一种气场均匀的高温气相沉积炉的制作方法

文档序号:20306220发布日期:2020-04-07 21:36阅读:259来源:国知局
一种气场均匀的高温气相沉积炉的制作方法

本实用新型涉及高温气相沉积炉技术领域,特别是涉及一种气场均匀的高温气相沉积炉。



背景技术:

目前,国内高温气相沉积炉工作温度为800-1200℃,炉体结构为内室沉积、外室加热。多数工业用气相沉积炉尺寸增大至直径4m、高度4m,沉积气体自炉底进入炉内从炉顶排出,除气体热运动向上运动外,关键、主要动力是真空泵动力,因炉体直径是排气管道直径的20-30倍,会导致气体流动动力不同从而出现气场不均匀甚至在炉内近顶部位置出现涡流现象。



技术实现要素:

本实用新型的目的是提供一种气场均匀的高温气相沉积炉,避免炉内气体因为流动空间变径而不均匀、形成气体涡流,增加炉体气场均匀性,提高沉积效率。

为实现上述目的,本实用新型提供了一种气场均匀的高温气相沉积炉,包括炉盖和炉体,所述炉盖位于所述炉体的上方,所述炉盖和所述炉体均为方体结构,所述炉盖上方的中部设有与所述炉体连通的连接管,所述连接管通过排气管道与真空泵连接;

所述炉盖下方设有位于所述炉体内的缓冲架,所述缓冲架为空心圆台结构,所述缓冲架上方的开口位于所述连接管的下方,所述缓冲架下方的内径小于所述炉体的内径,所述缓冲架的架体上均匀分布有通孔。

优选的,所述炉体与所述炉盖之间设有密封圈,所述炉盖的外层设有保温层。

优选的,所述炉盖通过螺栓连接在所述炉体上,所述缓冲架的顶部通过螺栓连接在所述炉体上。

优选的,所述炉体的高度和内径均为4m,所述缓冲架的高度为20cm,所述通孔为圆形,所述通孔之间间隔2cm,其直径为5cm。

优选的,所述缓冲架的材质为碳碳板材。

因此,本实用新型采用上述结构的一种气场均匀的高温气相沉积炉,避免炉内气体因为流动空间变径而不均匀、形成气体涡流,增加炉体气场均匀性,提高沉积效率。

下面通过附图和实施例,对本实用新型的技术方案做进一步的详细描述。

附图说明

图1是本实用新型一种气场均匀的高温气相沉积炉实施例的示意图;

图2是本实用新型一种气场均匀的高温气相沉积炉中缓冲架的立体图。

附图标记

1、炉盖;2、炉体;3、连接管;4、排气管道;5、真空泵;6、缓冲架;7、通孔。

具体实施方式

下面结合附图对本实用新型的实施方式做进一步的说明。

图1是本实用新型一种气场均匀的高温气相沉积炉实施例的示意图,图2是本实用新型一种气场均匀的高温气相沉积炉中缓冲架的立体图,如图所示,一种气场均匀的高温气相沉积炉,包括炉盖1和炉体2,炉盖1位于炉体2的上方,炉盖1通过螺栓连接在炉体2上。炉体2与炉盖1之间设有密封圈,密封圈可以加强炉体2与炉盖1的密封性。炉盖1的外层设有保温层,保温层可以减少温度的散失。炉盖1和炉体2均为方体结构,炉体2的高度和内径均为4m。

炉盖1上方的中部设有与炉体2连通的连接管3,连接管3通过排气管道4与真空泵5连接,沉积气体由炉体2底部进入炉体2内工作,气体自下向上流动参与反应后被真空泵5动力沿与炉盖1顶部连通的连接管3排出。

因为炉体2的直径是排气管道4直径的20-30倍,会导致气体流动动力不同从而出现气场不均匀甚至在炉体2内近顶部位置出现涡流现象。炉盖1下方设有位于炉体2内的缓冲架6,缓冲架6的顶部通过螺栓连接在炉体2上。缓冲架6的材质为碳碳板材,可以适应炉体2内的高温。即在炉体2内靠近炉盖1顶位置增加耐高温板材缓冲、均匀真空泵5对气体的动力,达到均匀气相沉积并提高沉积效率的目的。

缓冲架6为空心圆台结构,缓冲架6的高度为20cm,缓冲架6下方的内径小于炉体2的内径,可以防止在缓冲架6与炉盖1间气流聚集。缓冲架6上方的开口位于连接管3的下方,气体经过缓冲架6后才会进入连接管3内。缓冲架6的架体上均匀分布有通孔7,通孔7为圆形,通孔7之间间隔2cm,其直径为5cm。通过缓冲架6及通孔7分布均匀气流动力,达到提高均匀气场、提高沉积效率目的。

因此,本实用新型采用上述结构的一种气场均匀的高温气相沉积炉,避免炉内气体因为流动空间变径而不均匀、形成气体涡流,增加炉体气场均匀性,提高沉积效率。

最后应说明的是:以上实施例仅用以说明本实用新型的技术方案而非对其进行限制,尽管参照较佳实施例对本实用新型进行了详细的说明,本领域的普通技术人员应当理解:其依然可以对本实用新型的技术方案进行修改或者等同替换,而这些修改或者等同替换亦不能使修改后的技术方案脱离本实用新型技术方案的精神和范围。



技术特征:

1.一种气场均匀的高温气相沉积炉,包括炉盖和炉体,所述炉盖位于所述炉体的上方,其特征在于:所述炉盖和所述炉体均为方体结构,所述炉盖上方的中部设有与所述炉体连通的连接管,所述连接管通过排气管道与真空泵连接;

所述炉盖下方设有位于所述炉体内的缓冲架,所述缓冲架为空心圆台结构,所述缓冲架上方的开口位于所述连接管的下方,所述缓冲架下方的内径小于所述炉体的内径,所述缓冲架的架体上均匀分布有通孔。

2.根据权利要求1所述的一种气场均匀的高温气相沉积炉,其特征在于:所述炉体与所述炉盖之间设有密封圈,所述炉盖的外层设有保温层。

3.根据权利要求1所述的一种气场均匀的高温气相沉积炉,其特征在于:所述炉盖通过螺栓连接在所述炉体上,所述缓冲架的顶部通过螺栓连接在所述炉体上。

4.根据权利要求1所述的一种气场均匀的高温气相沉积炉,其特征在于:所述炉体的高度和内径均为4m,所述缓冲架的高度为20cm,所述通孔为圆形,所述通孔之间间隔2cm,其直径为5cm。

5.根据权利要求1所述的一种气场均匀的高温气相沉积炉,其特征在于:所述缓冲架的材质为碳碳板材。


技术总结
本实用新型公开了一种气场均匀的高温气相沉积炉,包括炉盖和炉体,所述炉盖位于所述炉体的上方,所述炉盖和所述炉体均为方体结构,所述炉盖上方的中部设有与所述炉体连通的连接管,所述连接管通过排气管道与真空泵连接;所述炉盖下方设有位于所述炉体内的缓冲架,所述缓冲架为空心圆台结构,所述缓冲架上方的开口位于所述连接管的下方,所述缓冲架下方的内径小于所述炉体的内径,所述缓冲架的架体上均匀分布有通孔。本实用新型采用上述结构的一种气场均匀的高温气相沉积炉,避免炉内气体因为流动空间变径而不均匀、形成气体涡流,增加炉体气场均匀性,提高沉积效率。

技术研发人员:王金铎;啜艳明;郭宾;郭凤祥;周倩;胡士伟
受保护的技术使用者:保定顺天新材料股份有限公司
技术研发日:2019.07.22
技术公布日:2020.04.07
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