专利名称：一种用于超薄基底的镀膜夹具的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及光学镀膜，特别特别是涉及到镀膜时用的一种镀膜夹具，尤其适合超薄基底的真空镀膜。
背景技术：
镀膜技术通常是在真空条件下采用物理或化学方法，使物体表面获得所需的膜体。当今真空镀膜技术及设备拥有十分宽泛的应用领域，并且在未来也拥有十分广阔的发展前景。真空镀膜技术特别用在制造大规模集成电路的电学膜、数字式纵向与横向均可磁化的数据纪录储存膜中。还用于制作能充分展示和应用各种光学特性的光学膜、在计算机显示用的感光膜、在TFT、PDP平面显示器上的导电膜和增透膜、在建筑、汽车行业上应用的玻璃镀膜和装饰膜、在包装领域用防护膜、阻隔膜。另外，在装饰材料上具有各种功能装饰效果的功能膜，在工、模具上应用的耐磨超硬膜，在纳米材料研究方面的各种功能性薄膜等等都是真空镀膜技术及设备在广泛应用的基础上得到的不断发展的技术领域分支。在通常情况下，光学镀膜对于真空环境要求更严，很小的缺陷都会影响其光学性能。镀膜前，一般需要将玻璃基底清洗或擦拭干净至无任何灰尘和污点后，放入特定的夹具中，为了最大的利用镀膜效率，夹具直径和镀膜均勻区相仿，夹取方式多采用螺丝或弹簧固定。但对于某些特定领域，如超薄基底，如采用以上方式装夹，基底在装夹和镀膜过程中容易因夹具和膜层的应力而碎裂，造成镀膜效率十分低。
发明内容本实用新型的目的在于克服上述现有技术存在的不足，提供一种新型的用于超薄基底的镀膜夹具。本实用新型的镀膜夹具用于小尺寸超薄基底的大批量生产，要求能够保护超薄基底使其安全可靠，生产效率高。为了达到上述发明目的，本实用新型提供的技术方案如下—种用于超薄基底的镀膜夹具，其特征在于，该镀膜夹具包括有金属底座、磁铁柱和金属片，所述的金属底座和金属片均为导磁材料制成，所述的金属底座上设有用于放置基片的凹槽和用于放置磁铁柱的小孔，所述的小孔位于凹槽的边角位置，所述磁铁柱放置小孔内以吸附在金属底座上，所述的金属片吸附于磁铁柱的顶端，所述的金属片外径大于磁铁柱的外径。在本实用新型的用于超薄基底的镀膜夹具中，所述金属底座上的凹槽为方形，多个方形的凹槽以方阵的形式规则排列，所述的小孔位于凹槽的顶角处。在本实用新型的用于超薄基底的镀膜夹具中，四个相邻的方形凹槽直角顶角相对处共用一个小孔。在本实用新型的用于超薄基底的镀膜夹具中，所述的金属片为圆形，其直径大于磁铁柱的直径，同圆心吸附于磁铁柱顶端的金属片部分伸出，金属片的伸出部分用以压住凹槽内的基片。基于上述技术方案，本实用新型的镀膜夹具在超薄基底的生产过程中具有如下技术效果1.本实用新型的镀膜夹具将金属底座上制作出很多小区域的凹槽，每个凹槽中均制作小面积的基片，可实现小基片的大批量镀膜。2.本实用新型的镀膜夹具采用磁铁的磁力吸引固定基片，基片限定在一定范围内，基片的四周均压有金属片，使其不能脱离其所在的凹槽范围，这样镀膜过程中基片不易被压碎，而且因磁性吸附方式固定，整个设备拆装十分简单方便。
图1是本实用新型一种用于超薄基底的镀膜夹具中金属底座的俯视结构图。图2是本实用新型一种用于超薄基底的镀膜夹具中磁铁柱的结构示意图。图3是本实用新型一种用于超薄基底的镀膜夹具中金属片的结构示意图。图4是本实用新型一种用于超薄基底的镀膜夹具的工作状态示意图。
具体实施方式
下面我们结合附图和具体的实施案例来对本实用新型的镀膜夹具做进一步的详细阐述，以求更为清楚明了地理解本实用新型的结构和工作过程，但不能以此来限制本实用新型的保护范围。本实用新型用于超薄基底的镀膜夹具的主要结构包括有金属底座1、磁铁柱2和金属片3ο上述的金属底座1和金属片3均采用导磁材料制成，目的是便于磁铁吸附。这里的导磁材料可以是钢铁等金属材料，要求其可以吸引磁铁。金属底座3的结构如图1所示，图1是本实用新型一种用于超薄基底的镀膜夹具中金属底座的俯视结构图。在金属底座3上设有凹槽11和小孔12。其中，凹槽11是为了放置基片4，小孔12则是用于放置磁铁柱2。小孔12位于凹槽11的边角位置，磁铁柱2放置小孔12内以吸附在金属底座1上。金属片3吸附于磁铁柱2的顶端，本实用新型中要求金属片3外径大于磁铁柱2 的外径。其目的是在金属片3吸附在磁铁柱2的顶端时，金属片3要部分突出于磁铁柱2， 这样金属片3就可以对位于多个磁铁柱2之间凹槽11内的基片4起到保护作用，将其限制在凹槽11不至于脱离。另外，由于是磁铁吸附，安装与拆除都很方便，大大提高生产效率。作为本实用新型的一个应用实例，金属底座1设计为圆形盘状，而金属底座1上的凹槽11则是方形，多个方形的凹槽11以方阵的形式规则排列，所述的小孔12位于凹槽11 的顶角处。在金属底座1上，每四个相邻的方形的凹槽11在四个直角顶角相对处共用一个小孔12。确保每个方形的凹槽11的四个顶角位置处均有一个小孔12。如图2和图3所示，金属片3设计为圆形，其直径大于圆形的磁铁柱2的直径，在使用时，要求金属片3同圆心吸附于磁铁柱2的顶端，这样磁铁柱2上的金属片3的边缘部分就会伸出，伸出部分的金属片3在金属底座1上投影在凹槽11内。方形的基片4大小与方形的凹槽11相当，其放置在方形的凹槽11内，由于金属片11边缘部分会延伸到凹槽11的上方，这就会对凹槽11内的基片4造成限制，使其在生产过程中不会脱离凹槽11。在基片4放置到凹槽11内时，如图4所示。在本实用新型的镀膜夹具装备时，先将基片4放于金属底座1的凹槽11内，磁铁柱2装于金属底座1的小孔内，最后采用金属圆片3压住基片4。在放置过程中，金属圆片 3以与小孔12保持同心圆，靠磁铁的磁力与金属底座1紧密连接并固定基片4。本实用新型采用磁性定位，装夹拆卸简单，相对于螺丝定位，基片受力均勻，受力大小适中，适合超薄基底等对机械性能要求很高的镀膜。同时，将镀膜夹具底座分割成很多小区域凹槽，可实现小基片的大批量镀膜。
权利要求1.一种用于超薄基底的镀膜夹具，其特征在于，该镀膜夹具包括有金属底座(1)、磁铁柱(2)和金属片(3)，所述的金属底座(1)和金属片(3)均为导磁材料制成，所述的金属底座(3)上设有用于放置基片(4)的凹槽(11)和用于放置磁铁柱(2)的小孔(12)，所述的小孔(12)位于凹槽(11)的边角位置，所述磁铁柱(2)放置小孔(12)内以吸附在金属底座(1) 上，所述的金属片(3)吸附于磁铁柱(2)的顶端，所述的金属片(3)外径大于磁铁柱(2)的外径。
2.根据权利要求1所述的一种用于超薄基底的镀膜夹具，其特征在于，所述金属底座 (1)上的凹槽(11)为方形，多个方形的凹槽(11)以方阵的形式规则排列，所述的小孔(12) 位于凹槽(11)的顶角处。
3.根据权利要求2所述的一种用于超薄基底的镀膜夹具，其特征在于，四个相邻的方形凹槽(11)直角顶角相对处共用一个小孔(12)。
4.根据权利要求1所述的一种用于超薄基底的镀膜夹具，其特征在于，所述的金属片 (3)为圆形，其直径大于磁铁柱(2)的直径，同圆心吸附于磁铁柱(2)顶端的金属片(3)，该金属片(3)部分伸出以压住凹槽(11)内的基片0)。
专利摘要本实用新型涉及一种用于超薄基底的镀膜夹具，该镀膜夹具包括有金属底座、磁铁柱和金属片，所述的金属底座和金属片均为导磁材料制成，所述的金属底座上设有用于放置基片的凹槽和用于放置磁铁柱的小孔，所述的小孔位于凹槽的边角位置，所述磁铁柱放置小孔内以吸附在金属底座上，所述的金属片吸附于磁铁柱的顶端，所述的金属片外径大于磁铁柱的外径。本实用新型的镀膜夹具用于小尺寸超薄基底的大批量生产，使得超薄基底的生产安全可靠，且生产效率高。
文档编号C23C14/50GK202193840SQ20112028298
公开日2012年4月18日 申请日期2011年8月5日 优先权日2011年8月5日
发明者刘毅楠, 张钦廉, 曹嘉寰, 李传文, 班超, 程春生, 符东浩, 赵浩 申请人:平湖中天合波通信科技有限公司