6小时,优选在 1000-1025 °C的温度进行6h。优选第二外层19存在于第一外层13之上或者之中。该第二外层19是图3所示的富铝层。优选外层19是扩散层。该第一 MCrX'’外层13可以铝化来达到第二外层19 (图4的e.))。该铝化处理是在优选1050°C _1115°C的温度优选进行1-10小时,优选在1070°C _1095°C的温度进行讣。 优选进行最后的退火处理,其优选在1000°C -1150°C进行1-6小时,优选在1080°C进行池,
非常优选在真空中进行。在图2中表示了本发明另外一种实施方案。部件1具有金属基底4,其优选包含耐热的浇铸或者锻造的镍或者钴合金。在图2中,这个基底优选是“Hastelloy X ”,其是一种市售锻造镍合金,其名义上包含 47% 的 Ni, 22% 的 Cr, 18. 5% 的 Fe, 9% 的 Mo, 1. 5% 的 Co, 1% 的 Si, 1% 的 Mn, 0. 1% 的 C。优选在基底4上(图5的a.)),施涂第一 MCrX内层7 (图5的b.)),特别的施涂仅仅两个MCrX'层7’,16,这里X’至少是钇(Y)和优选仅仅是钇(Y)。这个第一 MCrAlX’内层7’特别的包含NiCrAlY层和非常特别的包含(单位 at%) 67% 的 Ni,22% 的 Cr, 10% 的 Al,1. 0% 的 Y,特别由 Amdry 962 组成。该第一 MCrAlX'内层7’优选通过HVOF来施涂。将第二内层16施涂到第一 MCrAlX'内层7’(图5的c.))。层16特别是MCrX’, 层,并且X’’ =Si和/或B。这个另外的层16具有不同于第一内层7’的组成,并且非常特别的是NiCrSiB层 (Amdryl03,其组成为(单位:at%) 74% 的 Ni, 17% 的 Cr, 9. 2% 的 Si,0. 1% 的 B)。第二内层16优选是通过HVOF来施涂的。在这个第二内层16之上或者之中,施涂富铬层10,特别的施涂α-Cr层(图5的 d.),所以图5 d)的标记16代表了内层16的厚度或者存在扩散层,其不是一种组合物)。该铬化优选是在1000°C -1150°C优选进行1_6小时,优选在1050°C _1075°C进行 2h-4h。该铬化处理将优选产生在第一内层7’上的扩散层。这个层系统1优选进行热处理,以使得覆盖α -Cr扩散到MCrAlX’内层7’中。在富铬层10上施涂铝化物层22 (图5的e.))。这优选是通过Ni电镀富铬层10和铝化这个电镀的Ni层来实现的。该Ni电镀层优选的厚度是10μπι-20μπι。优选在Ni电镀之后进行退火热处理,优选在1121° C优选进行池。这种退火处理优选真空进行。下面的铝化优选是在1080°C优选进行。在铝化之后,进行最后的退火热处理,优选在1080°C进行池。这种退火处理优选在真空进行。一般说明该铬化或者铝化会产生如图4,5所示的扩散层或者图1,2或者3所示的覆层。但是不限于此。两种结构都可以存在。下面描述另外一种优选的实施例
基层通过HVOF或者等离子体喷涂的MCrAlY (可以通过合适的选项例如VPS或者LPPS 来喷涂)。富Cr层通过CVD或者上面的源铬化方法来施涂。已经发现需要4 h的铬化周期来确保在随后的退火加工过程中稳定的Cr层。Ni =Ni 镀层,10 μ m-20 μ m
铝化通过CVD或者上述源铝化方法来施用。需要最后的退火来重新引入基底材料的机械性能。另外一种方案是使用下面的构造来施涂涂层系统,这里Si已经引入到涂层中 基层通过HVOF或者等离子体喷涂的MCrAlY (可以通过合适的选项例如VPS或者LPPS
来喷涂)。富Cr层通过CVD或者上面的源方法来过铬化MCrAlY达4h。这之后是使用HVOF 或者等离子体方法来施涂NiCrSiB (Amdry 103粉末或者类似的化学粉末)(可以通过合适的选项例如VPS或者LPPS来喷涂)。铝化通过CVD或者上述源铝化方法来施涂。需要最后的退火来重新引入基底材料的机械性能。图6表示了作为举例的,纵向零件区域形式的燃气涡轮100。在它的内部,该燃气涡轮100具有转子103,其是这样安装的,以使得它能够绕着旋转轴102来旋转,并且具有轴杆101,也称作涡轮转子。入口外壳104、压缩机105a(例如环形的燃烧室110,特别是环形的燃烧室,具有多个同轴排列的燃烧器107)、涡轮108和排气缸109是沿着转子103彼此先后排列的。环形燃烧室110例如是与环形的热气管111相连的,这里例如来自涡轮108的四个连续的涡轮级112。每个涡轮级112例如是由两个叶片或者翼片来形成的。如同在工作介质113的流动方向上可见的,由转子叶片120所形成的排125在热气管111中的导向片的排115之后。导向片130固定到定子143的内壳138上,而排125的转子叶片120例如依靠涡轮盘133安装到转子103上。发电机或者机器(未示出)偶合到转子103上。当燃气涡轮100运行时,压缩机105通过入口外壳104吸入空气135,并且压缩它。 该压缩的空气(其提供在压缩机105的涡轮侧端部)送入燃烧器107,这里将它与燃料混合。该混合物然后在燃烧室110中燃烧,来形成工作介质133。从这里,工作介质133沿着热气管111流动,通过导向片130和转子叶片120。工作介质113在转子叶片120处膨胀, 将它的动量转移,这样转子叶片120驱动了转子103,并且该转子驱动了所述机器偶合到其上。当燃气涡轮100运行时,曝露于该热工作介质113的部件进行了热负荷。在工作介质113的流动方向上可见,第一涡轮级112的导向片130和转子叶片120与热屏蔽元件 (其排列在环形燃烧室110中)一起经历了最高的热负荷。为了经受这里主要的温度,这些部件可以依靠着色剂来冷却。所述部件的基底同样可以具有定向结构,S卩,它们是单晶形的(SX结构)或者包括仅仅纵向定向的晶粒(DS结构)。作为例子,将铁基、镍基或者钴基超耐热合金用作所述部件的材料,特别的用于涡轮叶片和翼片120,130的材料和燃烧室110的部件的材料。这种类型的超耐热合金例如是从EP1204776 Bi, EP1306454, EP1319729 Al, W099/67435或者 W000/44949中已知的;这些文献构成了本发明关于合金化学组成的一部分。叶片和翼片120,130同样可以具有保护不受腐蚀的涂层(MCrAlX ;M是选自铁 0 ),钴(Co),镍(Ni)的至少一种元素,X是活性元素,并且代表了钇(Y)和/或硅和/或至少一种稀土元素或者铪)。这种类型的合金从EP0486489 Bi, EP0786017 Bi, EP0412397 Bl或者EP1306454 Al中是已知的,其目的是构成本发明关于合金化学组成的一部分。由例如&02、Υ204-^ 2组成的热障涂层(即,它不是通过氧化钇和/或氧化钙和/或氧化镁部分的或者完全的稳定的)也可以存在于MCrAlX上。柱状晶粒是通过合适的涂覆方法例如诸如电子束物理气相沉积(EB-PVD)而在该热障涂层中产生的。导向片130具有面朝涡轮108的内壳138的导向片底(这里未示出)和处于该导向片底的对面上的导向片头。该导向片头面朝着转子103,并且固定到定子143的固定环 140 上。图7表示了涡轮机的转子叶片120或者导向片130的透视图,其沿着纵轴121延伸。该涡轮机可以是飞机或者发电厂的用于发电的燃气涡轮,蒸气涡轮或者压缩机。叶片或者翼片120,130具有固定区400,邻接的叶片或者翼片台403和主叶片或者主零件406,沿着纵轴121连续排布。作为导向片130,所述翼片130在它的翼片尖端415 处可以具有另外的平台(未示出)。叶片或者翼片底183 (其用于固定转子叶片120,130到轴杆或者盘(未示出)上) 是在固定区400中形成的。叶片或者翼片底183例如设计成锤头形。其他的构造例如杉树或者楔形底也是可能的。叶片或者翼片120,130具有前缘409和后缘412,用于流过主叶片或者翼片零件406的介质。在常规的叶片或者翼片120,130的情况中,作为举例,在叶片或者翼片120,130的全部区域400,403,406中使用固体金属材料,特别是超耐热合金。这种类型的超耐热合金例如从 EP1204776 Bi, EP1306454, EP1319729 Al, W099/674;35 或者 W000/44949 中是已知的;这些文献构成了本发明关于合金化学组成的一部分。叶片或者翼片120,130在这种情况中可以通过浇铸方法,以及依靠定向凝固,通过锻造方法,通过钆制方法或者其组合来生产。将具有一种或多种单晶结构的工件用作机器的部件,其在运行过程中曝露于高的机械、热和/或化学负荷。这种类型的单晶工件例如是通过熔体的定向凝固来生产的。其包括了浇铸方法,在其中液体金属合金凝固来形成单晶结构,即,单晶工件,即,定向的。在该方法中,树枝形晶体是在热通量方向上形成的,并且形成了柱形晶粒结构(即,在工件的整个长度上延伸的晶粒,并且其在本文上下文中根据常规的术语称作是定向凝固的)或者单晶结构,即,整个工件由单晶组成。在这种方法中,需要避免向球形(多晶)凝固的转变, 因为非定向的生长不可避免的导致了形成横向和纵向晶粒边界,其削弱了定向凝固的或者单晶部件良好的性能。在通常提及定向凝固微结构时,这被理解为包括单晶(其不具有任何晶粒边界或者最多具有小角度晶粒边界)和柱状晶体结构(其具有在纵向上延伸的晶粒边界,但是不具有任何横向晶粒边界)二者。在后者的这些晶体结构的情况中,它也可以称作定向凝固微结构(定向凝固结构)。这种类型的方法从US60M792和EP0892090 Al中是已知的;这些文献构成了本发明的一部分。叶片或者翼片120,130还可以例如具有保护不受腐蚀或者氧化的涂层(MCrAlX ; M是选自铁0 )、钴(Co)、镍(Ni)的至少一种元素,X是活性元素,并且代表钇⑴和/或硅和/或至少一种稀土元素,或者铪(Hf))。这种类型的合金从EP0486489 Bi, EP0786017 B1,EP0412397 Bl或者EP1306454 Al中是已知的,其目的是构成本发明关于合金化学组成的一部分。还可以在MCrAlX上存在着例如由&02,Y2O4-ZrO2组成的热障涂层,即,其不是通过氧化钇和/或氧化钙和/或氧化镁来部分的或者完全的稳定的。柱状晶粒是通过合适的涂覆方法例如诸如电子束物理气相沉积(EB-PVD)来在该热障涂层中产生的。术语再抛光表示该保护层在它们已经使用之后可从部件120,130上除去(例如通过喷砂除去)。然后,除去该腐蚀和/或氧化层或者产物。如果需要,部件120,130中的裂纹还可以使用本发明的焊料来修复。这之后是重新涂覆该部件120,130,其后可以重新使用部件 120,130。叶片或者翼片120,130可以是实心或者空心设计。如果叶片或者翼片120,130打算冷却,则它是空心的,并且还可以包括薄膜冷却孔418 (用虚线表示)。图8表示了燃气涡轮100的燃烧室110(图6)。燃烧室110被构造成例如某些已知的环形燃烧室,在其中多种燃烧器107(其排列在圆周方向上的旋转轴102周围)开通到共用燃烧室空间154中,并且燃烧器107产生了火焰156。为此目的,燃烧室110整体是环形构造,其位于旋转轴102周围。为了实现相当高的效率,将燃烧室110设计成用于工作介质M的大约 1000°C-160(TC的相当高的温度。为了实现甚至在使用这些运行参数(其对于所述材料是不利的)时相当长的运行时间,燃烧室壁153在它面朝工作介质M的一侧上具有由热屏蔽元件155形成的内衬。每个由合金制成的热屏蔽元件155被装备到具有特别的耐热保护层(MCrAlX层和/或陶瓷涂层)的工作介质侧上或者是由能够经受高温的材料(实心陶瓷砖)来形成的。这些保护层可以类似于涡轮叶片或者翼片,即,表示例如MCrAlX :M是选自铁 0 ),钴(Co),镍(Ni)的至少一种元素,X是活性元素,并且代表钇(Y)和/或硅和/或至少一种稀土元素,或者铪(Hf)。这种类型的合金从EP0486489 Bi, EP0786017 Bi, EP0412397 Bl或者EP1306454 Al中是已知的,其目的是构成本发明关于合金化学组成的一部分。在MCrAlX上还可以存在着例如陶瓷热障涂层,其由例如&02,Y2O4-ZrO2组成,即, 它不是通过氧化钇和/或氧化钙和/或氧化镁部分的或者完全的稳定的。柱状晶粒是通过合适的涂覆方法例如诸如电子束物理气相沉积(EB-PVD)来在该热障涂层中产生的。术语再抛光表示该保护层在它们已经用使用之后可以从热屏蔽元件155上除去 (例如通过喷砂除去)。然后,除去该腐蚀和/或氧化层或者产物。如果需要,热屏蔽元件 155中的裂纹还可以使用本发明的焊料来修复。这之后是重新涂覆该热屏蔽元件155,其后可以重新使用热屏蔽元件155。此外,由于燃烧室110内部的高温,可以将冷却系统提供给热屏蔽元件155和/或它们的保持元件。热屏蔽元件155在这种情况例如是空心的,并且还可以包括薄膜冷却孔 (未示出),其开通到燃烧室空间154中。
权利要求
1.一种层系统(1),其包含基底⑷,在该基底(4)上的至少一个MCrX层(7,7’,16), 特别是作为最低层(7,7')的一个MCrX层(7,7'),特别是与基底(4)直接接触,其中X至少是钇(Y)和/或硅(Si)和/或铝(Al)和/或硼(B),其中M是镍(Ni)和/或钴(Co),和在至少一个MCrX层(7,16)之上或者之中的富铬层(10)。
2.根据权利要求1的层系统,其中仅仅一个最低的MCrX层(7)存在于基底(4)之上和富铬层(10)之下。
3 根据权利要求1的层系统,其中仅仅两个MCrX层(7’,16)存在于基底(4)之上和富铬层(10)之下。
4.根据权利要求2的层系统,其中该最低的MCrX层(7)是MCrAlX'层,其中X’至少是钇(Y),特别的X’是Y。
5.根据权利要求3的层系统,其中该第一内层(7’)是MCrAlX'层,其中X’至少是钇 (Y),特别的X’是Y。
6.根据权利要求3或者5的层系统,其中该第二内层(16)是MCrX'’层,其中X’’至少是硅(Si)和/或硼(B),特别的X,,是Si和B。
7.根据权利要求4或者5的层系统,其中该MCrAlX'内层(7)或者该第一MCrAlX'内层(7’)包含NiCrAlY合金,特别的由NiCrAlY合金组成。
8.根据权利要求7的层系统,其中该NiCrAlY内层(7)或者该第一NiCrAlY内层(7’) 包含(单位 at%):Ni、22% Cr、10% Al、l. 0%Y,特别的由 Amdry 962 组成。
9.根据权利要求1、2、3、4、5、6、7或者8的层系统,其中在至少一个MCrX层(7,16)上的该富铬层(10)包含α-铬层,特别的由α-铬组成。
10.根据权利要求1、2、4、7、8或者9的层系统,其中该富铬层(10)高于最低MCrAlX' 层(7)和/或是MCrAlX'层(7)中的扩散层,特别的该富铬层(10)仅仅是扩散层。
11.根据权利要求1、3、6或者9的层系统,其中该富铬层(10)高于第二内层(16)和/ 或是MCrX'’层(16)中的扩散层,特别的该富铬层(10)仅仅是扩散层。
12.根据权利要求1、2、9或者10的层系统,其中第一MCrX'’外层(13)存在于该富铬层(10)上,其中X’’至少是Y、Si和/或B,特别的X’’是Y、Si和/或B。
13.根据权利要求6或者12的层系统,其中该第二内层(16)或者该第一MCrX''外层 (13)包含 NiCrSiB 层,其包含 Ni、17%Cr、9. 2%Si、0. 1%B (at%),特别的由 NiCrSiB 组成,和非常特别的由Amdry 103组成。
14.根据权利要求12或者13的层系统,其中该第二外层(19)存在于第一MCrX'’外层 (13)之上或者之中,该第二外层(19)是最外层。
15.根据权利要求14的层系统,其中该第二外层(19)是富铝层,特别的是铝化物层,非常特别的包含β-NiAl结构。
16.根据权利要求12、13、14或者15的层系统,其中该第二外层(19)是铝化的第一 MCrX'‘外层(13)的一部分。
17.根据权利要求1、3、9、11、12或者13的层系统,其中将外层(22),特别是铝化物层 (22),非常特别的是NiAl层0 施用到富铬层(10)上,特别的通过在该富铬层(10)上铝化的Ni电镀层来施涂,特别的其中该Ni层的厚度是10 μ m-20 μ m。
18.根据权利要求4或者5的层系统,其中X'仅仅是Y。
19.根据权利要求6或者12的激光系统,其中X’’仅仅是Si和B。
20.根据一项或多项前述权利要求的层系统,其包含基底0)、一个或两个MCrX层(7, 7’,16)、富铬层(10)和富铝外层(19,22)。
21.根据前述权利要求1-20—项或多项的层系统,其由基底(4)、MCrX内层(7)、富铬层(10)、第一 MCrX'’外层(13)和第二外层(19)组成。
22.根据前述权利要求1-20之一的层系统,其由基底G)、第一内层(7’)、第二内层 (16)、富铬层(10)和外层(22)组成。
23.根据前述权利要求任一的层系统,在第一次使用之前将其加热处理。
24.根据权利要求1,20,21或者22的层系统,其中该基底(4)包含HastelloyX,特别的由Hastelloy X组成。
25.根据权利要求1、2、3、4、5、6、7、9、10、11、12、13、14、15、18、20、21或者22的层系统, 其中M仅仅是Ni。
26.根据权利要求1的层系统,其中X仅仅是Y、Si、Al或者B。
27.一种用于生产部件(1),特别的根据权利要求116任一的层系统的方法,其中在基底(4)上施涂至少一个MCrX层(7,7’,16),特别的通过HVOF来施涂,其中X至少是钇(Y) 和/或硅(Si)和/或铝(Al)和/或硼(B),和其中M是镍(Ni)和/或钴(Co),和其中生产了富铬层(10),特别是铬层(10)。
28.根据权利要求27的方法,其中将仅仅一个MCrX层(7)施用到基底⑷上,其优选通过HVOF来施用。
29.根据权利要求27的方法,其中将仅仅两个MCrX层(7’,16)施用到基底(4)上,其优选通过HVOF来施用。
30.根据权利要求四的方法,其中第二内层(16)是MCrX''层,并且施用到第一内层 (7')上,特别的通过HVOF来施用,其中X’’是硅(Si)和/或硼(B),特别的X’’是硅(Si) 和硼⑶。
31.根据权利要求30的方法,其中进行稳定化热处理,优选在1010°C进行和优选进行6h。
32.根据权利要求27、28、四、30或者31的方法,其中将该富铬层(10)通过铬化处理来施用,特别是在1050°C -1080°C,非常特别是在1065°C的温度特别进行池-处。
33.根据权利要求27或者32的方法,其中该富铬层(10)是通过CVD施用的。
34.根据权利要求27、32或者33的方法,其中重复该铬化,特别的重复四次。
35.根据权利要求27、32、33或者34的方法,其中第一外层(13)是MCrX'’层,并且施用到富铬层(10)上,特别的通过HVOF施用,其中X’’是硅(Si)和/或硼(B),特别的X’’ 是硅(Si)和硼(B)。
36.根据权利要求35的方法,其中进行稳定化热处理,优选在1010°C进行和优选进行6h。
37.根据权利要求35或者36的方法,其中施用富铝外层(19),特别的通过铝化来施用。
38.根据权利要求27、32、33或者34的方法,其中施用富铝外层(19,22)。
39.根据权利要求38的方法,其中该富铝外层0 是Ni-Al-层(22),特别的是铝化物层(22),并且通过电镀镍和随后铝化处理来实现。
40.根据权利要求37、38或者39的方法,其中该铝化是通过蒸气沉积,特别的通过CVD 来进行。
41.根据权利要求37、38、39或者40的方法,其中该铝化是在1080°C进行的,特别的进行讣。
42.根据权利要求39的方法,其中在电镀镍(Ni)之后进行稳定化热处理,优选在 1120°C进行,和优选进行池和非常优选在真空中进行。
43.根据权利要求37、38、39、40、41或者42的方法,其中在铝化后,将该层系统热处理, 特别是在真空中,非常特别是在1080°C中进行池。
全文摘要
本发明涉及一种层系统,其具有MCrX层和在该MCrX层上的富Cr层。
文档编号C23C4/18GK102459685SQ200980160683
公开日2012年5月16日 申请日期2009年5月26日 优先权日2009年5月26日
发明者韦瑟里尔 A., 麦克莫迪 B., 埃文斯 H., 尼科尔斯 J., 维内齐亚 J., 怀特赫尔斯特 M., 西姆斯 N., M. 沃克尔 P., 博克斯 P., 帕德利 P., 基尔歇 T., 路维斯 T. 申请人:西门子公司
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