壳体及其制作方法
【专利摘要】本发明提供一种壳体及该壳体的制作方法。该壳体包括基体及依次形成于基体表面的打底层、过渡层、及颜色层，该打底层为钛和M的混镀层，其中M选自铬、铝、或硅中的一种；该过渡层为氧化层，且所述氧化层为氧化铝层、氧化锆层、或二氧化硅层；该颜色层为钛铝氮层。该壳体的制作方法包括如下步骤：提供一基体；采用真空镀膜法在该基体的表面依次形成打底层、过渡层、及颜色层，该打底层为钛和M的混镀层，其中M选自铬、铝、或硅中的一种；该过渡层为氧化层，且所述氧化层为氧化铝层、氧化锆层、或二氧化硅层；该颜色层为钛铝氮层。
【专利说明】壳体及其制作方法
【技术领域】
[0001]本发明是关于一种壳体及其制作方法，尤其涉及一种具有高硬度及釉瓷外观的壳体及其制造方法。
【背景技术】
[0002]现有技术，通常采用喷涂方式于电子产品的壳体表面形成紫色的装饰性膜层，以使壳体呈现出紫色釉感的外观。然而，由于喷涂技术本身的缺陷，喷涂形成的装饰性膜层难以具有高光泽性，使上述壳体无法呈现出如釉瓷般的细腻、通透、清洁等视觉或外观效果。此外，经喷涂形成的装饰性膜层硬度较低，易被刮伤。
【发明内容】
[0003]鉴于此，本发明提供一种易于制备的具有高硬度及釉瓷外观的壳体。
[0004]另外，本发明还提供一种上述壳体的制作方法。
[0005]一种壳体，其包括基体及依次形成于基体表面的打底层、过渡层、及颜色层，该打底层为钛和M的混镀层，其中M选自铬、铝、或硅中的一种；该过渡层为氧化层，且所述氧化层为氧化铝层、氧化锆层、或二氧化硅层；该颜色层为钛铝氮层。
[0006]一种壳体的制作方法， 其包括如下步骤:
提供一基体；
采用真空镀膜法在该基体的表面依次形成打底层、过渡层、及颜色层，该打底层为钛和M的混镀层，其中M选自铬、铝、或硅中的一种；该过渡层为氧化层，且所述氧化层为氧化铝层、氧化锆层、或二氧化硅层；该颜色层为钛铝氮层。
[0007]相较于现有技术，所述的壳体通过在基体表面依次镀覆一打底层、一过渡层、及一颜色层，通过该三层的综合作用，使所述壳体的表面光滑、润泽，呈现釉瓷般的质感。此外，该镀膜件具有较高的强度，不易被刮伤。
【专利附图】
【附图说明】
[0008]图1是本发明一较佳实施例壳体的剖视图；
图2是本发明一较佳实施例真空镀膜机的示意图。
[0009]主要元件符号说明
【权利要求】
1.一种壳体，其包括基体及依次形成于基体表面的打底层、过渡层、及颜色层，其特征在于:该打底层为钛和M的混镀层，其中M选自铬、铝、或硅中的一种；该过渡层为氧化层，且所述氧化层为氧化铝层、氧化锆层、或二氧化硅层；该颜色层为钛铝氮层。
2.如权利要求1所述的壳体，其特征在于:所述基体的材质为模具钢、陶瓷、或不锈钢。
3.如权利要求1所述的壳体，其特征在于:所述打底层的厚度为0.f0.3μπι ;该打底层中，钛的质量百分比为50~70%，M的质量百分比为30~50%。
4.如权利要求1所述的壳体，其特征在于:所述过渡层的厚度为0.3^0.5 μ m0
5.如权利要求1所述的壳体，其特征在于:所述颜色层的厚度为0.5~1μπι，且该颜色层呈紫色；该颜色层中，氮化钛的质量百分比为30-40%，氮化铝的质量百分比为60~70%。
6.一种壳体的制作方法，其包括如下步骤: 提供一基体； 采用真空镀膜法在该基体的表面依次形成打底层、过渡层、及颜色层，该打底层为钛和M的混镀层，其中M选自铬、铝、或硅中的一种；该过渡层为氧化层，且所述氧化层为氧化铝层、氧化锆层、 或二氧化硅层；该颜色层为钛铝氮层。
7.如权利要求6所述的壳体的制作方法，其特征在于:采用一真空镀膜机对该基体进行镀覆处理，该真空镀膜机包括一镀膜室及设置于该镀膜室中的一治具、一第一靶材、一第二靶材、一第三靶材、及一第四靶材，该第一靶材为钛靶，该第二靶材为铬靶、铝靶、或硅靶，该第三靶材为铝靶、锆靶、或硅靶，该第四靶材中含有钛和铝，其中该第四靶材中钛的质量百分含量为40~50%，铝的质量百分含量为50~60%。
8.如权利要求7所述的壳体的制作方法，其特征在于:形成所述打底层的方法为:开启第一靶材和第二靶材，调节该镀膜室内的占空比为45~55%，对该基体施加偏压为30(T350V，以氩气为工作气体，氩气的流量为10(Tl50sccm，镀膜时间为l(T20min。
9.如权利要求7所述的壳体的制作方法，其特征在于:形成所述过渡层的方法为:开启第三靶材，调节该镀膜室内的占空比为40-50%，对该基体施加偏压为25(T300V，以氩气为工作气体，氩气的流量为10(Tl50sccm，以氧气为反应气体，氮气的流量为25(T300sccm，镀膜时间为5(T60min。
10.如权利要求7所述的壳体的制作方法，其特征在于:形成所述颜色层的方法为:开启第四靶材，调节该镀膜室内的占空比为30-45%，对该基体施加偏压为25(T300V，以氩气为工作气体，氩气的流量为6(T80sccm，以氮气为反应气体，氮气的流量为25(T300sccm，镀膜时间为35~45min。
【文档编号】C23C14/06GK104032260SQ201310074121
【公开日】2014年9月10日 申请日期:2013年3月8日 优先权日:2013年3月8日
【发明者】张春杰 申请人:深圳富泰宏精密工业有限公司