渐变色镀膜一体机的制作方法

本发明涉及渐变色镀膜一体机，属于真空镀膜领域。

背景技术：

磁控溅射技术作为一种十分有效的薄膜沉积方法，被广泛应用于微电子、光学薄膜和材料表面处理等领域中，用于薄膜沉积和表面覆盖层的制备。膜层均匀性在大面积磁控溅射镀膜设备中，是一项非常重要的指标。影响磁控溅射镀膜均匀性的因素有很多，比如磁场分布、布气分布、电场分布和溅射挡板开口等因素。磁控溅射技术的工业化应用使得磁控溅射阴极的改进也广泛而普遍的展开，为了追求生产线的工作稳定性，工艺稳定性，膜层厚度的精确控制和设备的通用性等，在磁控溅射阴极上进行了大量的改进。为适应大面积批量化生产线的需要，由于旋转阴极结构具有自清洁、高效、工艺稳定和长工作时长的特点，而被广泛重视。目前，常用的旋转阴极提高膜层均匀性的主要方法是，保证设备的磁场均匀性、布气的均匀性和调节溅射挡板的开口尺寸等方法，及综合使用这几种方法。

现有的旋转阴极结构主要是旋转靶材，但现有的旋转阴极结构的效率较低。

技术实现要素：

针对现有技术存在的上述问题，本发明的目的是提供一种能够提高渐变效果的渐变色镀膜一体机。

为实现上述发明目的，本发明采用的技术方案如下：

渐变色镀膜一体机，包括一一体机箱，所述一体机箱由四面侧板、顶盖和封闭连接的底板构成，所述一体机箱内设有一自转磁棒、防护组件、靶材组件和旋转基片架、轨道和离子源在线清洗装置，所述自转磁棒、防护组件、靶材组件和旋转基片架同圆心的设置，所述轨道一端设于一体机箱的边缘，另一端延伸至自转磁棒外，所述离子源在线清洗装置在轨道上滑行。

所述旋转基片架为一筒状架体，该筒状架体的筒面设有若干行基片框架，所述基片框架用于固定待镀膜基片。

所述旋转基片架架体上设有门，所述门上也设置有基片。

所述旋转基片架与靶材组件之间设有行走通道，所述行走通道用于供人行走。

所述防护组件包括两防护元件，所述防护元件通过连接件活动连接，所述两防护元件的两边相互两两连接。

所述自转磁棒包括一磁棒体，所述磁棒体顶部设有一凹槽，所述凹槽设有一圈轮齿，所述自转磁棒顶部嵌有一齿轮组件，所述齿轮组件包括一齿轮和一驱动电机，所述齿轮与轮齿啮合，所述自转磁棒通过驱动电机转动从而进行自转。

所述靶材组件为至少七块靶材，所述靶材排列呈一圆形，且不同靶材溅射后颜色两两相互接近。

所述自转磁棒和旋转基片架的旋转方向相反。

所述旋转基片架通过一齿轮机构实现其旋转。

与现有技术相比，本发明提供的渐变色镀膜一体机在渐变色镀膜上具有新的研发方向，首创性的采用了离子源的磁棒自转配合基片架的旋转。在基片进行渐变色镀膜时，可根据不同需求，通过将可拆卸的防护组件对靶材组件进行防护，有选择的选取不同的靶材区，从而达到对不同渐变色的镀膜要求。此外，基片架可旋转的设置，保证了镀膜完成后无需拆卸，马上进行下一个色系的镀膜，提高了生产效率。

附图说明

图1是本发明提供的渐变色镀膜一体机示意图；

图2是本发明提供的自转磁棒结构示意图；

其中，0、一体机箱；1、自转磁棒；11、磁棒体；12、齿轮；13、驱动电机；2、防护组件；21、防护元件；22、连接件；3、靶材组件；4、旋转基片架；41、齿轮机构；5、轨道；6、行走通道。

具体实施方式

下面结合实施例及对比例对本发明作进一步详细、完整地说明。

如图1和图2所示，本实施例中，渐变色镀膜一体机包括一一体机箱0，一体机箱0由四面侧板、顶盖和封闭连接的底板构成，一体机箱0内设有一自转磁棒1、防护组件2、靶材组件3和旋转基片架4、轨道5和离子源在线清洗装置，自转磁棒1、防护组件2、靶材组件3和旋转基片架4同圆心的设置，轨道5一端设于一体机箱0的边缘，另一端延伸至自转磁棒1外，离子源在线清洗装置在轨道5上滑行。

本实施例中，旋转基片架4为一筒状架体，该筒状架体的筒面设有若干行基片框架，基片框架用于固定待镀膜基片。

本实施例中，旋转基片架4架体上设有门，门上也设置有基片。

本实施例中，旋转基片架4与靶材组件3之间设有行走通道6，行走通道6用于供人行走。

本实施例中，防护组件2包括两防护元件21，防护元件21通过连接件22活动连接，两防护元件21的两边相互两两连接。

本实施例中，自转磁棒1包括一磁棒体11，磁棒体11顶部设有一凹槽，凹槽设有一圈轮齿，自转磁棒1顶部嵌有一齿轮组件，齿轮组件包括一齿轮12和一驱动电机13，齿轮12与轮齿啮合，自转磁棒1通过驱动电机13转动从而进行自转。

本实施例中，靶材组件3为至少七块靶材，靶材排列呈一圆形，且不同靶材溅射后颜色两两相互接近。

本实施例中，自转磁棒1和旋转基片架4的旋转方向相反。

本实施例中，旋转基片架4通过一齿轮机构41实现其旋转。

最后有必要在此说明的是：以上实施例只用于对本发明的技术方案作进一步详细地说明，不能理解为对本发明保护范围的限制，本领域的技术人员根据本发明的上述内容作出的一些非本质的改进和调整均属于本发明的保护范围。

技术特征：

1.渐变色镀膜一体机，包括一一体机箱(0)，所述一体机箱(0)由四面侧板、顶盖和封闭连接的底板构成，所述一体机箱(0)内设有一自转磁棒(1)、防护组件(2)、靶材组件(3)和旋转基片架(4)、轨道(5)和离子源在线清洗装置，所述自转磁棒(1)、防护组件(2)、靶材组件(3)和旋转基片架(4)同圆心的设置，所述轨道(5)一端设于一体机箱(0)的边缘，另一端延伸至自转磁棒(1)外，所述离子源在线清洗装置在轨道(5)上滑行。

2.根据权利要求1所述的渐变色镀膜一体机，其特征在于，所述旋转基片架(4)为一筒状架体，该筒状架体的筒面设有若干行基片框架，所述基片框架用于固定待镀膜基片。

3.根据权利要求2所述的渐变色镀膜一体机，其特征在于，所述旋转基片架(4)架体上设有门，所述门上也设置有基片。

4.根据权利要求3所述的渐变色镀膜一体机，其特征在于，所述旋转基片架(4)与靶材组件(3)之间设有行走通道(6)，所述行走通道(6)用于供人行走。

5.根据权利要求1所述的渐变色镀膜一体机，其特征在于，所述防护组件(2)包括两防护元件(21)，所述防护元件(21)通过连接件(22)活动连接，所述两防护元件(21)的两边相互两两连接。

6.根据权利要求1所述的渐变色镀膜一体机，其特征在于，所述自转磁棒(1)包括一磁棒体(11)，所述磁棒体(11)顶部设有一凹槽，所述凹槽设有一圈轮齿，所述自转磁棒(1)顶部嵌有一齿轮组件，所述齿轮组件包括一齿轮(12)和一驱动电机(13)，所述齿轮(12)与轮齿啮合，所述自转磁棒(1)通过驱动电机(13)转动从而进行自转。

7.根据权利要求1所述的渐变色镀膜一体机，其特征在于，所述靶材组件(3)为至少七块靶材，所述靶材排列呈一圆形，且不同靶材溅射后颜色两两相互接近。

8.根据权利要求1所述的渐变色镀膜一体机，其特征在于，所述自转磁棒(1)和旋转基片架(4)的旋转方向相反。

9.根据权利要求1所述的渐变色镀膜一体机，其特征在于，所述旋转基片架(4)通过一齿轮机构(41)实现其旋转。

技术总结
本发明公开了渐变色镀膜一体机，包括一一体机箱，所述一体机箱由四面侧板、顶盖和封闭连接的底板构成，所述一体机箱内设有一自转磁棒、防护组件、靶材组件和旋转基片架、轨道和离子源在线清洗装置，所述自转磁棒、防护组件、靶材组件和旋转基片架同圆心的设置，所述轨道一端设于一体机箱的边缘，另一端延伸至自转磁棒外，所述离子源在线清洗装置在轨道上滑行。与现有技术相比，本发明提供的渐变色镀膜一体机首创性的采用了离子源的磁棒自转配合基片架的旋转，在基片进行渐变色镀膜时，可根据不同需求，通过将可拆卸的防护组件对靶材组件进行防护，有选择的选取不同的靶材区，从而达到对不同渐变色的镀膜要求。

技术研发人员：凌云;王聪;寇立;唐洪波
受保护的技术使用者：湘潭宏大真空技术股份有限公司
技术研发日：2019.12.12
技术公布日：2021.06.18