专利名称：可调式真空磁控溅射阳极罩的制作方法
技术领域：
本实用新型属磁控溅射镀膜设备技术领域，涉及一种改型可调式真空磁控溅射阳极罩。
背景技术：
ITO导电玻璃生产中，ITO膜层沉积一般采用物理气象沉积，属于真空磁控溅射。在磁控溅射设备中，靶材上方置有阳极罩，用来控制有效溅射面积。在制备过程中，衬底相对于靶材做横向运动，因此在一定角度内，相同功率下有效溅射面积越大等效的沉积速率相应越大。ITO膜层方阻与沉积膜层厚度有密切关系。在一定程度上ITO膜层厚度与其方阻大小成反比，即膜层厚度大的相应方阻偏小，因此可通过改变阳极罩上溅射孔纵向宽度调节相应纵向位置的方阻大小。在生产过程中由于箱体内部气氛，靶材，靶材磁场等因素影响，产品容易出现方阻较稳定，但纵向呈现渐变现象。多出现上高下低、上低下高或中间方阻与两端方阻不同的现象。目前溅射设备中阳极罩溅射孔多为固定大小，或为装有纵向宽度统一改变的活动挡板，针对上述现象均不能快速方便的解决。
实用新型内容本实用新型针对现有技术中沉积ITO膜时出现的方阻大小在横向稳定但在纵向出现一致性的变化趋势的现象，提供一种能在非停机状态下通过调整纵向相应位置溅射孔宽度，实现相应纵向位置溅射速率的改变，使工艺快速达到要求状态，进而快速恢复生产，能有效节省相应资源并能调节有效溅射区域的阳极罩。技术方案一种可调式真空磁控溅射阳极罩，包括固定在靶背面的阳极罩，阳极罩的外侧面上设置有阳极罩溅射孔，其中，所述阳极罩溅射孔为矩形孔，在阳极罩溅射孔的一侧设置有可以调节的活动挡板。所述活动挡板包括上半部分和下半部分，两部分之间通过销轴铰接在一起，所述销轴固定在阳极罩上表面；所述两部分活动挡板非固定端可绕其固定节点转动。所述上、下两部分挡板的非固定端绕节点运动时在阳极罩上表面移动，保证其与阳极罩上表面平行。上半部分活动挡板的上侧和下半部分活动挡板的下侧分别通过销轴铰接有上、下两个水平推板，上、下两个水平推板的末端分别通过销轴铰接在上、下L型推杆的拐脚末端；所述L型推杆的横杆横向贯穿阳极罩，贯穿的轴孔设置密封结构。所述密封结构包括焊接在推杆上的环形外延垫片，环形密封垫，定位室；所述定位室位于靶背板的底面上，定位室和靶背板上同时设置有轴孔，L型推杆的横杆安装于该两轴孔中，所述环形外延垫片位于定位室内腔中，所述环形密封垫位于环形外延垫片与靶底面之间。所述L型推杆的横杆末端装有把手，能够对该L型推杆进行旋转操作，同时联动L型推杆及活动挡板实现调节溅射孔纵向有效溅射宽度。[0009]本实用新型的有益效果活动挡板分上、下两部分，中间由可旋转支点连接，能灵活调节靶材的有效溅射面积，应用于ITO导电玻璃生产。也可实现对阳极罩溅射孔上、下的宽度进行单独调整，能够处理多种工艺调节中常为出现的方阻状态。通过实现挡板推杆与外部L型推杆联动，实现在箱体外部对活动挡板进行调整，能够在非停机状态下对工艺进行改善，保证在工艺调试中尽量减少停机破空次数，有效缩短恢复工艺时间。
图I是本实用新型阳极罩活动挡板装配俯视图，右侧为上端。图2是本实用新型阳极罩活动挡板装配侧视图，右侧为上端。图3是本实用新型阳极罩活动挡板密封设置局部剖视图。图中1、靶背板；2、阳极罩；3、阳极罩溅射孔；4、上半部分活动挡板；5、下半部分活动挡板；6，8、水平推杆；7，9、L型推杆；10、上、下挡板连接销轴；11，14、水平推杆与活动挡板连接销轴；12，13、水平推杆与L型推杆连接销轴；15、环状密封垫；16、焊接在L型推杆上的环状外延垫片；17、定位室。
具体实施方式
实施例一参见图1，所述阳极罩2固定于靶背板I上遮罩于靶材之上；所述阳极罩2中间开有矩形阳极罩溅射孔3 ;在阳极罩溅射孔3的一侧设置有可调节的活动挡板，所述活动挡板包括上半部分活动挡板和下半部分活动挡板。上半部分活动挡板4及下半部分活动挡板5位于溅射孔一侧，由可旋转的销轴10连接，可旋转的销轴10固定于阳极罩2上。上、下两个水平推杆6、8通过可旋转的销轴11、14分别与上、下两个活动挡板4、5固定端连接；所述L型推杆7、9通过可旋转的销轴12、13与水平推杆6、8连接。参见图2，所述L型推杆7、9分别包括横杆和拐脚，横杆垂直穿过靶背板I外侧进入内侧与其拐脚成直角。L型推杆的横杆与阳极罩及靶背板之间设置密封结构。密封结构参见图3，由环形密封垫15、环形外延垫片16、定位室17组成，所述环形外延垫片16焊接于L型推杆7上，所述环形密封垫15套于L型推杆上且位于垫片16与靶背板I之间；所述环形密封垫15与环形垫片16位于定位室17内部。图3中，所述定位室17上盖板经螺栓固定后可保证密封垫与上、下密封面之间的气密性。在实际操作中若上端方阻偏小，说明其膜层较厚，可通过把手旋转上端L型推杆7联动水平推杆6使活动挡板上半部分4向内侧移动，适当减小上端溅射面积，使上端等效溅射速率降低，进而使上端方阻升高。实例在ITO导电玻璃生产中，整架工艺出现纵向方阻上高下底横向方阻稳定现象，可在非停机状态下，通过调节外部把手使上半部分活动挡板4非固定端向外侧横向移动，下半部分活动挡板5非固定端向内侧横向移动，使阳极罩溅射孔等效溅射速率上端增大下端减小，从而使上端方阻降低下端方阻升高满足工艺要求。在上述实例中，也可以先调节靶材整体溅射功率，使上端或下端满足工艺要求，进而调节相应下端或上端挡板使其满足工艺要求。同样当生产中出现，整架工艺出现纵向方阻上低下高横向方阻稳定时或中间与两端不相同横向方阻稳定时，均可按本技术方案结合靶材溅射功率进行调试。
权利要求1.一种可调式真空磁控溅射阳极罩，包括固定在靶背面的阳极罩，阳极罩的外侧面上设置有阳极罩溅射孔，其特征是所述阳极罩溅射孔为矩形孔，在阳极罩溅射孔的一侧设置有可以调节的活动挡板。
2.根据权利要求I所述的可调式真空磁控溅射阳极罩，其特征是所述活动挡板包括上半部分和下半部分，两部分之间通过销轴铰接在一起，所述销轴固定在阳极罩上表面；上半部分活动挡板的上侧和下半部分活动挡板的下侧分别通过销轴铰接有上、下两个水平推板，上、下两个水平推板的末端分别通过销轴铰接在上、下L型推杆的拐脚末端；L型推杆的横杆横向贯穿阳极罩，贯穿的轴孔位置设置密封结构。
3.根据权利要求2所述的可调式真空磁控溅射阳极罩，其特征是所述密封结构包括焊接在推杆上的环形外延垫片，环形密封垫和定位室；所述定位室位于靶背板的底面上，定位室和靶背板上同时设置有轴孔，L型推杆的横杆安装于该两轴孔中，所述环形外延垫片位于定位室内腔中，所述环形密封垫位于环形外延垫片与靶底面之间。
4.根据权利要求2或3所述的可调式真空磁控溅射阳极罩，其特征是所述L型推杆的横杆末端装有把手。
专利摘要本实用新型公开了一种可调式真空磁控溅射阳极罩，包括固定在靶背面的阳极罩，阳极罩的外侧面上设置有阳极罩溅射孔，其中，在阳极罩溅射孔的一侧设置有可以调节的活动挡板，所述活动挡板包括铰接在一起的上半部分和下半部分，上、下两部分挡板的非固定端绕节点运动时在阳极罩上表面移动，保证其与阳极罩上表面平行。本实用新型能灵活调节靶材的有效溅射面积，也可实现对阳极罩溅射孔上、下的宽度进行单独调整，能够处理多种工艺调节中常为出现的方阻状态。L型推杆可以对活动挡板进行调整，能够在非停机状态下对工艺进行改善，有效缩短恢复工艺时间。
文档编号C23C14/35GK202744623SQ20122039331
公开日2013年2月20日 申请日期2012年8月5日 优先权日2012年8月5日
发明者赵跃林, 彭春超, 林果 申请人:许昌天地和光能源有限公司