一种基片的固定夹具的制作方法
【专利摘要】针对磁控溅射过程中基片的固定问题，本实用新型提供一种基片的固定夹具，包括立柱、水平台、螺丝、基座，其中，两个立柱之间安装有水平台，立柱和水平台通过螺丝相连接；基座与螺丝相连接，螺丝安装在水平台上；基座位于两个立柱之间。将基片放于基座上，调节螺丝，使得基片的水平面与两个立柱的水平面在一个平面上，通过两个立柱夹紧基片。本实用新型的夹具对薄膜沉积过程没有遮挡作用，保证薄膜沉积的均匀性，提高薄膜整体的质量。
【专利说明】—种基片的固定夹具
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及磁控溅射及其附件领域，尤其涉及到一种基片的固定夹具。
【背景技术】
[0002]磁控溅射是一种物理沉积薄膜的方法，应用广泛，尤其是在当今的工艺上，已经成为一种重要的薄膜沉积技术。对于磁控溅射系统来说，氩离子轰击靶材，靶材的原子或原子团飞离靶材，沉积到基片上。一般来说，通过夹子、螺丝、固定片等方式将基片固定在基座上。但是，由于夹子、螺丝、固定片的遮挡作用，导致夹子、螺丝、固定片周围薄膜沉积的不均匀性，影响薄膜整体的质量。
实用新型内容
[0003]针对磁控溅射过程中基片的固定问题，本实用新型提供一种基片的固定夹具，夹具对薄膜沉积过程没有遮挡作用，保证薄膜沉积的均匀性，提高薄膜整体的质量。本实用新型所采取的技术方案为，一种基片的固定夹具，包括立柱、水平台、螺丝、基座，其中，两个立柱之间安装有水平台，立柱和水平台通过螺丝相连接；基座与螺丝相连接，螺丝安装在水平台上；基座位于两个立柱之间。
[0004]将基片放于基座上，调节螺丝，使得基片的水平面与两个立柱的水平面在一个平面上，通过两个立柱夹紧基片。本实用新型的夹具对薄膜沉积过程没有遮挡作用，保证薄膜沉积的均匀性，提高薄膜整体的质量。
【专利附图】
【附图说明】
[0005]图1为本实用新型的结构示意图。
[0006]图中:1立柱、2水平台、3螺丝、4基座。
【具体实施方式】
[0007]以下结合附图实施例对本实用新型作进一步详细描述。
[0008]图1为本实用新型的结构示意图，立柱1、水平台2、螺丝3、基座4，其中，两个立柱I之间安装有水平台2，立柱I和水平台2通过螺丝3相连接；基座4与螺丝3相连接，螺丝3安装在水平台2上；基座4位于两个立柱I之间。将基片放于基座4上，调节螺丝3，使得基片的水平面与两个立柱I的水平面在一个平面上，通过两个立柱I夹紧基片。本实用新型的夹具对薄膜沉积过程没有遮挡作用，保证薄膜沉积的均匀性，提高薄膜整体的质量。
[0009]以上显示和描述了本实用新型的基本原理和主要特征和本实用新型的优点。本行业的技术人员应该了解，本实用新型不受上述实施例的限制，上述实施例和说明书中描述的只是说明本发明的原理，在不脱离本发明精神和范围的前提下，本发明还会有各种变化和改进，这些变化和改进都落入要求保护的本发明范围内。本实用新型要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。
【权利要求】
1.一种基片的固定夹具，包括立柱、水平台、螺丝、基座，其特征在于:所述的立柱由两个，且两个立柱之间安装有水平台，立柱和水平台通过螺丝相连接；所述的基座与螺丝相连接，螺丝安装在水平台上；所述的基座位于两个立柱之间。
【文档编号】C23C14/35GK203700497SQ201320420315
【公开日】2014年7月9日 申请日期:2013年7月9日 优先权日:2013年7月9日
【发明者】施加丰, 魏斌, 熊红斌 申请人:施加丰