间接水冷靶座电弧蒸发源的制作方法
【专利摘要】本实用新型涉及多弧离子镀膜机，具体是一种多弧离子镀膜机的间接水冷靶座电弧蒸发源。包括引弧机构、靶块、不锈钢靶座、电弧屏蔽盘、电弧调节套、绝缘套、水管、电磁装置，所述靶块与所述不锈钢靶座之间设置有紫铜板，所述紫铜板正面与所述靶块紧密接触，紫铜板外边缘与不锈钢靶座焊接为一体。本实用新型取消了靶块与靶座之间的密封圈，利用紫铜传热效率高的特点，将紫铜板与不锈钢靶座体焊接成一体形成靶块的间接水冷结构，从根本上解决了由于密封圈老化失效或密封不严造成漏水和漏气，严重影响镀膜室内真空度和镀膜环境，造成镀膜质量下降和检查多个蒸发源是否漏气漏水既繁琐又不方便的技术难题，从而提高了蒸发源工作的稳定性和镀膜质量。
【专利说明】 间接水冷靶座电弧蒸发源
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及多弧离子镀膜机，具体是一种多弧离子镀膜机的间接水冷靶座电弧蒸发源。
【背景技术】
[0002]蒸发源是真空离子镀膜机的核心部件，其性能决定着镀膜机的整体性能，其中冷却能力和密封稳定性又是关系到蒸发源稳定工作的基础。目前真空多弧离子镀膜机的蒸发源使用的靶座多数为直接水冷型靶座，部分间接水冷型也全部是靶座与水冷套通过密封圈结合，在使用过程中和更换靶块时经常由于密封圈密封不严造成漏水和漏气，严重影响镀膜室内的真空度和镀膜环境，造成镀膜质量下降，由于多弧离子镀膜机内有许多蒸发源，镀膜室内空间较小，温度较高，在实际工业生产中一旦出现蒸发源漏水漏气影响镀膜质量时，检查多个蒸发源查找漏气点是一项即非常关键又繁琐不方便的工作。
实用新型内容
[0003]本实用新型要解决的技术问题是，提供一种改变传统蒸发源靶座冷却方式，采用无密封圈结构的间接水冷靶座电弧蒸发源。
[0004]本实用新型解决所述问题采用的技术方案是:
[0005]一种间接水冷靶座电弧蒸发源，包括引弧机构、靶块、不锈钢靶座、电弧屏蔽盘、电弧调节套、绝缘套、水管、电磁装置，所述靶块与所述不锈钢靶座之间设置有紫铜板，所述紫铜板正面与所述靶块紧密接触，紫铜板外边缘与不锈钢靶座焊接为一体。
[0006]采用上述技术方案的本实用新型，与现有技术相比，其有益效果是:
[0007]取消了靶块与靶座之间的密封圈，利用紫铜传热效率高的特点，将紫铜板与不锈钢靶座体焊接成一体形成靶块的间接水冷结构，从根本上解决了由于密封圈老化失效或密封不严造成漏水和漏气，严重影响镀膜室内真空度和镀膜环境，造成镀膜质量下降和检查多个蒸发源是否漏气漏水即繁琐又不方便的技术难题，从而提高了蒸发源工作的稳定性和镀膜质量。
[0008]作为优选，本实用新型更进一步的技术方案是:
[0009]所述紫铜板背面加工有若干个沟槽。通过这样结构，增大了紫铜板与冷却水的接触面积，使镀膜时靶块传递给紫铜板的热量能够与冷却水快速换热，提高冷却效率，使蒸发源性能更稳定可靠。
【专利附图】
【附图说明】
[0010]图1为本实用新型实施例结构示意图。
[0011]图中:引弧机构I，靶块2，紫铜板3，不锈钢靶座4，电弧屏蔽盘5，电弧调节套6，冷却水套7，绝缘套8，电磁装置9，冷却水管10，沟槽11。【具体实施方式】
[0012]以下结合实施例对本实用新型作进一步说明，目的仅在于更好的理解本实用新型内容。因此，所举之例并非限制本实用新型的保护范围。
[0013]参见图1，这种间接水冷靶座电弧蒸发源由引弧机构1、靶块2、紫铜板3、不锈钢靶座4、电弧屏蔽盘5、电弧调节套6、冷却水套7、绝缘套8、电磁装置9、冷却水管10等组件构成，靶块2通过螺纹与管状的不锈钢靶座4外缘连接，圆盘状的紫铜板3外缘与不锈钢靶座4内缘通过锡化黄铜焊丝或黄铜焊丝采用火焰钎焊的方法焊接在一起，紫铜板3正面与靶块2紧密接触，紫铜板3背面与不锈钢靶座4内壁、电磁装置9外护套之间形成冷却水套7。镀膜时，靶块2的热量传递给紫铜板3，为提高紫铜板3的冷却效率，在紫铜板3背面加工有若干个沟槽11，以增大紫铜板3与冷却水的接触面积。
【权利要求】
1.一种间接水冷靶座电弧蒸发源，包括引弧机构、靶块、不锈钢靶座、电弧屏蔽盘、电弧调节套、绝缘套、水管、电磁装置，其特征在于，所述靶块与所述不锈钢靶座之间设置有紫铜板，所述紫铜板正面与所述靶块紧密接触，紫铜板外边缘与不锈钢靶座焊接为一体。
2.根据权利要求1所述的间接水冷靶座电弧蒸发源，其特征在于，所述紫铜板背面加工有若干个沟槽。
【文档编号】C23C14/32GK203668501SQ201420030256
【公开日】2014年6月25日 申请日期:2014年1月19日 优先权日:2014年1月19日
【发明者】李飞, 李兰民 申请人:遵化市超越钛金设备有限公司