一种电子束蒸发台的制作方法

本实用新型涉及电子束蒸设备技术领域，具体是一种电子束蒸发台。

背景技术：

电子束蒸发法是真空蒸发镀膜的一种，是在真空条件下利用电子束进行直接加热蒸发材料，使蒸发材料气化并向基片输运，在基底上凝结形成薄膜的方法。在电子束加热装置中，被加热的物质放置于水冷的坩埚中，可避免蒸发材料与坩埚壁发生反应影响薄膜的质量，因此，电子束蒸发沉积法可以制备高纯薄膜，同时在同一蒸发沉积装置中可以安置多个坩埚，实现同时或分别蒸发，沉积多种不同的物质。通过电子束蒸发，任何材料都可以被蒸发，不同材料需要采用不同类型的增竭以获得所要达到的蒸发率。电子束蒸发可以蒸发高熔点材料，比一般电阻加热蒸发热效率高、束流密度大、蒸发速度快，制成的薄膜纯度高、质量好，厚度可以较准确地控制，可以广泛应用于制备高纯薄膜和导电玻璃等各种光学材料薄膜。电子束蒸发的特点是不会或很少覆盖在目标三维结构的两侧，通常只会沉积在目标表面。这是电子束蒸发和溅射的区别。

现有的电子束蒸发台其真空腔体内一般只设置有一套坩埚，假如设置多套坩埚时，其真空腔体则体积增大。但是，真空腔体的制造成本和场地要求(无尘洁净生产车间)较高，对于企业而言成本较高。例如，目前在市场上的电子束蒸发台主要是日本ulvac和美国chamark50等进口品牌，它们的设备腔体设计方式都偏于庞大和载片少的问题。

技术实现要素：

本实用新型的目的在于提供一种电子束蒸发台，以解决上述背景技术中提出的问题。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：

一种电子束蒸发台，包括：

箱体，所述箱体为内部具有真空腔室的腔体；

旋转装置，所述旋转装置枢转安装于腔体的顶部，所述旋转装置放置有基片；

坩埚，所述坩埚设于旋转装置的下方，所述坩埚设置有多个，所述坩埚放置有靶材；

电子枪，所述电子枪设于腔体内，所述电子枪可对靶材施加高温。

优选地，所述电子枪设于腔体的一侧。

优选地，所述旋转装置包括旋转电机以及设于旋转电机的基座，所述基座设有多个间隔设置的固定器，所述基片放置于固定器。

优选地，所述固定器的外围设有行星盘。

优选地，所述固定器呈弧形状。

优选地，所述坩埚放置有不同金属材料。

优选地，所述腔体设有开口，所述开口枢转安装有开关门。

优选地，所述箱体的一侧还设有控制装置。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：一种电子束蒸发台，通过设置旋转装置使腔体内可以同时放置多个基片，在相同的腔体体积下本实用新型可以放置更多的基片，且可以通过电子枪对靶材通过电子束进行蒸发，使基片可以实现不同厚度的镀膜以及不同材质的镀膜，且不多材质的镀膜可以同时进行；且通过在相对体积的腔体内设置旋转装置，可以合理优化出合适的空间，又能满足工艺要求，产能要求，维护还方便。

附图说明

图1为一种电子束蒸发台的b部分剖视图；

图2为一种电子束蒸发台的侧视结构示意图；

图3为一种电子束蒸发台的正视图。

图中：1为箱体，11为腔体，12为开口，13为开关门，2为基座，20为旋转电机，21为固定器，3为行星盘，4为坩埚，5为电子枪。

具体实施方式

下面结合具体实施方式对本专利的技术方案作进一步详细地说明。

请参阅图1-3，一种电子束蒸发台，其特征在于,包括：

箱体1，所述箱体1为内部具有真空腔室的腔体11；

旋转装置，所述旋转装置枢转安装于腔体11的顶部，所述旋转装置放置有基片；其中，需要镀膜的被称为基片，镀的材料被称为靶材；

坩埚4，所述坩埚4设于旋转装置的下方，所述坩埚4设置有多个，所述坩埚4放置有靶材；

电子枪5，所述电子枪5设于腔体11内，所述电子枪5可对靶材施加高温。其中，电子枪5是加速电子轰击靶屏发光的一种装置，它发射出具有一定能量、一定束流以及速度和角度的电子束。(该电子束的方向和强度可以控制，通常由热阴极、控制电极和若干加速阳极等组成)电子枪5用来提供电子束，并轰击荧光屏形成不同灰度等级的图像。电子枪5一般分为热发射和场致发射两种；电子枪5的功能在于给出满足要求的电子束，而电子枪5的材料和工艺结构又必须考虑到电子枪5易于加工和使用方便。

通过设置旋转装置使腔体11内可以同时放置多个基片，在相同的腔体11体积下本实用新型可以放置更多的基片，且可以通过电子枪5对靶材通过电子束进行蒸发，使基片可以实现不同厚度的镀膜以及不同材质的镀膜，且不多材质的镀膜可以同时进行；且通过在相对体积的腔体11内设置旋转装置，可以合理优化出合适的空间，又能满足工艺要求，产能要求，维护还方便。

在本实用新型具体实施例中，所述电子枪5设于腔体11的一侧。通过电子枪5的倾斜发射电子束可以实现对不同金属进行蒸发加工。

在本实用新型具体实施例中，所述旋转装置包括旋转电机20以及设于旋转电机20的基座2，所述基座2设有多个间隔设置的固定器21，所述基片放置于固定器21。通过旋转电机20驱动基座2，从而带动位于基座2的固定器21转动，实现基片在不同角度加工和放置更多的基片。

在本实用新型具体实施例中，所述固定器21的外围设有行星盘3，通过行星盘3的设置可以控制基片的位置以及转动的角度，从而使基片与电子枪5相对应。

在本实用新型具体实施例中，所述固定器21呈弧形状。通过弧形状，可以减少金属蒸气的外散。

在本实用新型具体实施例中，所述坩埚4放置有不同金属材料。通过在坩埚4放置不同的金属材料可以实现在同一腔体11内对基片同时镀膜(不同材质)。

优选地，所述腔体设有开口12，所述开口12枢转安装有开关门13。

在本实用新型具体实施例中，所述箱体的一侧还设有控制装置，所述控制装置用于控制电子枪5和旋转装置的开启和关闭。

在本实用新型的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以通过具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。

上面对本专利的较佳实施方式作了详细说明，但是本专利并不限于上述实施方式，在本领域的普通技术人员所具备的知识范围内，还可以在不脱离本专利宗旨的前提下作出各种变化。

技术特征：

1.一种电子束蒸发台，其特征在于,包括：

箱体(1)，所述箱体(1)为内部具有真空腔室的腔体(11)；

旋转装置，所述旋转装置枢转安装于腔体(11)的顶部，所述旋转装置放置有基片；

坩埚(4)，所述坩埚(4)设于旋转装置的下方，所述坩埚(4)设置有多个，所述坩埚(4)放置有靶材；

电子枪(5)，所述电子枪(5)设于腔体(11)内，所述电子枪(5)可对靶材施加高温。

2.根据权利要求1所述的一种电子束蒸发台，其特征在于，所述电子枪(5)设于腔体(11)的一侧。

3.根据权利要求1所述的一种电子束蒸发台，其特征在于，所述旋转装置包括旋转电机(20)以及设于旋转电机(20)的基座(2)，所述基座(2)设有多个间隔设置的固定器(21)，所述基片放置于固定器(21)。

4.根据权利要求3所述的一种电子束蒸发台，其特征在于，所述固定器(21)的外围设有行星盘(3)。

5.根据权利要求3所述的一种电子束蒸发台，其特征在于，所述固定器(21)呈弧形状。

6.根据权利要求1所述的一种电子束蒸发台，其特征在于，所述坩埚(4)放置有不同金属材料。

7.根据权利要求1所述的一种电子束蒸发台，其特征在于，所述腔体设有开口(12)，所述开口(12)枢转安装有开关门(13)。

8.根据权利要求1所述的一种电子束蒸发台，其特征在于，所述箱体(1)的一侧还设有控制装置。

技术总结
本实用新型公开了一种电子束蒸发台，包括箱体、旋转装置、坩埚和电子枪，所述箱体为内部具有真空腔室的腔体，所述旋转装置枢转安装于腔体的顶部，所述旋转装置放置有基片，所述坩埚设于旋转装置的下方，所述坩埚设置有多个，所述坩埚放置有靶材，所述电子枪设于腔体内，所述电子枪可对靶材施加高温，通过设置旋转装置使腔体内可以同时放置多个基片，在相同的腔体体积下本实用新型可以放置更多的基片，且可以通过电子枪对靶材通过电子束进行蒸发，使基片可以实现不同厚度的镀膜以及不同材质的镀膜，且不多材质的镀膜可以同时进行；且通过在相对体积的腔体内设置旋转装置，可以合理优化出合适的空间，又能满足工艺要求，产能要求，维护还方便。

技术研发人员：马溢华
受保护的技术使用者：无锡芯谱半导体科技有限公司
技术研发日：2020.06.04
技术公布日：2020.12.25