一种新型抛光底座的制作方法
【专利摘要】本实用新型公开了一种新型抛光底座，包括底座本体，和设于底座本体上的抛光治具，所述的抛光治具为板状体，其上表面设有四边形的凹槽；所述凹槽内嵌设有环形挡圈，环形挡圈内构成用于放入玻璃的四边形凹腔；环形挡圈的上端面低于玻璃的上表面0.3-0.35mm；四边形凹腔内至少设有一个真空吸气孔。本实用新型由于环形挡圈的阻挡作用，在对玻璃进行抛光处理时，杜绝了玻璃四周侧边厚度超出公差这一缺陷的发生。其中，环形挡圈高于治具表面的高度等于玻璃板被抛光之后侧边的高度。不同厚度的玻璃板可以更换不同高度的环形挡圈。本实用新型也可以用于其它产品的抛光，比如塑胶制品。
【专利说明】一种新型抛光底座
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及一种抛光用的底座结构，更具体地说是指一种新型抛光底座。
【背景技术】
[0002]目前针对玻璃板进行抛光加工中，首先用赛钢板(Ρ0Μ，聚甲醛)材料，加工出承放玻璃的治具，玻璃装入治具型腔，放在抛光机的底座上，用地毯进行抛光。这种抛光方法，玻璃边缘处理不均匀，特别是玻璃四周的斜边磨下去太多，超出规定的限度，导致产品报废。
[0003]因此，有必要开发出一种新的底座结构。
实用新型内容
[0004]本实用新型的目的在于克服现有技术的缺陷，提供一种新型抛光底座，可以防止玻璃板的边角处被过度地抛光而导致产品报废。
[0005]为实现上述目的，本实用新型采用以下技术方案:
[0006]一种新型抛光底座，包括底座本体，和设于底座本体上的抛光治具，所述的抛光治具为板状体，其上表面设有四边形的凹槽；所述凹槽内嵌设有环形挡圈，环形挡圈内构成用于放入玻璃的四边形凹腔；环形挡圈的上端面低于玻璃的上表面0.3-0.35mm ;四边形凹腔内至少设有一个真空吸气孔。
[0007]其进一步技术方案为:所述的环形挡圈宽度为1.5-2.5mm,凹槽的深度为3_5_。
[0008]其进一步技术方案为:所述的环形挡圈为不锈钢圈。
[0009]其进一步技术方案为:被抛光的玻璃为0.7mm的厚度；环形挡圈高于底座本体表面 0.35mm。
[0010]其进一步技术方案为:所述抛光治具为四个，对称分布于底座本体上。
[0011]其进一步技术方案为:所述的底座本体与抛光设备的机座旋转联接。
[0012]本实用新型与现有技术相比的有益效果是:本实用新型由于环形挡圈的阻挡作用，在对玻璃进行抛光处理时，杜绝了玻璃四周侧边厚度超出公差这一缺陷的发生。归纳起来，其优点如下:1)加工玻璃整体厚度均匀；2)玻璃四角厚度满足客户公差要求；3)弧形边缘，手感好，晶莹剔透，视觉效果极佳。其中，环形挡圈高于治具表面的高度等于玻璃板被抛光之后侧边的高度。不同厚度的玻璃板可以更换不同高度的环形挡圈。本实用新型也可以用于其它产品的抛光，比如塑胶制品。
[0013]下面结合附图和具体实施例对本实用新型作进一步描述。
【专利附图】
【附图说明】
[0014]图1为本实用新型一种新型抛光底座具体实施例的立体示意图；
[0015]图2为图1中的左上角的局部放大图；
[0016]图3为图1实施例中玻璃板装入抛光治具内，未开始抛光时的局部剖视图；
[0017]图4为图1实施例中玻璃板装入抛光治具内，抛光结束时局部剖视图。[0018]附图标记
[0019]10 底座本体20抛光治具
[0020]200 凹槽30环形挡圈
[0021]300 四边形凹腔40玻璃
【具体实施方式】
[0022]为了更充分理解本实用新型的技术内容，下面结合具体实施例对本实用新型的技术方案进一步介绍和说明，但不局限于此。
[0023]如图1至图4所示的具体实施例，本实用新型一种新型抛光底座，包括底座本体10，和设于底座本体10上的抛光治具20，抛光治具20为板状体，其上表面设有四边形的凹槽200 (环形结构，即凹槽形成一个封闭的环形凹槽);凹槽200内嵌设有环形挡圈30，环形挡圈30内构成用于放入玻璃的四边形凹腔300 ;环形挡圈30的上端面低于玻璃40的上表面0.35mm ;四边形凹腔300内设有一个真空吸气孔(以实现真空吸附玻璃板)。
[0024]本实施例中，环形挡圈宽度为2mm,凹槽的深度为3mm。环形挡圈为不锈钢圈材料做成。被抛光的玻璃40为0.7mm的厚度；环形挡圈30高于底座本体10的上表面0.35mm。
[0025]本实施例中，抛光治具20为四个，对称分布于底座本体10上。底座本体10与抛光设备的机座旋转联接。
[0026]于其它实施例中，在同一底座上，抛光治具可以是一个、二个或六个等不同的数量。于其它实施例中，环形挡圈也可以采用铝合金之类的材料。
[0027]于其它实施例中，环形挡圈可以设有缺口，以便通过一个条状的金属体绕制而成，该缺口可以焊接在一起。
[0028]于其它实施例中，为了考虑到环形挡圈的更换(长期使用会有磨损)，因此，环形挡圈与凹槽的配合为有微量过盈量的过盈配合，同时为了防止环形挡圈从凹槽中脱落，在凹槽底部设有与真空吸气孔相连通的细孔；以形成真空吸力，防止环形挡圈从凹槽中脱落出来或向上移动。
[0029]综上所述，本实用新型由于环形挡圈的阻挡作用，在对玻璃进行抛光处理时，杜绝了玻璃四周侧边厚度超出公差这一缺陷的发生。归纳起来，其优点如下:1)加工玻璃整体厚度均匀；2)玻璃四角厚度满足客户公差要求；3)弧形边缘，手感好，晶莹剔透，视觉效果极佳。其中，环形挡圈高于治具表面的高度等于玻璃板被抛光之后侧边的高度。不同厚度的玻璃板可以更换 不同高度的环形挡圈。本实用新型也可以用于其它产品的抛光，比如塑月父制品。
[0030]上述仅以实施例来进一步说明本实用新型的技术内容，以便于读者更容易理解，但不代表本实用新型的实施方式仅限于此，任何依本实用新型所做的技术延伸或再创造，均受本实用新型的保护。本实用新型的保护范围以权利要求书为准。
【权利要求】
1.一种新型抛光底座，包括底座本体，和设于底座本体上的抛光治具，其特征在于所述的抛光治具为板状体，其上表面设有四边形的凹槽；所述凹槽内嵌设有环形挡圈，环形挡圈内构成用于放入玻璃的四边形凹腔；环形挡圈的上端面低于玻璃的上表面0.3-0.35mm ;四边形凹腔内至少设有一个真空吸气孔。
2.根据权利要求1所述的一种新型抛光底座，其特征在于所述的环形挡圈宽度为1.5-2.5mm,凹槽的深度为3_5mm。
3.根据权利要求2所述的一种新型抛光底座，其特征在于所述的环形挡圈为不锈钢圈。
4.根据权利要求3所述的一种新型抛光底座，其特征在于被抛光的玻璃为0.7mm的厚度；环形挡圈高于底座本体表面0.35mm。
5.根据权利要求4所述的一种新型抛光底座，其特征在于所述的抛光治具为四个，对称分布于底座本体上。
6.根据权利要求4所述的一种新型抛光底座，其特征在于所述的底座本体与抛光设备的机座旋转联接。
【文档编号】B24B29/02GK203636571SQ201320853449
【公开日】2014年6月11日 申请日期:2013年12月20日 优先权日:2013年12月20日
【发明者】王建成 申请人:河南天成信隆电子科技有限公司