本发明属于材料表面加工领域，尤其是涉及一种军用发射架主梁的强化处理方法。
背景技术：
发射架是用于载机悬挂和发射火箭、导弹等的专用装置，具有体积大，重量大，刚性要求高，系统集成度高的特点，发射架的材料承重大，而且结构复杂，同时需要承受发射时尾气产生的高温，目前的发射架材料多采用20crmnsia，或直接采用碳碳复合材料，前者成本低，但重量大，耐高温性能劣于复合材料，而后者质轻，耐高温性能更好，但加工复杂，成本极高。
技术实现要素：
为解决上述技术问题，本发明提供了一种军用发射架的强化处理方法，采用钢结构，并施加高温涂层的方式，提高了发射架主梁的耐高温性能。
本发明完整的技术方案包括：
一种军用发射架主梁的强化处理方法，其特征在于，包括如下步骤：
1)选择20crmnsia作为发射架的主梁材料；
涂层粉制备：选择20crmnsia，以及粒度为200-240目的wc粉，分别制备不同组分的涂层粉，包括：
首先，选择240目的wc粉以及20crmnsia，wc粉占20crmnsia总重量的25-30％，随后在真空度为10-4-10-5pa下，进行真空感应熔炼，加热到其熔点100-150℃以上保温5-10min，此过程伴随电磁搅拌以使得wc粉在熔体中混合均匀，随后熔体进入雾化室，对金属液的出口处雾化喷嘴喷出高压氩气，高压氩气对金属液滴进行碰撞，使其破碎成球形粉末，高压氩气压力为4-6mpa，随后经旋流沉降进入收料管，并进行筛分后得到第一复合涂层粉料；
随后选择200目的wc粉以及20crmnsia，wc粉占20crmnsia总重量的15-20％，在相同条件下制备第二复合涂层粉料；
随后选择140目的wc粉以及20crmnsia，wc粉占20crmnsia总重量的10-15％，在相同条件下制备第二复合涂层粉料。
2)选择200目的第一复合涂层粉料，160目的第二复合涂层粉料，120目的第三复合涂层粉料，采用水玻璃分别与三种复合涂层粉料混合分别得到第一、第二、第三熔覆粉。
3)激光熔覆涂层，具体包括：
发射架主梁预热到150-200℃，将第一熔覆粉敷在发射架主梁表面，厚度为0.5-1mm，采用激光器对发射架主梁表面进行逐层激光扫描加热，融化所述第一熔覆料并使其附着在发射架主梁表面，激光器功率为2.5kw，电流为300a，激光扫描速度为3-5mm/s，光束直径为12.2mm，熔覆过程通氩气保护形成第一涂层。
将得到第一涂层的发射架主梁预热到150-200℃，随后将第二熔覆料覆在发射架主梁表面，厚度为1-1.2mm，并在保温炉中烘烤0.5h后以相同工艺进行激光熔覆得到第二涂层；
将得到第二涂层的发射架主梁预热到150-200℃，随后将第三熔覆料覆在发射架主梁表面，厚度为1.0-1.5mm，并在保温炉中烘烤0.5h后以相同工艺进行激光熔覆得到第三涂层。
本发明相对于现有技术的优点在于：碳化钨陶瓷材料具有极高的熔点和耐高温能力，同时其自身又具有极高的硬度，作为涂层材料可以使发射架主梁材料具备耐高温能力，但金属-陶瓷界面难以复合易导致涂层结合力不强，一直是困扰工程人员的难题，本发明通过设计与主梁材料表面相同组分的涂层基体材料，并添加碳化钨材料，并采用多层激光熔覆，粒度逐步增大，wc比例逐步减少的复合熔覆粉进行激光熔覆，使表面形成了均匀的粒度和浓度梯度，提高了结合力和强度。
具体实施方式
下面结合具体实施方式对本发明做进一步说明。
一种军用发射架主梁的强化处理方法，其特征在于，包括如下步骤：
1)选择20crmnsia作为发射架的主梁材料；
2)涂层粉制备：选择20crmnsia，以及粒度为200-240目的wc粉，分别制备不同组分的涂层粉，包括：
首先，选择240目的wc粉以及20crmnsia，wc粉占20crmnsia总重量的25-30％，随后在真空度为10-4-10-5pa下，进行真空感应熔炼，加热到其熔点100-150℃以上保温5-10min，此过程伴随电磁搅拌以使得wc粉在熔体中混合均匀，随后熔体进入雾化室，对金属液的出口处雾化喷嘴喷出高压氩气，高压氩气对金属液滴进行碰撞，使其破碎成球形粉末，高压氩气压力为4-6mpa，随后经旋流沉降进入收料管，并进行筛分后得到第一复合涂层粉料；
随后选择200目的wc粉以及20crmnsia，wc粉占20crmnsia总重量的15-20％，在相同条件下制备第二复合涂层粉料；
随后选择140目的wc粉以及20crmnsia，wc粉占20crmnsia总重量的10-15％，在相同条件下制备第二复合涂层粉料。
3)选择200目的第一复合涂层粉料，160目的第二复合涂层粉料，120目的第三复合涂层粉料，采用水玻璃分别与三种复合涂层粉料混合分别得到第一、第二、第三熔覆粉。
4)激光熔覆涂层，具体包括：
发射架主梁预热到150-200℃，将第一熔覆粉敷在发射架主梁表面，厚度为0.5-1mm，采用激光器对发射架主梁表面进行逐层激光扫描加热，融化所述第一熔覆料并使其附着在发射架主梁表面，激光器功率为2.5kw，电流为300a，激光扫描速度为3-5mm/s，光束直径为12.2mm，熔覆过程通氩气保护形成第一涂层。
将得到第一涂层的发射架主梁预热到150-200℃，随后将第二熔覆料覆在发射架主梁表面，厚度为1-1.2mm，并在保温炉中烘烤0.5h后以相同工艺进行激光熔覆得到第二涂层；
将得到第二涂层的发射架主梁预热到150-200℃，随后将第三熔覆料覆在发射架主梁表面，厚度为1.0-1.5mm，并在保温炉中烘烤0.5h后以相同工艺进行激光熔覆得到第三涂层。
以上所述，仅是本发明的较佳实施例，并非对本发明作任何限制，凡是根据本发明技术实质对以上实施例所作的任何简单修改、变更以及等效结构变化，均仍属于本发明技术方案的保护范围内。