一种磁控溅射真空镀膜机的制作方法

文档序号:30452997发布日期:2022-06-18 02:27阅读:来源:国知局

技术特征:
1.一种磁控溅射真空镀膜机,包括,所述包括镀膜机室(10),以及固定连接在镀膜机室(10)底部的底座(3),还有铰链方式连接在镀膜机室(10)侧的室门(9),镀膜机室(10)的右侧位置固定连接有闭门器(9a),通过闭门器(9a)闭合室门(9),其特征在于:所述磁控溅射真空镀膜机还包括:靶材溅射机构,用于镀膜靶材的溅射,所述靶材溅射机构包括若干磁控靶(11),磁控靶(11)包括由真空镀膜机顶部安装延伸到镀膜机室(10)及室门(9)内部的旋转阴极和靶材,磁控靶(11)设置为若干组,所述镀膜机室(10)中心设置两组,所述镀膜机室(10)内部侧边对称设置两组,所述室门(9)内侧设置一组;以及物件装持机构,设在镀膜机室(10)底部,用于镀膜物件的装持,所述物件装持机构包括转动连接在镀膜机室(10)底部的工件底架(6),工件底架(6)的转动部位设有传动组件(5),用于控制工件底架(6)转动,所述工件底架(6)的顶部外缘边设置若干物件转架(8),物件转架(8)设有自转组件,用于控制物件转架(8)绕自身轴线转动;以及真空抽取机构,连接设在镀膜机室(10)远离室门(9)的一侧,用于对镀膜机室(10)内部进行抽真空处理。2.根据权利要求1所述的一种磁控溅射真空镀膜机,其特征在于:所述传动组件(5)包括驱动件,驱动件为电机,驱动件固定设在镀膜机室(10)外侧底部,驱动件的输出端和工件转架的转动部位底端均固定设有皮带轮,两个所述皮带轮之间设置同步带。3.根据权利要求1或2所述的一种磁控溅射真空镀膜机,其特征在于:所述自转组件包括固定连接在镀膜机室(10)底部的中心齿轮,中心齿轮中心穿过工件底架(6)的转动部位,中心齿轮的外缘啮合连接若干成圆周分布的齿轮,单个所述齿轮的顶面固定连接物件转架(8)的底端,物件转架(8)底部转动连接工件底架(6)。4.根据权利要求3所述的一种磁控溅射真空镀膜机,其特征在于:所述真空抽取机构包括连接在镀膜机室(10)侧壁上的mv主抽阀(13),mv主抽阀(13)顶部设置有vv进气阀(12)和srv防湍阀(14),mv主抽阀(13)底部设置分子泵(2),分子泵(2)固定连接在底座(3)上,所述mv主抽阀(13)远离镀膜机箱(10)的另一端设有弯管,弯管管道连接在主抽气管上,主抽气管顶部设置有rv粗抽阀(15),所述主抽气管靠近镀膜机箱(10)的一端端部设置有波纹管,波纹管的另一端管道连接srv防湍阀(14),所述主抽气管底部连接有hv高抽阀(1),所述主抽气管远离镀膜机箱(10)的一端端部管道连接mp罗茨泵(16),mp罗茨泵(16)底部管道连接rp机械泵(17),mp罗茨泵(16)固定连接在rp机械泵(17)上部。5.根据权利要求4所述的一种磁控溅射真空镀膜机,其特征在于:所述镀膜机室(10)连接有深冷设备(18)和稳压设备(21),深冷设备(18)为单级蒸汽压缩制冷机,用于镀膜机室(10)内部的水气捕集,稳压设备(21)用于稳定镀膜机的电压,所述靶材溅射机构、物件装持机构和真空抽取机构中的电器元件电性连接电控柜(19)。6.根据权利要求5所述的一种磁控溅射真空镀膜机,其特征在于:所述底座(3)底部、rp机械泵(17)底部、深冷设备(18)底部、电控柜(19)底部和稳压设备(21)底部均设置有若干移动轮(4),移动轮(4)为带有刹车的万向轮。7.根据权利要求6所述的一种磁控溅射真空镀膜机,其特征在于:所述镀膜机室(10)内部侧壁设有若干清洗靶(20),用于对镀膜物件的镀前表面清洗。8.根据权利要求7所述的一种磁控溅射真空镀膜机,其特征在于:所述室门(9)上设有
视窗(7),用于观察镀膜的工作进度。

技术总结
本发明公开了一种磁控溅射真空镀膜机,包括箱式镀膜机室,固定连接在镀膜机底部的底座,还有铰链连接的镀膜机室门,镀膜机右侧位置固定连接有闭门器,闭门器压紧室门,所述磁控溅射真空镀膜机还包括:靶材溅射机构包括若干磁控靶,磁控靶包括安装在镀膜机上的靶材和旋转阴极,磁控靶设置为若干组,所述镀膜机室中心设置两组磁控靶,所述镀膜机室内部侧边对称设置两组磁控靶。通过本发明设计的一种磁控溅射真空镀膜机,采用真空溅射镀膜原理对物件进行镀膜,镀膜均匀,同时镀膜工作效率高,并且真空抽取速度较快,室内压强稳定,使用安全便捷,在镀膜技术领域有可利用价值。在镀膜技术领域有可利用价值。在镀膜技术领域有可利用价值。


技术研发人员:谢学东
受保护的技术使用者:丹阳市宝来利真空机电有限公司
技术研发日:2022.02.09
技术公布日:2022/6/17
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