专利名称：溅射设备的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及液晶显示器制作技术领域，特别涉及一种溅射设备。
背景技术：
在液晶面板的制造工艺中，金属膜和透明导电膜通常需要通过溅射成膜的技术来实现。随着液晶面板尺寸的加大，高世代面板生产线基板朝大尺寸方向发展，对于溅射设备的要求也越来越高。在溅射成膜工艺中，一般采用托盘(Tray)作为玻璃基板的载体，通过托盘的承载，确保玻璃基板在溅射设备的腔体(Chamber)内完成成膜工艺和直立机械传动。如图4 所示，溅射设备包括依次连接的承载机(Position) 7、中间腔体8和换轨腔体(Traverse Chamber) 9，中间腔体8的一端与承载机7相连，另一端与换轨腔体9相连。如图1所示，为现有技术的溅射设备的承载机的立体图，承载机包括呈上下依次设置的磁导轨1、支架2及滚轮4，支架2位于磁导轨1和滚轮4之间，该支架2上可支撑用于设置其上的托盘3。如图 2所示，为现有技术的磁导轨1的立体图，磁导轨1包括横杆11和磁条12，横杆11上安装有三组磁条12，每组磁条12有两个，两个磁条12有间隙。如图3所示，为现有技术的托盘 3的立体图，托盘3包括在其下部设置的圆柱型滑杆31以及于其上部设置的磁性部件32， 磁性部件32的磁性与磁条12的磁性相反，比如，磁性部件32如果是S极，磁条12为N极， 进一步包括有固定玻璃基板的支撑件和固定件。中间腔体以及换轨腔体上部均设置有磁导轨，下部设置有滚轮，且下部均有两条轨道。在溅射成膜工艺中，首先由托盘3承载着玻璃基板水平放置在承载机的支架2上，然后控制支架2和磁导轨1由水平方向翻转到竖直方向上，竖直的托盘3底部的滑杆31这时位于滚轮4上，然后控制磁导轨1运行至托盘3上方，使得托盘3的磁性部件32位于磁条12的间隙中，这时托盘3的底部位于滚轮4上，磁性部件32由于与磁条12的磁性相反而依靠斥力能够无接触的在磁条12的空隙中保持竖直状态，然后支架2松开。托盘3在滚轮4上运行，由承载机一端运行至中间腔体，再运行到换轨腔体，换轨之后从换轨腔体运行至中间腔体再运行至承载机。现有技术的不足之处在于，由于托盘的尺寸和重量较大，其在运行过程中不可避免的存在震动；同时由于磁导轨与滚轮在竖直方向上有个角度偏差，导致托盘与竖直方向也存在一个倾斜角度，在承载机中当托盘由水平位置翻转至竖直位置时，以及在换轨腔室水平移动换轨后，震动幅度过大时很容易导致玻璃基板的损坏。此外在支架松开托盘并撤离之后，由于托盘与磁导轨并无接触，托盘将不可避免的产生震动，震动幅度过大时很容易导致玻璃基板损坏，在当前玻璃基板逐渐变薄的趋势下尤为严重。在换轨腔体处，托盘将有一个水平换轨动作，在换轨完成后，磁导轨翻转置于托盘上部，会产生震动导致玻璃基板的损坏。
实用新型内容(一)要解决的技术问题[0006]本实用新型要解决的技术问题是如何减少托盘在溅射成膜工艺中的震动，降低玻璃基板因震动导致的损坏几率。( 二 )技术方案为了解决上述技术问题，本实用新型公开了一种溅射设备，包括依次连接的承载机(Position)、中间腔体和换轨腔体(Traverse Chamber)，中间腔体的一端与承载机相连， 另一端与换轨腔体相连，还包括设置在所述承载机、中间腔体和换轨腔体上的托盘；所述承载机和换轨腔体的上部均具有磁导轨，所述承载机的磁导轨的底部右端设置有卡槽，所述换轨腔体的磁导轨的底部左端设置有卡槽，所述托盘两侧的顶部设置有卡扣，所述卡槽与卡扣形成卡合固定装置。其中，所述卡槽以固定连接或可拆卸连接的方式安装在磁导轨上。所述卡扣以固定连接或可拆卸连接的方式安装在托盘上。所述托盘完全位于承载机中时，所述承载机的卡槽与托盘右侧的卡扣的位置相对应。所述托盘完全位于换轨腔体中时，所述换轨腔体的卡槽与托盘左侧的卡扣的位置相对应。进一步地，所述磁导轨包括横杆，所述横杆上安装有若干组磁条。所述托盘顶部具有磁性部件，所述磁性部件的极性与磁条的极性相反。(三)有益效果上述技术方案具有如下有益效果通过在磁导轨的底部和托盘顶部的相应位置设置配套的卡槽和卡扣，使得托盘在承载机由水平位置翻转至竖直位置时，以及在换轨腔体中水平换轨时，都能够减少振幅过大，震动过多等问题，降低了玻璃基板的破碎损坏几率。
图1是溅射设备的承载机的立体图；图2是溅射设备的磁导轨的立体图；图3是溅射设备的托盘的立体图；图4是本实用新型的溅射设备的结构示意图；图5是本实用新型在卡槽和卡扣的固定下的托盘和磁导轨的结构示意图；图6是本实用新型的卡槽和卡扣的结构示意图。其中，1 :磁导轨；11 :横杆；12 磁条；2 支架；3 托盘；31 滑杆；32 磁性部件； 4 滚轮；5 卡槽；6 卡扣；7 承载机；8 中间腔体；9 换轨腔体。
具体实施方式
以下结合附图和实施例，对本实用新型的具体实施方式
作进一步详细描述。以下实施例用于说明本实用新型，但不用来限制本实用新型的范围。如图4所示，为本实用新型实施例的溅射设备的结构示意图，包括承载机7，若干个中间腔体8，换轨腔体9。本实施例中将承载机7所在的一端称为溅射设备的右端，换轨腔体9所在的一端称为溅射设备的左端。其中，承载机7的左端与中间腔体8的右端连接，中间腔体8的左端与换轨腔体9连接。中间腔体8可以包括加载/倾卸腔体、加热腔体以及溅射腔体。再结合图1、图2、图3、图5以及图6所示，承载机7的上部设置有磁导轨1，用于支撑托盘3的支架2，下部具有滚轮4。磁导轨1包括横杆11，横杆11上安装有三组磁条12， 每组磁条12有两个，两个磁条12之间具有一定间隙。托盘3的底部为圆柱型的滑杆31， 还有固定玻璃基板的支撑件和固定件，托盘3的顶部具有磁性部件32，磁性部件32的磁性与磁条12的磁性相反。磁导轨1底部的右侧，设置有卡槽5 ；托盘3两侧的顶部分别设置有卡扣6，当托盘3恰好完全位于承载机7中时，托盘3右端的卡扣6与卡槽5的位置相对应。换轨腔体9的上部也设置有磁导轨1，下部具有滚轮4。磁导轨1底部的左侧，设置有卡槽5，当托盘3恰好完全位于换轨腔体9中时，卡槽5的位置与托盘3左端的卡扣6 的位置相对应。再如图5所示，卡扣6可以是圆柱型体，以固定连接或可拆卸连接的方式安装在托盘3上；卡槽5具有与卡扣6的形状相适应的槽，也以固定连接或可拆卸连接的方式安装在磁导轨1上。在对玻璃基板进行溅射成膜的工艺中，首先由托盘3承载着玻璃基板水平放置在承载机7的支架2上，然后控制支架2和磁导轨1由水平方向翻转到竖直方向上，竖直的托盘3底部的滑杆31这时位于滚轮4上，然后控制磁导轨1运行至托盘3上方，使得托盘3 的磁性部件2位于磁条12的间隙中，这时托盘3的底部位于滚轮4上，磁性部件2由于与磁条12的磁性相反而依靠斥力能够无接触的在磁条12的空隙中保持竖直状态，且托盘3 右端的卡扣6卡在磁导轨1的卡槽5中，使得托盘3能够比较牢固的位于承载机7的磁导轨1中，然后支架2松开，托盘3在滚轮4上运行。托盘3由承载机7 —端运行至中间腔体 8，再运行到换轨腔体9，这时托盘3左端的卡扣6卡在换轨腔体9上的卡槽5中，使得托盘 3能够比较牢固的位于换轨腔体9的磁导轨1中。换轨之后托盘3从换轨腔体9运行至中间腔体8再运行至承载机7。由以上实施例可以看出，本实用新型实施例通过在磁导轨的底部和托盘顶部的相应位置设置配套的卡槽和卡扣，使得托盘在承载机由水平位置翻转至竖直位置时，以及在换轨腔体中水平换轨时，都能够减少振幅过大、震动过多等问题，降低了玻璃基板的破碎损坏几率。以上所述仅是本实用新型的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型技术原理的前提下，还可以做出若干改进和变型，这些改进和变型也应视为本实用新型的保护范围。
权利要求1.一种溅射设备，包括承载机、中间腔体、换轨腔体及托盘，所述承载机、中间腔体、换轨腔体成顺序设置，中间腔体两端分别与承载机与换轨腔体相连；所述托盘设置于所述承载机、中间腔体和换轨腔体上；所述承载机和换轨腔体的上部均设置有磁导轨，其特征在于，所述承载机、换轨腔体的磁导轨底部与托盘两侧的顶部卡合成固定装置。
2.如权利要求1所述的溅射设备，其特征在于，所述承载机的磁导轨的底部一端设置有卡槽，所述换轨腔体的磁导轨的底部一端设置有卡槽。
3.如权利要求2所述的溅射设备，其特征在于，所述托盘两侧的顶部设置有卡扣，所述卡扣收容于卡槽内，形成卡合固定装置。
4.如权利要求3所述的溅射设备，其特征在于，所述卡槽以固定连接或可拆卸连接的方式安装在磁导轨上。
5.如权利要求3所述的溅射设备，其特征在于，所述卡扣以固定连接或可拆卸连接的方式安装在托盘上。
6.如权利要求3所述的溅射设备，其特征在于，所述托盘完全位于承载机中时，所述承载机的卡槽与托盘右侧的卡扣的位置相对应。
7.如权利要求3所述的溅射设备，其特征在于，所述托盘位于换轨腔体中时，所述换轨腔体的卡槽与托盘左侧的卡扣的位置相对应。
8.如权利要求3所述的溅射设备，其特征在于，所述磁导轨包括横杆，所述横杆上安装有若干组磁条。
9.如权利要求8所述的溅射设备，其特征在于，所述托盘顶部具有磁性部件，所述磁性部件的极性与磁条的极性相反。
专利摘要本实用新型涉及液晶显示器制作技术领域，特别涉及一种溅射设备，包括承载机、中间腔体、换轨腔体及托盘，所述承载机、中间腔体、换轨腔体成顺序设置，中间腔体两端分别与承载机与换轨腔体相连，所述托盘设置于所述承载机、中间腔体和换轨腔体上；所述承载机和换轨腔体的上部均设置磁导轨，所述承载机的磁导轨的底部右端设置有卡槽，所述换轨腔体的底部左端设置有卡槽，所述托盘两侧的顶部设置有卡扣，所述卡槽与卡扣能卡合形成固定装置。本实用新型能够减少玻璃基板在溅射成膜工艺中振幅过大，震动过多等问题，降低了玻璃基板的破碎损坏几率。
文档编号C23C14/34GK202187058SQ20112029117
公开日2012年4月11日 申请日期2011年8月11日 优先权日2011年8月11日
发明者黄秋平 申请人:京东方科技集团股份有限公司, 合肥鑫晟光电科技有限公司