电子枪蒸发用石墨坩埚的制作方法
【专利摘要】本实用新型公开了一种电子枪蒸发用石墨坩埚，包括底埚（1）和上覆埚（3），其中镀膜材料（2）放置在底埚（1）上，上覆埚（3）顶盖上具有用于材料蒸气的出口（4），上覆埚（3）完全覆盖底埚（1）的上表面，并且上覆埚（3）与底埚（1）之间的配合方式是间隙配合（6）。采用本实用新型的坩埚避免了电子束直接作用于材料，降低了电子束的温度，材料在合理的温度下蒸发，从而保证了材料本身的特性，使得镜片表面防水和防油污性能的增加，提高了镜片的附加值。
【专利说明】
【技术领域】
[0001] 本发明涉及电子枪蒸发用石墨坩埚，通过用间接加热的方法实现较低蒸发温度的 材料的蒸发，比如眼镜用镜片的防水和超防水材料的蒸发。 电子枪蒸发用石墨坩埚
【背景技术】
[0002] 随着眼镜技术的发展，现在开发了镜片表面用来防水的防水镀膜材料和用来防油 污的超硬防水材料，而这些均是有机化合物，所以蒸发温度很低，传统的蒸发方法采用电子 束直接作用于镀膜材料，这会引起材料的变异，导致防水和防油污等功能的下降。 实用新型内容
[0003] 针对以上不足，本实用新型的目的在于提供电子枪蒸发用石墨坩埚，通过间接传 热的方式，从而确保材料在蒸发时温度较低，较低蒸发温度的材料没有变异，从而保证材料 本身的特性。
[0004] 具体来说，本实用新型采用以下技术方案：
[0005] -种电子枪蒸发用石墨坩埚，包括底埚1和上覆埚3,其特征在于，镀膜材料2放置 在底埚1上，上覆埚3顶盖上具有用于材料蒸气的出口 4,上覆埚3完全覆盖底埚1的上表 面，并且上覆埚3与底埚1之间的配合方式是间隙配合6。
[0006] 优选地，在底埚1的中心还设置有材料支座5用于支撑镀膜材料2。
[0007] 优选地，材料蒸气出口 4在上覆埚3顶盖上是偏心设置。
[0008] 更优选地，材料蒸气出口 4是设置在上覆埚3顶盖上靠近边缘处。
[0009] 有益效果：本实用新型采用封闭的坩埚构型，电子束作用于坩埚，对材料进行间接 加热，降低了对材料的加热温度，保证了材料的性能。偏心设置的出口使得材料蒸气不能直 接冲出坩埚，使得镀膜更加均匀。为进一步使得对材料的加热均匀，保证材料的镀膜性能， 在底埚的中心设置突出的支座，使得由坩埚对材料的直接传导加热最少，更多的是坩埚内 环境对材料的整体加热，保证加热的均匀一致。
【专利附图】
【附图说明】
[0010] 图1是本实用新型的电子枪蒸发用石墨坩埚的结构示意图。
[0011] 图2是本实用新型的石墨坩埚接受电子枪照射时候的示意图。
[0012] 在图中：1底埚；2镀膜材料；3上覆埚；4出口； 5材料支座；6间隙配合。
【具体实施方式】
[0013] 下面将结合附图来详细说明本实用新型。
[0014] 如图1所示，本实用新型的电子枪蒸发用石墨坩埚包括底埚1和上覆埚3,底埚1 和上覆埚3为高纯石墨制造，中间放置镀膜材料2。底埚1和上覆埚3之间优选为间隙配合 6,方便镀膜材料的放入以及废旧镀膜材料的取出。底埚1和上覆埚3为石墨制造耐高温， 可以提高使用寿命，减少更换次数。
[0015] 如图2所示，工作时电子枪所发出来的电子束作用于底埚1和上覆埚3上，通过 上覆埚3对材料2的辐射以及底埚1对材料2的传导来加热材料2。在底埚1的中心还设 置有材料支座5用于支撑镀膜材料2,突出了辐射加热的作用，而减弱了直接传导加热的作 用，使得传导加热限于材料的底部，保证了对材料加热的均匀。这种加热方式降低了电子束 的温度，材料2在合理的温度下蒸发，从而保证了材料2本身的特性，使得镜片表面防水和 防油污性能的增加，提高了镜片的附加值。
[0016] 上覆埚3顶盖上具有用于材料蒸气的出口 4,材料蒸气出口 4优选在上覆埚3顶盖 上是偏心设置，以优化蒸气镀膜的过程，保证镀膜的性能。更优选地，材料蒸气出口 4是设 置在上覆埚3顶盖上靠近边缘处。
[0017] 本实用新型采用封闭的坩埚构型，电子束作用于坩埚，对材料进行间接加热，降低 了对材料的加热温度，保证了材料的性能。偏心设置的出口使得材料蒸气不能直接冲出坩 埚，使得镀膜更加均匀。为进一步使得对材料的加热均匀，保证材料的镀膜性能，在底埚的 中心设置突出的支座，使得由坩埚对材料的直接传导加热最少，更多的是坩埚内环境对材 料的整体辐射加热，保证加热的均匀一致。
[0018] 上面结合附图对本实用新型的实施方式作了详细的说明，但是本实用新型不限于 上述实施方式，在所属【技术领域】普通技术人员所具备的知识范围内，还可以在不脱离本实 用新型宗旨的前提下做出各种变化。
【权利要求】
1. 一种电子枪蒸发用石墨坩埚，包括底埚（1)和上覆埚（3)，其特征在于，镀膜材料 (2 )放置在底埚（1)上，上覆埚（3 )顶盖上具有用于材料蒸气的出口（ 4 )，上覆埚（3 )完全覆 盖底埚（1)的上表面，并且上覆埚（3)与底埚（1)之间的配合方式是间隙配合（6)。
2. 如权利要求1所述的电子枪蒸发用石墨坩埚，其特征在于，在底埚（1)的中心还设 置有材料支座（5 )用于支撑镀膜材料（2 )。
3. 如权利要求1或2所述的电子枪蒸发用石墨坩埚，其特征在于，材料蒸气出口（4)在 上覆埚（3)顶盖上是偏心设置。
4. 如权利要求3所述的电子枪蒸发用石墨坩埚，其特征在于，材料蒸气出口（4)是设 置在上覆埚（3)顶盖上靠近边缘处。
【文档编号】C23C14/30GK203904447SQ201420284907
【公开日】2014年10月29日 申请日期:2014年5月30日 优先权日:2014年5月30日
【发明者】刘锋 申请人:江苏淘镜有限公司