一种多腔室沉积金刚石薄膜装置结构的制作方法

本实用新型涉及真空镀膜领域，更具体地说，涉及一种多腔室沉积金刚石薄膜装置结构。

背景技术：

随着科学技术的飞速发展，真空镀膜的技术已经得到普遍应用，在镀制金刚石薄膜时，镀膜的效率是一个重要的问题，镀膜的效率不好，会严重影响产品的生产成本。

镀膜效率是指同一时间生长金刚石薄膜的多少，它与基片台的沉积面积有关，现有的金刚石薄膜沉积设备主要采用单一的基片台来生长金刚石薄膜，只能独立生长金刚石薄膜，不能同时生长多个金刚石薄膜，导致工作效率非常低，故，提出一种多腔室沉积金刚石薄膜装置结构。

技术实现要素：

1.要解决的技术问题

针对现有技术中存在的问题，本实用新型的目的在于提供一种多腔室沉积金刚石薄膜装置结构，具备可同时生长多个金刚石薄膜，工作效率高的优点，解决了现有的金刚石薄膜沉积设备主要采用单一的基片台来生长金刚石薄膜，只能独立生长金刚石薄膜，不能同时生长多个金刚石薄膜，导致工作效率非常低的问题。

2.技术方案

为解决上述问题，本实用新型采用如下的技术方案：

一种多腔室沉积金刚石薄膜装置结构，包括金刚石薄膜沉积室a，所述金刚石薄膜沉积室a的右侧设置有沉积室b，所述沉积室b的右侧设置有沉积室c，所述沉积室c的右侧设置有沉积室d，所述金刚石薄膜沉积室a、沉积室b、沉积室c和沉积室d内均设置有基片台，每个所述基片台上均设置有加热源，每个所述基片台的上方和下方均设置有加热电极，同一沉积室内的所述加热源和加热电极相互连接，每个下方的所述加热电极的底部均设置有热丝保直装置，所述金刚石薄膜沉积室a、沉积室b、沉积室c和沉积室d的顶部均设置有维持泵，所述维持泵的上方设置有真空泵，所述金刚石薄膜沉积室a、沉积室b、沉积室c和沉积室d的底部设置有流量计，所述流量计的下方设置有工作气体，所述流量计与工作气体相连接。

3.有益效果

相比于现有技术，本实用新型的优点在于：

本方案的真空镀膜的多腔室金刚石薄膜沉积装置结构，通过共用抽气系统、流量计、控制系统等，可以独立或者同时生长金刚石薄膜，并根据需要分时或同时开启a-d沉积室，从而使金刚石薄膜沉积效率更高、成本更低。

附图说明

图1为本实用新型的结构示意图。

图中标号说明：

1、沉积室a；2、沉积室b；3、沉积室c；4、沉积室d；5、基片台；6、热丝源；7、加热电极；8、热丝保直装置；9、维持泵；10、真空泵；11、流量计；12、工作气体。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述；显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例，基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

在本实用新型的描述中，需要说明的是，术语“上”、“下”、“内”、“外”“顶/底端”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。

在本实用新型的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“设置有”、“套设/接”、“连接”等，应做广义理解，例如“连接”，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。

请参阅图1，一种多腔室沉积金刚石薄膜装置结构，包括金刚石薄膜沉积室a1，金刚石薄膜沉积室a1的右侧设置有沉积室b2，沉积室b2的右侧设置有沉积室c3，沉积室c3的右侧设置有沉积室d4，金刚石薄膜沉积室a1、沉积室b2、沉积室c3和沉积室d4内均设置有基片台5，每个基片台5上均设置有加热源6，每个基片台5的上方和下方均设置有加热电极7，同一沉积室内的加热源6和加热电极7相互连接，每个下方的加热电极7的底部均设置有热丝保直装置8，金刚石薄膜沉积室a1、沉积室b2、沉积室c3和沉积室d4的顶部均设置有维持泵9，维持泵9的上方设置有真空泵10，金刚石薄膜沉积室a1、沉积室b2、沉积室c3和沉积室d4的底部设置有流量计11，流量计11的下方设置有工作气体12，流量计11与工作气体12相连接。

工作原理：本方案的真空镀膜的多腔室金刚石薄膜生长装置结构，在使用时，根据需要金刚石薄膜沉积室a、沉积室b、沉积室c、沉积室d，4个沉积室可以独立或者同时工作，每个沉积室都装有金刚石薄膜沉积基片台5，热丝源6、加热电极7、热丝保直装置8，每个沉积室安装有一个维持泵9、四个腔室共用一个真空泵10、流量计11、工作气体12，通过真空泵10抽真空、维持泵9维持真空，工作气体12通过流量计11给沉积室供应工作气体，根据工件多少，选择开启1个或多个沉积室，即可非常高效、低成本的完成金刚石薄膜生长。

需要说明的是，本实用新型未详述部分为现有技术，在此不做过多赘述。

以上所述，仅为本实用新型较佳的具体实施方式；但本实用新型的保护范围并不局限于此。任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内，根据本实用新型的技术方案及其改进构思加以等同替换或改变，都应涵盖在本实用新型的保护范围内。

技术特征：

1.一种多腔室沉积金刚石薄膜装置结构，包括金刚石薄膜沉积室a(1)，其特征在于：所述金刚石薄膜沉积室a(1)的右侧设置有沉积室b(2)，所述沉积室b(2)的右侧设置有沉积室c(3)，所述沉积室c(3)的右侧设置有沉积室d(4)，所述金刚石薄膜沉积室a(1)、沉积室b(2)、沉积室c(3)和沉积室d(4)内均设置有基片台(5)，每个所述基片台(5)上均设置有加热源(6)，每个所述基片台(5)的上方和下方均设置有加热电极(7)，同一沉积室内的所述加热源(6)和加热电极(7)相互连接，每个下方的所述加热电极(7)的底部均设置有热丝保直装置(8)，所述金刚石薄膜沉积室a(1)、沉积室b(2)、沉积室c(3)和沉积室d(4)的顶部均设置有维持泵(9)，所述维持泵(9)的上方设置有真空泵(10)，所述金刚石薄膜沉积室a(1)、沉积室b(2)、沉积室c(3)和沉积室d(4)的底部设置有流量计(11)，所述流量计(11)的下方设置有工作气体(12)，所述流量计(11)与工作气体(12)相连接。

技术总结
本实用新型涉及真空镀膜技术领域，且公开了一种多腔室沉积金刚石薄膜装置结构，包括金刚石薄膜沉积室A，所述金刚石薄膜沉积室A的右侧设置有沉积室B，所述沉积室B的右侧设置有沉积室C，所述沉积室C的右侧设置有沉积室D，所述金刚石薄膜沉积室A、沉积室B、沉积室C和沉积室D内均设置有基片台，每个所述基片台上均设置有加热源，每个所述基片台的上方和下方均设置有加热电极。本方案的真空镀膜的多腔室金刚石薄膜沉积装置结构，通过共用抽气系统、流量计、控制系统等，可以独立或者同时生长金刚石薄膜，并根据需要分时或同时开启A‑D沉积室，从而使金刚石薄膜沉积效率更高、成本更低。

技术研发人员：邹杨;孙蕾;邹松东
受保护的技术使用者：洛阳奥尔材料科技有限公司
技术研发日：2019.11.02
技术公布日：2020.05.22