一种用于点蒸发源的坩埚的制作方法

本发明涉及蒸镀制程技术领域，特别涉及一种用于点蒸发源的坩埚。

背景技术：

有机发光二极管(organiclight-emittingdiode，缩写为oled)。目前，真空热蒸镀是oled制作流程中主要的成膜技术，在高真空环境下，加热盛放有机材料或金属材料的坩埚，使有机材料或金属材料蒸发出来，沉积在基板上形成单层或多层的薄膜。在oled器件中，金属材料的作用一方面是其具有低功函数，有利于电子或空穴有效注入有机材料，另一方面考虑到微共振腔。真空蒸镀过程中，盛放金属材料会选用到点蒸发源的坩埚，因其受所处腔体的位置影响，点蒸发源在金属材料利用率方面得不到提升，造成金属材料的浪费。同时在真空蒸镀过程，喷射出来的部分金属材料会镀到腔体壁上造成清洗的困扰和金属材料的浪费。

技术实现要素：

本发明所要解决的技术问题是：提供一种用于点蒸发源的坩埚。

为了解决上述技术问题，本发明采用的方案为：

一种用于点蒸发源的坩埚，包括内部中空的坩埚本体，所述坩埚本体的顶端具有开口，所述开口所在的侧壁上设有导流部，所述导流部与水平面所成夹角度数配置为能够使装载在坩埚本体内的蒸镀物经导流部导流至外设的基板上。

本发明的有益效果在于：

通过在坩埚本体的开口所在的侧壁上设置导流部，能够通过导流部与水平面所成夹角来调节坩埚本体内蒸镀物喷射的角度，使得蒸镀物充分沉积在基板上，避免蒸镀物镀到腔体壁上造成清洗的困扰和蒸镀物的浪费。

附图说明

图1为根据本发明的一种用于点蒸发源的坩埚的结构示意图；

图2为根据本发明的一种用于点蒸发源的坩埚的实施例二的结构示意图；

标号说明：

1、坩埚本体；2、开口；3、导流部。

具体实施方式

为详细说明本发明的技术内容、所实现目的及效果，以下结合实施方式并配合附图予以说明。

本发明最关键的构思在于：通过在坩埚本体的开口所在的侧壁上设置导流部，能够通过导流部与水平面所成夹角来调节坩埚本体内蒸镀物喷射的角度。

请参照图1，本发明提供的技术方案：

一种用于点蒸发源的坩埚，包括内部中空的坩埚本体，所述坩埚本体的顶端具有开口，所述开口所在的侧壁上设有导流部，所述导流部与水平面所成夹角度数配置为能够使装载在坩埚本体内的蒸镀物经导流部导流至外设的基板上。

从上述描述可知，本发明的有益效果在于：

通过在坩埚本体的开口所在的侧壁上设置导流部，能够通过导流部与水平面所成夹角来调节坩埚本体内蒸镀物喷射的角度，使得蒸镀物充分沉积在基板上，避免蒸镀物镀到腔体壁上造成清洗的困扰和蒸镀物的浪费。

进一步的，所述导流部一体成型于所述开口所在的侧壁上。

由上述描述可知，导流部一体成型于开口所在的侧壁上能够减少其它材料的使用，且能达到调节坩埚本体内蒸镀物喷射的角度的作用。

进一步的，所述导流部为遮挡片，所述遮挡片的一端与所述开口所在的侧壁连接。

由上述描述可知，导流部为遮挡片，能够根据蒸镀物的不同更换不同材质的遮挡片，灵活性较高，且适用范围广。

进一步的，所述导流部与水平面所成夹角度数为45-65度。

由上述描述可知，导流部与水平面所成夹角度数为45-65度，能够保证蒸镀物充分的沉积到基板上，避免蒸镀物镀到腔体壁上造成清洗的困扰和蒸镀物的浪费。

进一步的，所述蒸镀物的熔点为100-300℃，所述导流部采用钢化玻璃。

由上述描述可知，在蒸镀物的熔点为100-300℃，即熔点相对较低时，导流部可采用钢化玻璃，即可避免蒸镀物熔点过高熔化导流部，影响蒸镀效果，进而影响基板的品质。

进一步的，所述蒸镀物的熔点为300-1800℃，所述导流部的材质为石墨或陶瓷。

由上述描述可知，在蒸镀物的熔点为300-1800℃，即熔点相对较高时，通过使用更高熔点的材质，能够避免蒸镀物熔点过高熔化导流部，影响蒸镀效果，进而影响基板的品质。

进一步的，多个所述坩埚本体环绕所述基板的下方设置。

由上述描述可知，将多个坩埚本体环绕基板的下方设置，能够使基板的蒸镀效果更好。

进一步的，所述导流部远离所述基板设置。

由上述描述可知，将导流部远离所述基板设置能够保证装载在坩埚本体内的蒸镀物经导流部导流至外设的基板上，避免蒸镀物镀到腔体壁上造成清洗的困扰和蒸镀物的浪费。

请参照图1，本发明的实施例一为：

一种用于点蒸发源的坩埚，包括内部中空的坩埚本体1，所述坩埚本体1的顶端具有开口2，所述开口2所在的侧壁上设有导流部3，所述导流部3与水平面所成夹角度数配置为能够使装载在坩埚本体1内的蒸镀物经导流部3导流至外设的基板上。

所述导流部3与水平面所成夹角度数为45-65度。

多个所述坩埚本体1环绕所述基板的下方设置。

所述导流部3远离所述基板设置。

在生产过程中，所述导流部3一体成型于所述开口2所在的侧壁上。

请参照图2，本发明的实施例二为：

与上述实施例一的区别在于，实施例二是在现有已生产出的坩埚本体1上所做的改进，具体为，所述开口2所在的侧壁上增设导流部3，所述导流部3为遮挡片，所述遮挡片的一端与所述开口2所在的侧壁连接。

当所述蒸镀物的熔点为100-300℃，所述导流部3可采用钢化玻璃。

当所述蒸镀物的熔点为300-1800℃，所述导流部3的材质为石墨或陶瓷。

也可以统一都采用石墨或陶瓷。

综上所述，本发明提供的一种用于点蒸发源的坩埚，通过在坩埚本体的开口所在的侧壁上设置导流部，能够通过导流部与水平面所成夹角来调节坩埚本体内蒸镀物喷射的角度，使得蒸镀物充分沉积在基板上，避免蒸镀物镀到腔体壁上造成清洗的困扰和蒸镀物的浪费。以上所述仅为本发明的实施例，并非因此限制本发明的专利范围，凡是利用本发明说明书及附图内容所作的等同变换，或直接或间接运用在相关的技术领域，均同理包括在本发明的专利保护范围内。

技术特征：

技术总结
本发明涉及蒸镀制程技术领域，特别涉及一种用于点蒸发源的坩埚，包括内部中空的坩埚本体，所述坩埚本体的顶端具有开口，所述开口所在的侧壁上设有导流部，通过在坩埚本体的开口所在的侧壁上设置导流部，能够通过导流部与水平面所成夹角来调节坩埚本体内蒸镀物喷射的角度，使得蒸镀物充分沉积在基板上，避免蒸镀物镀到腔体壁上造成清洗的困扰和蒸镀物的浪费。

技术研发人员：不公告发明人
受保护的技术使用者：福建华佳彩有限公司
技术研发日：2019.01.03
技术公布日：2019.04.23