本发明涉及一种可调式平面阴极。
背景技术:
真空镀膜是一种在真空中制备膜层产生薄膜材料的技术,有三种形式,即蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀。其中溅射镀膜是真空镀膜中最主要的方法,该技术是在真空中利用荷能粒子轰击靶表面,使被轰击出的粒子沉积在基片上。在磁控溅射镀膜工艺中,对磁控溅射镀膜设备的质量要求很高,而在磁控溅射镀膜设备中,磁场的设置尤为重要。目前普遍采用平面磁控溅射阴极(简称“平面阴极”),平面阴极均是采用在磁靴中安装磁铁的方法来获得加速磁场,但现有的磁靴位置无法调整,不但会造成靶材的浪费且无法获得最优的镀膜效果。
技术实现要素:
本发明的目的是为了解决以上现有技术的不足,提出了一种可调式平面阴极。
一种可调式平面阴极,包括底座和设于底座上方的阴极体;所述的阴极体通过升降装置与底座相连;所述的升降装置包括螺母、丝杆、缓冲垫、导柱、导套和弹簧;所述的螺母与底座相连,所述的丝杆旋接在螺母上,丝杆的顶端抵接在阴极体的下表面上;所述缓冲垫的横截面为x形,缓冲垫的内部设有空腔,缓冲垫的上端抵接在阴极体的下表面上,下端与底座的上表面相连;所述的导柱套设在导套的内孔中,导柱的上表面与阴极体的下表面相连,导柱的下表面与导套内孔的侧壁之间形成密封腔,所述密封腔的底部连有气阀,所述导套的下表面与底座的上表面相连;所述弹簧的一端与阴极体相连,弹簧的另一端抵接在导套的上表面上。
优选地,所述丝杆的顶端连有限位柱,所述限位柱套设在阴极体下表面上的限位孔中。
优选地,所述丝杠表面的螺纹为梯形螺纹。
优选地,所述导套的外径由上至下逐渐增大。
优选地,所述丝杆的底端设有六角柄把手。
有益效果:
1、使用时,通过调整升降装置的伸出长度,即可调整阴极体相对于整体设备的上下位置,可以在不更换零件的前提下,只通过调节升降装置就可达到调节磁场空间分布,从而使磁铁加载在在靶材上的磁场变得均匀,使靶材在溅镀过程中消耗均匀,进而提高靶材的利用率和成膜的均匀性。
2、升降装置中采用丝杆作为唯一的升降部件,可以保证升降高度的统一性,不会出现多个升降部件之间配合不好,导致升降后阴极体倾斜的情况,同时采用弹簧、导柱、导套的配合方式,使得阴极体的支承更加稳定,不会出现两头翘起的情况。
3、通过缓冲垫内部的x形空腔,可以保证阴极体的上升或下降过程的平稳性,不会出现较大程度的晃动现象。
附图说明
图1是一种可调式平面阴极的总体结构示意图;
图2是一种可调式平面阴极的侧视图;
1.阴极体2.底座3.导套4.缓冲垫5.丝杆6.螺母7.弹簧8.导柱9.气阀。
具体实施方式
为了加深对本发明的理解,下面将结合实施例和附图对本发明作进一步详述,该实施例仅用于解释本发明,并不构成对本发明保护范围的限定。
如图1-2所示,一种可调式平面阴极,包括底座2和设于底座2上方的阴极体1;所述的阴极体1通过升降装置与底座2相连;所述的升降装置包括螺母6、丝杆5、缓冲垫4、导柱8、导套3和弹簧7;所述的螺母6与底座2相连,所述的丝杆5旋接在螺母6上,丝杠表面的螺纹为梯形螺纹,丝杆5的底端设有六角柄把手。
丝杆5的顶端抵接在阴极体1的下表面上;所述缓冲垫4的横截面为x形,缓冲垫4的内部设有空腔,缓冲垫4的上端抵接在阴极体1的下表面上,下端与底座2的上表面相连;所述的导柱8套设在导套3的内孔中,导柱8的上表面与阴极体1的下表面相连,导柱8的下表面与导套3内孔的侧壁之间形成密封腔,所述密封腔的底部连有气阀9,所述导套3的下表面与底座2的上表面相连,导套3的外径由上至下逐渐增大。
所述弹簧7的一端与阴极体1相连,弹簧7的另一端抵接在导套3的上表面上。
所述丝杆5的顶端连有限位柱,所述限位柱套设在阴极体1下表面上的限位孔中。
使用情况:
1、将阴极体1通过升降装置与底座2相连;
2、在镀膜时,当发现镀膜不均或靶材使用不均时,先打开气阀9,再旋转丝杆5;
3、丝杠相对于螺母6旋转,并推动整个阴极体1向上运动;
4、向上运动时,气体由气阀9进入到密封腔内,当上升到指定位置时,关闭气阀9,此时由于密封腔内存有一定气体,所以导柱8具有一定的支撑力;
5、当需要向下运动阴极体1时,同样先打开气阀9,然后旋转丝杆5;
6、密封腔内的气体由气阀9处排出,导柱8在弹簧7的拉动下向下运动。
7、缓冲垫4的作用为,在上升或是下降过程中,保证阴极体1的缓步匀速运动,防止阴极体1发生较大的晃动。
以上所述仅为本发明的较佳实施例而已,并不用以限制本发明,凡在本发明的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本发明的保护范围之内。