一种具有增强紫外荧光强度的铝纳米颗粒制备方法与流程

文档序号:11576089阅读:225来源:国知局

本发明属于化学领域,具体涉及一种铝纳米颗粒制备方法。



背景技术:

荧光材料的发光强度往往不是很大,而且由于当前探测器灵敏度的限制,特别是在紫外波段由于探测器本身性质的原因,使得荧光检测技术的发展受到很大程度上的限制。人们一直以来都在致力于研究如何提高荧光材料的发光强度,目前可行的一种方式是通过金属纳米颗粒表面等离子体共振产生的近场增强效应来增强荧发射强度。

目前金属纳米颗粒的制备方法很多,如电子束刻蚀、溶胶凝胶法、快速热退火等。真空蒸发的方式属于物理气相沉积法,其工艺为把带镀膜的基片或工件置于高真空室里,通过加热使蒸发材料气化而沉积到某一温度的基片或工件的表面上,从而形成一层薄膜。在镀膜的过程中施加烘烤的方式制备出直径不同的金属纳米颗粒。



技术实现要素:

本发明是为了解决上述问题而进行的,本发明的目的在于针对目前荧光材料发光强度较低以及不同荧光材料发射峰位置不同的问题,提供一种增强不同荧光物质发光强度的方法。

本发明提供了一种具有增强紫外荧光强度的铝纳米颗粒制备方法,其特征在于:使用金属铝作为蒸发材料,在石英基底上制备出具有纳米结构的金属颗粒,包括以下步骤:

步骤1,选用铝锭作为蒸发材料,石英作为基底,在真空室中进行在石英基底上蒸镀成膜;

步骤2,对真空室进行抽气,待真空室达到预定的真空度后,进入下一步;

步骤3,对铝锭进行预熔后得到液态铝;

步骤4,对所述液态铝在预定烘烤温度下烘烤进行蒸发镀膜;

步骤5,蒸发镀膜结束后得到金属铝纳米颗粒。

在本发明提供的具有增强紫外荧光强度的铝纳米颗粒制备方法中,还可以具有这样的特征:其中,步骤2中的真空度为5×10-4pa。

另外,在本发明提供的具有增强紫外荧光强度的铝纳米颗粒制备方法中,还可以具有这样的特征:其中,步骤3中预熔的电流为100ma。

另外,在本发明提供的具有增强紫外荧光强度的铝纳米颗粒制备方法中,还可以具有这样的特征:其中,步骤4中预定烘烤温度为150℃-300℃。

另外,在本发明提供的具有增强紫外荧光强度的铝纳米颗粒制备方法中,还可以具有这样的特征:其中,步骤4中蒸发镀膜采用电子束蒸发镀膜。

另外,在本发明提供的具有增强紫外荧光强度的铝纳米颗粒制备方法中,还可以具有这样的特征:其中,步骤4中蒸发镀膜过程中,蒸发电流为150ma,蒸发速率为3a/s。

另外,在本发明提供的具有增强紫外荧光强度的铝纳米颗粒制备方法中,还可以具有这样的特征:其中,步骤4中铝纳米薄膜的光学厚度范围为5nm-15nm。

另外,在本发明提供的具有增强紫外荧光强度的铝纳米颗粒制备方法中,还可以具有这样的特征:其中,步骤5中金属铝纳米颗粒吸收峰峰位在324nm-364nm波段。

发明的作用与效果

根据本发明所涉及的具有增强紫外荧光强度的铝纳米颗粒制备方法,使用金属铝作为蒸发材料,在石英基底上制备出具有纳米结构的金属颗粒,包括步骤1,选用铝锭作为蒸发材料,石英作为基底,在真空室中进行在石英基底上蒸镀成膜;步骤2,对真空室进行抽气,待真空室达到预定的真空度后,进入下一步;步骤3,对铝锭进行预熔后得到液态铝;步骤4,进行蒸发镀膜,对所述液态铝在预定烘烤温度下烘烤进行蒸发镀膜;步骤5,蒸发镀膜结束后得到金属铝纳米颗粒。

因为本发明所提供的具有增强紫外荧光强度的铝纳米颗粒制备方法采用在真空室中进行在石英基底上蒸镀成膜的方式,不仅解决了金属铝膜在空气中热处理会被氧化的问题,而且能制备出不同颗粒大小的金属纳米颗粒,从而产生不同位置的表面等离子体共振峰,从而较好的解决不同荧光材料发射峰峰位不同,发光强度较低的问题。

本发明所提供的具有增强紫外荧光强度的铝纳米颗粒制备方法采用真空镀膜并结合真空室烘烤的方法,可以针对不同荧光材料的紫外波段荧光发射峰位而调节吸收峰以达到增强荧光的效果,制备出了具有不同吸收峰位的铝纳米颗粒,为紫外波段的荧光增强提供了实验基础。

附图说明

图1是本发明的实施例中制备出的具有纳米结构的金属纳米颗粒表面形貌sem图的照片;

图2是本发明的实施例中不同烘烤温度下金属纳米颗粒不同吸收峰峰位的吸光度图;以及

图3是本发明的实施例中制备出具有纳米结构的金属纳米颗粒不同吸收峰峰位的吸光度图。

具体实施方式

为了使本发明实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解,以下实施例结合附图对本发明所提供的具有增强紫外荧光强度的铝纳米颗粒制备方法作具体阐述。

实施例

步骤1,选用铝锭作为蒸发材料,石英作为基底,在真空室中进行在石英基底上蒸镀成膜;

步骤2,对真空室进行抽气,待真空室达到5×10-4pa的真空度后,进入下一步的开启烘烤;

步骤3,对铝锭进行预熔后得到液态铝,预熔的电流为100ma。

步骤4,进行蒸发镀膜,采用电子束蒸发镀膜,对液态铝在预定烘烤温度下烘烤进行蒸发镀膜,其中,蒸发电流为150ma,蒸发速率为3a/s,预定烘烤温度为150℃-300℃,铝纳米薄膜的光学厚度范围为5nm-15nm。实施例中烘烤温度为280℃,铝纳米薄膜的光学厚度为10.5nm。

步骤5,蒸发镀膜结束后得到金属铝纳米颗粒。

蒸发镀膜结束后,关闭烘烤开关,等到温度下降并低于90℃时,开启真空室室门,取件并测试。

图1是本发明的实施例中制备出的具有纳米结构的金属纳米颗粒表面形貌sem图的照片;

图2是本发明的实施例中不同烘烤温度下金属纳米颗粒不同吸收峰峰位的吸光度图;

如图3所示,实施例中金属铝纳米颗粒吸收峰峰位在324nm-364nm波段。

实施例的作用与效果

根据本实施例所涉及的具有增强紫外荧光强度的铝纳米颗粒制备方法,使用金属铝作为蒸发材料,在石英基底上制备出具有纳米结构的金属颗粒,包括步骤1,选用铝锭作为蒸发材料,石英作为基底,在真空室中进行在石英基底上蒸镀成膜;步骤2,对真空室进行抽气,待真空室达到预定的真空度后,进入下一步;步骤3,对铝锭进行预熔后得到液态铝;步骤4,进行蒸发镀膜,对铝纳米薄膜在预定烘烤温度下进行烘烤;步骤5,蒸发镀膜结束后得到金属铝纳米颗粒。

因为本实施例所提供的具有增强紫外荧光强度的铝纳米颗粒制备方法采用在真空室中进行在石英基底上蒸镀成膜的方式,不仅解决了金属铝膜在空气中热处理会被氧化的问题,而且能制备出不同颗粒大小的金属纳米颗粒,从而产生不同位置的表面等离子体共振峰,从而较好的解决不同荧光材料发射峰峰位不同,发光强度较低的问题。

另外,实施例中的真空度为5×10-4pa,解决了金属铝膜在空气中热处理会被氧化的问题。

上述实施方式为本发明的优选案例,并不用来限制本发明的保护范围。



技术特征:

技术总结
根据本发明所涉及的具有增强紫外荧光强度的铝纳米颗粒制备方法,包括步骤1,选用铝锭和石英,在真空室中进行在石英基底上蒸镀成膜;步骤2,对真空室进行抽气达到预定的真空度;步骤3,对铝锭进行预熔后得到液态铝;步骤4,进行蒸发镀膜,对铝纳米薄膜在预定烘烤温度下进行烘烤;步骤5,蒸发镀膜结束后得到金属铝纳米颗粒。因为本发明所提供的具有增强紫外荧光强度的铝纳米颗粒制备方法在真空室中进行在石英基底上蒸镀成膜,不仅解决了金属铝膜在空气中热处理会被氧化的问题,而且能制备出不同颗粒大小的金属纳米颗粒,从而产生不同位置的表面等离子体共振峰,从而较好的解决不同荧光材料发射峰峰位不同,发光强度较低的问题。

技术研发人员:陶春先;马守宝;洪瑞金;刘琼;钱晓晨;张大伟
受保护的技术使用者:上海理工大学
技术研发日:2017.03.31
技术公布日:2017.08.08
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