一种硅系弹簧钢奥氏体晶粒的浸蚀溶液及浸蚀方法与流程

1.本发明属于热处理技术领域，是一种硅系弹簧钢奥氏体晶粒的浸蚀溶液及浸蚀方法。


背景技术：

2.弹簧钢经淬火回火热处理后需要用到浸蚀溶液。现有技术常用的奥氏体晶粒浸蚀溶液的配方复杂，浸蚀效果不理想，通过金相显微镜显示的金相照片效果差，对后续奥氏体晶粒的研究造成困扰。


技术实现要素：

3.本发明的目的是提供一种硅系弹簧钢奥氏体晶粒的浸蚀溶液及浸蚀方法，该溶液可以稳定地将奥氏体晶粒显示出来，方法简单有效。
4.发明的技术方案：一种硅系弹簧钢奥氏体晶粒的浸蚀溶液，化学组成质量百分比为：苦味酸3%~6%，氯化铁0.2%~0.5%，盐酸0.05%~0.1%，工人洗手液0.1%~0.2%，其余为蒸馏水，将其充分混匀，加热至80~90℃保温20~30秒。
5.一种硅系弹簧钢奥氏体晶粒的浸蚀溶液的浸蚀方法，包括以下步骤：（1）制样：将试样加工成φ(10～12)mm
×
（10～15）mm，进行热处理，再进行磨削、抛光处理，试样表面粗糙度与金相试样相同；（2）浸蚀溶液配制：按化学组成质量百分比为：苦味酸3%~6%，氯化铁0.2%~0.5%，盐酸0.05%~0.1%，0.1%~0.2%工人洗手液，其余为蒸馏水，将其充分混匀，加热至80℃～90℃制成浸蚀溶液；（3）浸蚀：将试样放到配好的浸蚀溶液中，待检测面朝上，浸蚀20~30秒；浸蚀完将样品取出，水冲洗干净；（4）抛光：将浸蚀好的样品表面进行轻微抛光处理，吹干，再利用金相显微镜观察获得的奥氏体晶粒。
6.本发明的优点在于，浸蚀溶液配方简单，浸蚀方法稳定可靠，显示效果好、浸蚀时间更短等特点，可实现对奥氏体晶粒进行浸蚀和显示。
附图说明
7.图1 为浸蚀后未抛光的奥氏体晶粒图。
8.图2为浸蚀后轻微抛光的奥氏体晶粒图。
具体实施方式
9.下面结合实施例进一步说明。所选实施例中同时涉及浸蚀溶液及浸蚀方法。
10.实施例1：
x60si2mn硅系弹簧钢扁钢奥氏体晶粒浸蚀，工艺步骤如下：（1）在扁钢上取样，试样大小为φ12mm
×
15mm，浸蚀面大小为φ12mm，进行热处理，再进行磨削、抛光处理，使试样表面粗糙度与金相试样相同；（2）在300ml烧杯中加入100ml水，依次加入苦味酸3g，氯化铁0.3g，盐酸0.05ml，工人洗手液0.1ml，将溶液混匀，置于保温炉上进行加热，温度为80～90℃；（3）将试样待检测面朝上放入浸蚀液中，以长镊子加持并不断地晃动避免表面浸蚀产物聚集。20秒后将试样取出，冲洗干净，吹干；（4）将浸蚀后的试样进行轻抛光，然后利用金相显微镜对组织进行观察。
11.实施例2 ：x60si2mn硅系弹簧钢盘条奥氏体晶粒浸蚀，工艺步骤如下：（1）在盘条上取样，试样大小为φ12mm
×
15mm，浸蚀面大小为φ12mm，进行热处理，再进行磨削、抛光处理，使试样表面粗糙度与金相试样相同；（2）在300ml烧杯中加入100ml水，依次加入苦味酸5g，氯化铁0.5g，盐酸0.1ml，工人洗手液0.2ml，将溶液混匀，置于保温炉上进行加热，温度为80～90℃；（3）将试样待检测面朝上放入浸蚀液中，以长镊子加持并不断地晃动避免表面浸蚀产物聚集。20秒后将试样取出，冲洗干净，吹干；（4）将浸蚀后的试样进行轻抛光，然后利用金相显微镜对组织进行观察。


技术特征：
1.一种硅系弹簧钢奥氏体晶粒的浸蚀溶液，其特征在于：化学组成质量百分比为苦味酸3%~6%，氯化铁0.2%~0.5%，盐酸0.05%~0.1%，工人洗手液0.1%~0.2%，其余为蒸馏水；将其充分混匀，加热至80~90℃保温20~30秒。2.一种硅系弹簧钢奥氏体晶粒的浸蚀溶液的浸蚀方法，包括以下步骤：（1）制样：将试样加工成φ(10～12)mm
×
（10～15）mm，进行热处理，再进行磨削、抛光处理，试样表面粗糙度与金相试样相同；（2）浸蚀溶液配制：按化学组成质量百分比为：苦味酸3%~6%，氯化铁0.2%~0.5%，盐酸0.05%~0.1%，工人洗手液0.1%~0.2%，其余为蒸馏水，将其充分混匀，加热至80℃～90℃制成浸蚀溶液；（3）浸蚀：将试样放到配好的浸蚀溶液中，待检测面朝上，浸蚀20~30秒；浸蚀完将样品取出，水冲洗干净；（4）抛光：将浸蚀好的样品表面进行轻微抛光处理，吹干，再利用金相显微镜观察获得的奥氏体晶粒。

技术总结
一种硅系弹簧钢奥氏体晶粒的浸蚀溶液及其浸蚀方法，浸蚀溶液的化学组成质量百分比为：苦味酸3%~6%，氯化铁0.2%~0.5%，盐酸0.05%~0.1%，工人洗手液0.1%~0.2%，其余为蒸馏水；将其充分混匀，加热至80~90℃保温20~30秒。浸蚀方法包括以下步骤：（1）制样；（2）浸蚀溶液配制；（3）浸蚀；（4）抛光。浸蚀溶液配方简单，浸蚀方法稳定可靠，显示效果好、浸蚀时间更短等特点，可实现对奥氏体晶粒进行浸蚀和显示。实现对奥氏体晶粒进行浸蚀和显示。实现对奥氏体晶粒进行浸蚀和显示。


技术研发人员：王双双 彭宁琦 田志国 袁桥军
受保护的技术使用者：湖南华菱湘潭钢铁有限公司
技术研发日：2022.06.21
技术公布日：2022/9/9