用于真空炉的底注式浇注系统的制作方法

本申请涉及浇注设备领域，特别涉及一种用于真空炉的底注式浇注系统。

背景技术：

1、大型真空感应熔炼炉是用于高性能特种金属的熔炼设备，基于良好的真空氛围，目前的真空感应熔炼均可以使高性能合金的成分得到准确的控制，并使有害元素的脱除效率和效果显著提升。熔炼完毕后破除真空，钢水被倾倒并用于浇注。通常铸锭中包括多个待浇注模具，以固定次序排列的模具在浇注的水口下执行运动以完成每个模具浇注。在模具更替时熔液持续下注，熔液浇到模具外面造成浪费，降低熔液收得率。目前解决该问题的常规技术手段是在两个模具之放置一个过度接盘，假设从一个模具转到另一个模具时间为2秒，按水口直径30mm计算，每秒钟会浇到外面5kg左右，以一共10个模具计将造成90kg的熔液因浇到模具外而被浪费。

技术实现思路

1、本申请的目的在于提供一种用于真空炉的底注式浇注系统，采用塞杆控制加上浇口杯液面控制技术，可以实现全自动化浇注，浇注速度快。

2、本申请公开了一种用于真空炉的底注式浇注系统，包括：熔炼腔、铸锭腔、用于浇注发生的通道空间；其中

3、通道空间沿着其包含的溜槽轨道延伸，并包括远离熔炼腔的封闭的第一端部、与熔炼腔连通的第二端部，溜槽在溜槽轨道上可在第一端部和第二端部之间移动，当溜槽移动到第二端部时，接收来自熔炼腔内的感应炉倾倒出的熔液；

4、溜槽在水口的正上方位置设置有塞棒，当溜槽位于第二端部时，塞棒与塞棒伺服控制装置连接，并在塞棒伺服控制装置的控制下，执行上下往复运动，从而控制水口开闭；

5、铸锭腔包括多个模具，多个模具排列在水口正下方并围绕已知中心轴线回转。

6、在一个优选例中，所述塞棒伺服控制装置包括上固定座、真空密封圈、轴承、下固定座、防尘圈、塞棒连接座、伺服驱动、滚珠丝杆、防转杆件、丝母座、升降轴；其中，滚珠丝杆在伺服驱动的动力下上下位移，从而带动升降轴做升降运动。

7、在一个优选例中，通道空间在靠近第一端部的位置设置有第一隔离阀，当第一隔离阀关闭时，第一端部形成封闭的、可容纳溜槽的溜槽腔。

8、在一个优选例中，通道空间在靠近第二端部的位置设置有第二隔离阀，当第二隔离阀关闭时，第二端部形成与熔炼腔连通的封闭空间。

9、在一个优选例中，还包括溜槽行走驱动装置，溜槽行走驱动装置包括链轮箱、减速电机、链条储存筒、链条，其中链条与溜槽的外框架连接；链条在减速电机的驱动与链轮的传动下做前进或后移运动，从而带动溜槽移动。

10、在一个优选例中，溜槽包括外框架、塞棒固定座、顺次连接的塞棒连接块、耐高温轴承、耐高温弹簧、塞棒夹紧杆座、塞棒，还包括溜槽体、开设在溜槽体底部并贯穿的水口；其中，耐高温弹簧使得塞棒对水口有预紧力。

11、在一个优选例中，在通道空间靠近水口处设置有液面检测装置，液面检测装置用于检测正在浇注的模具中的熔液液位。

12、在一个优选例中，还包括摄像头，摄像头实时地采集以下至少一种图像：塞棒与塞棒伺服控制装置连接处的图像、塞棒通过上下位移运动开闭水口的图像、溜槽在溜槽轨道上的图像。

13、在一个优选例中，所述丝母座在两侧与防转杆件连接并与升降轴锁紧，从而防止升降轴发生旋转运动。

14、在一个优选例中，塞棒伺服控制装置的塞棒连接座限定一个包围形凹槽，用于与溜槽上的所述塞棒连接块配合，且限制连接块仅在凹槽内滑动。

15、本申请至少具有以下技术效果：

16、1.真空炉用的底注式浇注系统是在真空环境下引入塞棒伺服控制装置，控制溜槽内的熔液关闭或开启浇注，使得浇注过程是可控制的，需要浇注时由塞棒伺服控制装置打开塞棒浇注，不需要浇注时通过塞棒向下运动关闭水口，这样在一个模具浇注完毕，移动到下一个模具浇注的时候可以关闭铁水流，让溜槽内铁水全部是按需要浇注到模具内，减少浪费、提高能耗，预计可将产品的收得率提高2～5％。

17、本申请的说明书中记载了大量的技术特征，分布在各个技术方案中，如果要罗列出本申请所有可能的技术特征的组合(即技术方案)的话，会使得说明书过于冗长。为了避免这个问题，本申请上述
技术实现要素：
中公开的各个技术特征、在下文各个实施方式和例子中公开的各技术特征、以及附图中公开的各个技术特征，都可以自由地互相组合，从而构成各种新的技术方案(这些技术方案均应该视为在本说明书中已经记载)，除非这种技术特征的组合在技术上是不可行的。例如，在一个例子中公开了特征a+b+c，在另一个例子中公开了特征a+b+d+e，而特征c和d是起到相同作用的等同技术手段，技术上只要择一使用即可，不可能同时采用，特征e技术上可以与特征c相组合，则，a+b+c+d的方案因技术不可行而应当不被视为已经记载，而a+b+c+e的方案应当视为已经被记载。

技术特征：

1.一种用于真空炉的底注式浇注系统，其特征在于，包括：熔炼腔、铸锭腔、用于浇注发生的通道空间；其中

2.如权利要求1所述的底注式浇注系统，其特征在于，所述塞棒伺服控制装置包括上固定座、真空密封圈、轴承、下固定座、防尘圈、塞棒连接座、伺服驱动、滚珠丝杆、防转杆件、丝母座、升降轴；其中，滚珠丝杆在伺服驱动的动力下上下位移，从而带动升降轴做升降运动。

3.如权利要求1所述的底注式浇注系统，其特征在于，通道空间在靠近第一端部的位置设置有第一隔离阀，当第一隔离阀关闭时，第一端部形成封闭的、可容纳溜槽的溜槽腔。

4.如权利要求1所述的底注式浇注系统，其特征在于，通道空间在靠近第二端部的位置设置有第二隔离阀，当第二隔离阀关闭时，第二端部形成与熔炼腔连通的封闭空间。

5.如权利要求1所述的底注式浇注系统，其特征在于，还包括溜槽行走驱动装置，溜槽行走驱动装置包括链轮箱、减速电机、链条储存筒、链条，其中链条与溜槽的外框架连接；链条在减速电机的驱动与链轮的传动下做前进或后移运动，从而带动溜槽移动。

6.如权利要求1所述的底注式浇注系统，其特征在于，溜槽包括外框架、塞棒固定座、顺次连接的塞棒连接块、耐高温轴承、耐高温弹簧、塞棒夹紧杆座、塞棒，还包括溜槽体、开设在溜槽体底部并贯穿的水口；其中，耐高温弹簧使得塞棒对水口有预紧力。

7.如权利要求1所述的底注式浇注系统，其特征在于，在通道空间靠近水口处设置有液面检测装置，液面检测装置用于检测正在浇注的模具中的熔液液位。

8.如权利要求1所述的底注式浇注系统，其特征在于，还包括摄像头，摄像头实时地采集以下至少一种图像：塞棒与塞棒伺服控制装置连接处的图像、塞棒通过上下位移运动开闭水口的图像、溜槽在溜槽轨道上的图像。

9.如权利要求2所述的底注式浇注系统，其特征在于，所述丝母座在两侧与防转杆件连接并与升降轴锁紧，从而防止升降轴发生旋转运动。

10.如权利要求6所述的底注式浇注系统，其特征在于，塞棒伺服控制装置的塞棒连接座限定一个包围形凹槽，用于与溜槽上的所述塞棒连接块配合，且限制连接块仅在凹槽内滑动。

技术总结
本申请公开了一种用于真空炉的底注式浇注系统，包括：熔炼腔、铸锭腔、用于浇注发生的通道空间；通道空间包括远离熔炼腔的封闭的第一端部、与熔炼腔连通的第二端部，溜槽在溜槽轨道上可在第一端部和第二端部之间移动，当溜槽移动到第二端部时，接收来自熔炼腔内的感应炉倾倒出的熔液；溜槽在水口的正上方位置设置有塞棒，当溜槽位于第二端部时，塞棒与塞棒伺服控制装置连接，并在控制下执行上下往复运动，从而控制水口开闭；铸锭腔包括多个模具，多个模具排列在水口正下方并围绕已知中心轴线回转。本申请使浇注过程可控，在一个模具浇注完毕移动到下一个模具浇注的时候可关闭铁水流，让溜槽内铁水全部是按需要浇注到模具内，减少浪费、提高能耗。

技术研发人员：林永良,代传峰,李艳
受保护的技术使用者：上海新研工业设备股份有限公司
技术研发日：
技术公布日：2024/4/29