专利名称：一种具有辅助开口的掩模板的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种掩模板，具体涉及一种具有辅助开口的掩模板及其制作方法，属于OLED掩模板制造领域。
背景技术：
OLED相对其它显示屏具有可视范围宽、响应快、功耗小等突出优点，因此OLED显示技术日益受到人们的关注。蒸镀工序是OLED显示技术的一个重要环节，蒸镀中需要用到蒸镀用的掩模板，有机蒸镀材料通过掩模板的开口蒸镀淀积到ITO玻璃面，其中掩模板的开口精度会直接影响到蒸镀质量。目前常用的一种掩模用具，如图1所示是一种具有掩模开口的掩模板，图1中，11为掩模板主体，12为外框，13为掩模区域,14为焊点,掩模板制作好后，需要将其绷网使板面及掩模区域均受到一定的拉力，其目的是使板面平整且使掩模区域开口间的狭长金属丝绷紧(保证开口精度，防止下垂)，绷网的具体操作通常是:将掩模板通过固定孔固定到绷网机构上一绷拉(使板面平整且使金属丝绷紧)一激光焊接(将掩模板主体11固定到外框12上，焊点为14)—沿半刻线将半刻线(图中未示出半刻线)以外的区域撕下，即已经固定好掩模板。但固定后掩模区域13的中间部分受力均匀，两边邻近掩模板金属部分受力较小，开口间的狭长金属丝会下垂，致使两边的开口精度不高，从而影响蒸镀质量，为此有必要提出一种掩模板结构解决此问题。
实用新型内容有鉴于此，需要克服现有技术中的上述缺陷中的至少一个。本实用新型提供了一种具有辅助开口的掩模板及其制作方法。一种具有辅助开口的掩模板，包括掩模板主体，所述掩模板主体上有掩模图案，所述掩模图案由掩模开口组成；辅助开口图案，所述辅助开口图案由辅助开口构成，所述辅助开口位于所述掩模板主体上，并分布在所述掩模图案两侧，所述辅助开口长度方向与所说掩模开口长度方向平行。根据本专利背景技术中对现有技术所述，如图1所示，将掩模板通过固定孔固定到绷网机构上绷拉，使板面平整且使金属丝绷紧后进行激光焊接(将掩模板主体11固定到外框12上，焊点为14)并沿半刻线将半刻线以外的区域撕下，即已经固定好掩模板。但固定后掩模区域13的中间部分受力均匀，两边邻近掩模板金属部分受力较小，开口间的狭长金属丝会下垂，致使两边的开口精度不高，从而影响蒸镀质量，本实用新型提供的具有辅助开口的掩模板则加入一个辅助结构，使受力较小的区域外移至辅助开口上，从而保证了掩模图案区域中间和两侧达到预期的开口精度，保证蒸镀质量。另外，根据本实用新型公开的掩模板的还具有如下附加技术特征:进一步地，所述掩模图案的数量大于等于1，所述辅助开口图案与所述掩模图案数量比为2:1。可选地，当两个所述掩模图案排成一列时，在所述掩模图案之间有一组辅助开口，即两个掩模图案共用一组辅助开口。[0008]当两个所述掩模图案排成一列时，基于掩模板及掩模图案整体设计的考虑，可以将两个所述掩模图案之间两组辅助开口图案合并为一组辅助开口图案，同时使辅助开口避开掩模淀积区域。优选地，所述掩模开口和所述辅助开口的开口结构相同且为通孔。如此，可以使掩模开口和辅助开口受力状况一致，保证之后的蒸镀质量。 可选地，所述辅助开口和所述掩模开口的开口形状相同但为封闭孔。辅助开口部分只在掩模板的一面蚀刻掉一定的厚度，另一面不进行蚀刻，蒸镀时有机材料不会通过辅助开口而淀积到衬底上，因此设置辅助开口到掩模开口的距离时不必考虑避开掩模区域，根据实际需要使其起到提高掩模区域边缘的开口精度。进一步地，所述 辅助开口间距和所述掩模开口间距是所述辅助开口宽度和所述掩模开口宽度的2倍。进一步地，所述辅助开口图案与所述掩模图案临近的一侧与所述掩模图案的距离是所述掩模开口之间距离的I倍以上(包含I倍)，一定的距离能够使辅助开口能够形成更好的受力分布，使蒸镀的效果更好，同时避开掩模区域。所述辅助开口图案与所述掩模图案临近的一侧与所述掩模图案的距离要使辅助开口能够完全避开蒸镀掩模区域，同时也要起到辅助作用。进一步地，所述辅助开口间距和所述掩模开口间距相同，保证两者间距的一致也会使得受力分布更加均衡，保证好的蒸镀效果。进一步地，对于由铟瓦合金制成的掩模板辅助开口数为1-5 ；优选地，掩模板辅助开口数为2-4 ；进一步优选地，所述辅助开口数量是3。其中所述掩模板开口数与绷网张力、蚀刻参数、掩模板质地有关，对于不同参数及材质可以通过实验确定最佳值。本实用新型还提供了相应的制作方法，其特征包括:SI,将制作掩模板的基板的两面压贴感光干膜；S2,按照设计图形通过曝光机对感光干膜进行曝光，使得非蚀刻区域曝光；S3,将曝光后的基板通过显影等工艺去除未曝光的干膜；S4,将显影后的基板蚀刻即可形成所述具有辅助开口和掩模开口的掩模板。本实用新型附加的方面和优点将在下面的描述中部分给出，部分将从下面的描述中变得明显，或通过本实用新型的实践了解到。
本实用新型的上述和/或附加的方面和优点从
以下结合附图对实施例的描述中将变得明显和容易理解，其中:图1所示为掩模板整体示意图；图2所示为具有辅助开口的掩模板整体示意图；图3所示为图2中22部分放大示意图；图4所示为图3中沿A-A方向的一种截面示意图；图5所示为图3中沿A-A方向的另一种截面示意图；[0033]图6所示为贴感光膜截面示意图；图7所示为曝光模板截面示意图；图8所示为显影后模板的截面示意图；图9所示为蚀刻后掩模板截面示意图；图10所示为本实用新型的一个实施例示意图；图1中，11为掩模板主体，13为掩模图案，14为固定孔，12为外框；图2中，21为辅助开口图案，22为待放大区域；图3中，31为掩模开口，32为掩模开口间狭长金属丝，A-A为待解剖方向，dl是开口的宽度，d2是开口之间的距离(即开口间距)，d3是辅助开口到掩模区域的距离，211为辅助开口 ；图6中，61、62为感光膜；图7中，61为未曝光的感光膜，71、72为曝光的感光膜；
具体实施方式
下面详细描述本实用新型的实施例，所述实施例的示例在附图中示出，其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，仅用于解释本实用新型，而不能解释为对本实用新型的限制。
在本实用新型的描述中，需要理解的是，术语“上”、“下”、“底”、“顶”、“前”、“后”、
“内”、“外”、“横”、“竖”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。在本实用新型的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“联接”、“连通”、“相连”、“连接”、“配合”应做广义理解，例如，可以是固定连接，一体地连接，也可以是可拆卸连接；可以是两个元件内部的连通；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连；“配合”可以是面与面的配合，也可以是点与面或线与面的配合，也包括孔轴的配合，对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。本实用新型的发明构思如下，由于掩模板在固定后掩模区域13的中间部分受力均匀，两边邻近掩模板金属部分受力较小，开口间的狭长金属丝会下垂，致使两边的开口精度不高，从而影响蒸镀质量，本实用新型提供的具有辅助开口的掩模板则加入一个分力结构，使受力较小的区域外移至辅助开口上，从而保证了掩模图案区域内部和两侧达到预期的开口精度，保证蒸镀质量。下面将参照附图来描述本实用新型的具有辅助开口的掩模板，其中图1所示为掩模板整体示意图；图2所示为具有辅助开口的掩模板整体示意图；图3所示为图2中22部分放大示意图；图4所示为图3中沿A-A方向的一种截面示意图；图5所示为图3中沿A-A方向的另一种截面示意图。根据本实用新型的实施例，一种具有辅助开口的掩模板，如图2所示，包括掩模板主体11，所述掩模板主体上有掩模图案13，所述掩模图案13由掩模开口 31组成；辅助开口图案21，所述辅助开口图案21由辅助开口 211构成，所述辅助开口 211位于所述掩模板主体11上，并分布在所述掩模图案13两侧，所述辅助开口 211长度方向与所述掩模开口 31长度方向平行。根据本实用新型的一些实施例，所述掩模图案13的数量大于等于1，所述辅助开口图案21与所述掩模图案13数量比为2:1，如图2所示。根据本实用新型的一些实施例，当两个所述掩模图案13排成一列时，在所述掩模图案13之间有一组辅助开口 211，如图10所示。当两个所述掩模图案13排成一列时，基于掩模板及掩模图案13整体设计的考虑，可以将两个所述掩模图案13之间两组辅助开口图案21合并为一组辅助开口图案21。根据本实用新型的一些实施例，所述掩模开口 31和所述辅助开口 211的开口结构相同且为通孔，如图4所示。如此，可以使掩模开口 31和辅助开口 211受力状况一致，保证之后的蒸镀质量。根据本实用新型的一些实施例，所述辅助开口 211和所述掩模开口 31的开口形状相同但为封闭孔，如图5所示。辅助开口 211部分只蚀刻掉一面一定的厚度，另一面不进行蚀刻，蒸镀时有机材料不会通过辅助开口 211而漏印，因此设置辅助开口 211到掩模开口 31的距离时不必考虑避开掩模区域，根据实际需要使其起到提高掩模区域边缘的开口精度。根据本实用新型的一些实施例，所述辅助开口间距和所述掩模开口间距是所述辅助开口宽度和所述掩模开口宽度的大于等于I的整数倍。
根据本实用新型的一些实施例，所述辅助开口图案与所述掩模图案临近的一侧与所述掩模图案的距离是所述掩模开口之间距离的3倍以上(包含3倍)，一定的距离能够使辅助开口能够形成更好的受力分布，使蒸镀的效果更好，同时避开掩模淀积区域。所述辅助开口图案与所述掩模图案临近的一侧与所述掩模图案的距离要使辅助开口能够完全避开蒸镀掩模区域，同时也要起到辅助作用。根据本实用新型的一些实施例，所述辅助开口间距和所述掩模开口间距相同，保证两者间距的一致也会使得受力分布更加均衡，保证好的蒸镀效果。进一步地，对于由铟瓦合金制成的掩模板辅助开口数为1-5 ；优选地，掩模板辅助开口数为2-4 ；进一步优选地，所述辅助开口数量是3。一种具有辅助开口的掩模板的制作方法，作为本实用新型的一个实施例，图5中所示的辅助开口的制作方法可由以下蚀刻工艺制成(不考虑其它图形制作情况下):SI,贴膜:将制作掩模板的基板的两面压贴感光膜，如图6所示，61、62为感光膜；S2,曝光:按照设计图形通过曝光机对感光干膜进行曝光，使得非蚀刻区域曝光，图7中除61部分，其它部分(71、72)均为曝光区域；S3,显影:将曝光后的基板经显影工艺将未曝光干膜区61部分的干膜去除，使待制开口区域的基板表面裸露，如图8所示(图中所示为一种辅助开口，即图5中所示的辅助开口形式);S4,蚀刻:将显影后的掩模板通过蚀刻液蚀刻即可在61区域形成图9所示凹槽结构，在蚀刻过程中，通过控制蚀刻液的溶液配比、蚀刻时对掩模板的压力、蚀刻的时间等参数来控制掩模板的蚀刻厚度(即蚀刻的开口的深度);蚀刻后的掩模板通过褪膜将之前曝光区域的干膜去除，即可得到图5所示掩模板辅助开口结构的截面示意图。根据本实用新型的一种实施例，在压贴有感光膜的掩模板曝光工序中，可以针对不同类型的辅助开口结构如图4所示，进行相应的曝光图案设置，得到对应的辅助开口结构。附图中所示仅为结构示意图，图中所展示的并不能完全真实的反映各种尺寸关系以及开口图形的外貌，其中掩模板主体上的掩模开口及辅助开口处的棱边存在一定倒角的，且其开口表面存在一定的弧度。 任何提及“ 一个实施例”、“实施例”、“示意性实施例”等意指结合该实施例描述的具体构件、结构或者特点包含于本实用新型的至少一个实施例中。在本说明书各处的该示意性表述不一定指的是相同的实施例。而且，当结合任何实施例描述具体构件、结构或者特点时，所主张的是，结合其他的实施例实现这样的构件、结构或者特点均落在本领域技术人员的范围之内。 尽管参照本实用新型的多个示意性实施例对本实用新型的具体实施方式
进行了详细的描述，但是必须理解，本领域技术人员可以设计出多种其他的改进和实施例，这些改进和实施例将落在本实用新型原理的精神和范围之内。具体而言，在前述公开、附图以及权利要求的范围之内，可以在零部件和/或者从属组合布局的布置方面作出合理的变型和改进，而不会脱离本实用新型的精神。除了零部件和/或布局方面的变型和改进，其范围由所附权利要求及其等同物 限定。
权利要求1.一种具有辅助开口的掩模板，其特征在于，包括: 掩模板主体，所述掩模板主体上有掩模图案，所述掩模图案由掩模开口组成； 辅助开口图案，所述辅助开口图案由辅助开口构成，所述辅助开口位于所述掩模板主体上，并分布在所述掩模图案两侧，所述辅助开口长度方向与所说掩模开口长度方向平行。
2.根据权利要求1所述的具有辅助开口的掩模板，其特征在于，所述掩模图案的数量大于等于1，所述辅助开口图案与所述掩模图案数量比为2:1。
3.根据权利要求1所述的具有辅助开口的掩模板，其特征在于，当两个所述掩模图案排成一列时，在所述掩模图案之间有一组掩模开口。
4.根据权利要求1所述的具有辅助开口的掩模板，其特征在于，所述辅助开口和所述掩模开口的开口结构相同且为通孔。
5.根据权利要求1所述的具有辅助开口的掩模板，其特征在于，所述辅助开口和所述掩模开口的开口形状相同但为封闭孔。
6.根据权利要求1所述的具有辅助开口的掩模板，其特征在于，所述辅助开口图案与所述掩模图案临近的一侧与所述掩模图案的距离是所述掩模开口之间距离的I倍以上(包含I倍)，作为优选为3倍。
7.根据权利要求1所述的具有辅助开口的掩模板，其特征在于，所述辅助开口间距和所述掩模开口间距相同。
8. 根据权利要求1所述的具有辅助开口的掩模板，其特征在于，所述辅助开口数量是1-5。
9.根据权利要求8所述的具有辅助开口的掩模板，其特征在于，所述辅助开口数量是2_4。
专利摘要本实用新型公开了一种掩模板主体，所述掩模板主体上有掩模图案，所述掩模图案由掩模开口组成；辅助开口图案，所述辅助开口图案由辅助开口构成，所述辅助开口位于所述掩模板主体上，并分布在所述掩模图案两侧，所述辅助开口长度方向与所说掩模开口长度方向平行。通过设置辅助开口，使绷网后的掩模板的掩模区域受力均衡，避免了因绷网后掩模区域边缘处开口间狭长金属丝因受力过小，产生下垂，而导致开口精度不高的缺陷，提高开口精度，从而提高蒸镀质量。
文档编号C23C14/04GK203159696SQ201320094230
公开日2013年8月28日 申请日期2013年3月1日 优先权日2013年3月1日
发明者魏志凌, 高小平, 潘世珎, 刘学明 申请人:昆山允升吉光电科技有限公司