一种用于低温溅射的遮罩的制作方法

1.本实用新型涉及低温溅射技术领域，特别是涉及一种用于低温溅射的遮罩。


背景技术：

2.传统的金属化薄膜溅射无需考虑溅射温度的问题，在等离子溅射腔体中，往往是需要高温溅射来实现薄膜的流动性和点火的可实施性，对于需要溅射的晶圆本身，温度往往是比较高的，并不会考虑低温溅射的需要，即晶圆本身需要保持在一定的温度下才能进行。
3.传统的遮罩主要是保护腔体和晶圆本身，将不需要溅射离子的地方遮盖而溅射在其上面。通常会有一个压环压在晶圆上起固定和压紧的作用，压环上也会有离子溅射，而离子溅射会导致压环温度升高，当压环接触到晶圆时，会导致晶圆的温度也会升高，无法降低晶圆本身温度。


技术实现要素：

4.本实用新型针对现有技术存在的问题和不足，提供一种新型的用于低温溅射的遮罩。
5.本实用新型是通过下述技术方案来解决上述技术问题的：
6.本实用新型提供一种用于低温溅射的遮罩，其特点在于，其包括上罩体和下罩体，所述上罩体的顶部固定在溅射腔体的适配器上，所述上罩体的下部的壁上沿着圆周方向开设有多个通孔，所述下罩体的壁上沿着圆周方向开设有与通孔相对应的长条调节孔，所述上罩体的下部套在下罩体内，并通过螺栓穿设对应的长条调节孔和通孔以固定上罩体和下罩体，所述下罩体的底部固定有底板，所述底板上开设有中心孔，所述底板上沿着圆周方向开设有多个安装孔，每一所述安装孔的边沿周缘上均放置有绝缘陶瓷柱，所述绝缘陶瓷柱套在固定柱内，所述固定柱固定于底板上，t型吊杆的顶端置于绝缘陶瓷柱的顶部，所述t型吊杆的底端与压环固定连接。
7.较佳地，每一所述固定柱均对应有一个保护罩，所述保护罩罩设对应的固定柱。
8.较佳地，所述保护罩的内腔高度大于t型吊杆的高度。
9.较佳地，所述上罩体的下部的壁上沿着圆周方向均匀地开设有三个通孔。
10.较佳地，所述底板上沿着圆周方向均匀地开设有三个安装孔。
11.较佳地，所述t型吊杆的底端与压环相螺接。
12.在符合本领域常识的基础上，上述各优选条件，可任意组合，即得本实用新型各较佳实例。
13.本实用新型的积极进步效果在于：
14.本实用新型通过将压环置于遮罩的下方，使离子不至于直接溅射到压环上面，从而达到降低晶圆本身温度的目的。
附图说明
15.图1为本实用新型较佳实施例的用于低温溅射的遮罩的结构示意图。
16.图2为本实用新型较佳实施例的用于低温溅射的遮罩的剖视图。
17.图3为本实用新型较佳实施例的上罩体的结构示意图。
18.图4为本实用新型较佳实施例的下罩体的结构示意图。
19.图5为本实用新型较佳实施例的绝缘陶瓷柱和固定柱的结构示意图。
20.图6为本实用新型较佳实施例的t型吊杆的结构示意图。
21.图7为本实用新型较佳实施例的保护罩的结构示意图。
具体实施方式
22.为使本实用新型实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
23.如图1
‑
7所示，本实施例提供一种用于低温溅射的遮罩，其包括上罩体1和下罩体2，所述上罩体1的顶部固定在溅射腔体的适配器上，所述上罩体1的下部的壁上沿着圆周方向均匀地开设有三个通孔，所述下罩体2的壁上沿着圆周方向开设有与通孔一一对应的长条调节孔3，所述上罩体1的下部套在下罩体2内，并通过螺栓4穿设对应的长条调节孔3和通孔以固定上罩体1和下罩体2。
24.所述下罩体2的底部固定有底板5，所述底板上开设有中心孔，所述底板5上沿着圆周方向均匀地开设有三个安装孔6，每一所述安装孔6的边沿周缘上放置有绝缘陶瓷柱7，所述绝缘陶瓷柱7套设在固定柱8内，所述固定柱8固定于底板5上，t型吊杆9的顶端置于绝缘陶瓷柱7的顶部，所述t型吊杆9的底端与压环10螺纹连接，每一所述固定柱8均对应有一个保护罩11，所述保护罩11罩设对应的固定柱8，所述保护罩11的内腔高度大于t型吊杆9的高度。
25.为了方便调节晶圆到遮罩的距离，本实用新型将遮罩设计为组合形式，上罩体1上的通孔与下罩体2上的长条调节孔3的不同位置对齐，并通过螺栓4穿设对应的长条调节孔3和通孔以固定上罩体1和下罩体2，通过长条调节孔3对下罩体2的上下调节，可以改变压环到晶圆的距离。
26.为了避免溅射离子通过安装孔进入绝缘陶瓷柱7内，设计了三个圆柱形的保护罩11来保护绝缘陶瓷柱7。
27.固定柱8则用来将绝缘陶瓷柱7固定在下遮罩上，这样t型吊杆9可以在绝缘陶瓷柱7内上下运动，可以起到隔绝压环10和遮罩的作用。
28.晶圆放置在载片台上，载片台带着晶圆向上移动，开始接触到压环10，随着载片台继续上升，带动压环10向上移动，t型吊杆9在保护罩11内向上移动。本实用新型通过将压环置于遮罩的下方，使离子不至于直接溅射到压环上面，从而达到降低晶圆本身温度的目的。
29.使用本专利前晶圆的表面温度在正常工作条件下在100度左右，使用本专利后，晶圆的表面温度实际量测70度，起到了应有的作用。
30.虽然以上描述了本实用新型的具体实施方式，但是本领域的技术人员应当理解，这些仅是举例说明，本实用新型的保护范围是由所附权利要求书限定的。本领域的技术人员在不背离本实用新型的原理和实质的前提下，可以对这些实施方式做出多种变更或修改，但这些变更和修改均落入本实用新型的保护范围。


技术特征：
1.一种用于低温溅射的遮罩，其特征在于，其包括上罩体和下罩体，所述上罩体的顶部固定在溅射腔体的适配器上，所述上罩体的下部的壁上沿着圆周方向开设有多个通孔，所述下罩体的壁上沿着圆周方向开设有与通孔相对应的长条调节孔，所述上罩体的下部套在下罩体内，并通过螺栓穿设对应的长条调节孔和通孔以固定上罩体和下罩体，所述下罩体的底部固定有底板，所述底板上开设有中心孔，所述底板上沿着圆周方向开设有多个安装孔，每一所述安装孔的边沿周缘上均放置有绝缘陶瓷柱，所述绝缘陶瓷柱套设在固定柱内，所述固定柱固定于底板上，t型吊杆的顶端置于绝缘陶瓷柱的顶部，所述t型吊杆的底端与压环固定连接。2.如权利要求1所述的用于低温溅射的遮罩，其特征在于，每一所述固定柱均对应有一个保护罩，所述保护罩罩设对应的固定柱。3.如权利要求2所述的用于低温溅射的遮罩，其特征在于，所述保护罩的内腔高度大于t型吊杆的高度。4.如权利要求1所述的用于低温溅射的遮罩，其特征在于，所述上罩体的下部的壁上沿着圆周方向均匀地开设有三个通孔。5.如权利要求1所述的用于低温溅射的遮罩，其特征在于，所述底板上沿着圆周方向均匀地开设有三个安装孔。6.如权利要求1所述的用于低温溅射的遮罩，其特征在于，所述t型吊杆的底端与压环相螺接。

技术总结
本实用新型公开了一种用于低温溅射的遮罩，包括上罩体和下罩体，上罩体的顶部固定在溅射腔体的适配器上，上罩体的下部的壁上沿着圆周方向开设有多个通孔，下罩体的壁上沿着圆周方向开设有与通孔相对应的长条调节孔，上罩体的下部套在下罩体内，通过螺栓穿设对应的长条调节孔和通孔以固定上罩体和下罩体，下罩体的底部固定有底板，底板上开设有中心孔，底板上沿着圆周方向开设有多个安装孔，每一所述安装孔的边沿周缘上均放置有绝缘陶瓷柱，绝缘陶瓷柱套设在固定柱内，固定柱固定于底板上，T型吊杆的顶端置于绝缘陶瓷柱的顶部，T型吊杆的底端与压环固定连接。底端与压环固定连接。底端与压环固定连接。


技术研发人员：张强
受保护的技术使用者：上海悦匠实业有限公司
技术研发日：2020.12.28
技术公布日：2021/9/7