本发明涉及铝基碳化硅生产,特别是涉及一种低应力的铝基碳化硅材料及其制备方法。
背景技术:
1、铝基复合材料由于具有高强度、耐磨损、高导热等优点,具有广阔的应用范围。铝基碳化硅是一种金属基复合材料,由铝和碳化硅颗粒所组成。现有的铝基碳化硅材料,由于其制备工艺及配方的缺陷,使制得的产品存在内部不均匀、存在内部气孔、表面缺陷等问题,因而造成最终产品存在较大内应力,影响产品的尺寸精度及形位精度。且现有的铝基碳化硅材料强度和致密度均不够高,在特殊领域无法应用。
技术实现思路
1、鉴于以上所述现有技术的缺点,本发明的目的在于提供一种低应力的铝基碳化硅材料,用于解决现有技术中内部不均匀、存在较大内应力、影响产品的尺寸精度及形位精度、强度和致密度低的问题,同时,本发明还将提供一种低应力的铝基碳化硅材料的制备方法。
2、为实现上述目的及其他相关目的,
3、本发明的第一方面,提供一种低应力的铝基碳化硅材料的制备方法,包括以下步骤:
4、s1、按比例取原料,所述原料包括碳化硅颗粒、氧化铝纤维、造孔剂和粘结剂,将原料混合均匀后经过模压成型工艺制成生坯;
5、s2、将步骤s1得到的生坯经脱脂与烧结制成多孔预制坯;
6、s3、将铝合金经过真空压力熔渗工艺渗入多孔预制坯的空隙中,得到铝基碳化硅材料粗产品;
7、s4、将步骤s3得到的铝基碳化硅材料粗产品经过冷热处理工艺,得到一种低应力的铝基碳化硅材料。
8、于本发明的一实施例中,在步骤s1中,所述原料包括20-40重量份的碳化硅颗粒、10-40重量份氧化铝纤维、5-15重量份的造孔剂和5-15重量份的粘结剂。
9、于本发明的一实施例中,在步骤s1中,所述粘结剂包括环氧树脂或酚醛树脂。
10、于本发明的一实施例中,在步骤s1中,所述造孔剂包括淀粉或石墨。
11、于本发明的一实施例中,在步骤s1中,所述原料还包括高温粘结剂,所述高温粘结剂包括硅酸盐或磷酸盐。
12、于本发明的一实施例中,在步骤s2中,将生坯放入烧结炉中,在空气中进行脱脂与烧结,脱脂温度为460℃±20℃,烧结温度为1120℃±20℃。
13、于本发明的一实施例中,在步骤s3中,所述铝合金包括4-8重量份的si,3-5重量份的cu,3-5重量份的mg,70-90重量份的al。
14、于本发明的一实施例中,在步骤s3中,真空压力熔渗工艺包括以下步骤:
15、s31、将铝合金块和多孔预制坯按顺序放入真空热压熔渗炉,加热至720℃±20℃后进行保温;
16、s32、保温10min后开始加压至15mpa,并保压10min,随后降温,降温过程中持续加压至凝固。
17、于本发明的一实施例中,在步骤s4中,所述冷热处理工艺包括以下步骤:
18、s41、将铝基碳化硅材料粗产品升温至280℃±10℃,升温时间为2h±0.5h,并保温4h±0.5h,然后自然降至室温;
19、s42、将降至室温的铝基碳化硅材料粗产品采用液氮浸泡,使其降至-180℃±10℃,降温时间为为2h±0.5h,并保温4h±0.5h,然后自然升至室温。
20、本发明的第二方面,提供一种低应力的铝基碳化硅材料,其通过上述一种低应力的铝基碳化硅材料的制备方法制得。
21、如上所述,本发明的一种低应力的铝基碳化硅材料及其制备方法,具有以下有益效果:
22、1、通过改良原料得配方及比例,使制造出的粗产品尺寸保持良好、强度高、致密度高、内部均匀,而且通过冷热处理工艺消除了铝基碳化硅材料内部结构的应力,使其尺寸精度及形位精度稳定不变。
23、2、通过调整铝合金的成分及含量,改善铝基碳化硅材料的力学性能,提高其抗腐蚀性和耐磨损性,该工艺能得到广泛应用。
1.一种低应力的铝基碳化硅材料的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:
2.根据权利要求1所述的一种低应力的铝基碳化硅材料的制备方法,其特征在于,在步骤s1中,所述原料包括20-40重量份的碳化硅颗粒、10-40重量份氧化铝纤维、5-15重量份的造孔剂和5-15重量份的粘结剂。
3.根据权利要求1所述的一种低应力的铝基碳化硅材料的制备方法,其特征在于,在步骤s1中,所述粘结剂包括环氧树脂或酚醛树脂。
4.根据权利要求1所述的一种低应力的铝基碳化硅材料的制备方法,其特征在于,在步骤s1中,所述造孔剂包括淀粉或石墨。
5.根据权利要求1所述的一种低应力的铝基碳化硅材料的制备方法,其特征在于,在步骤s1中,所述原料还包括高温粘结剂,所述高温粘结剂包括硅酸盐或磷酸盐。
6.根据权利要求1所述的一种低应力的铝基碳化硅材料的制备方法,其特征在于,在步骤s2中,将生坯放入烧结炉中,在空气中进行脱脂与烧结,脱脂温度为460℃±20℃,烧结温度为1120℃±20℃。
7.根据权利要求1所述的一种低应力的铝基碳化硅材料的制备方法,其特征在于,在步骤s3中,所述铝合金包括4-8重量份的si,3-5重量份的cu,3-5重量份的mg,70-90重量份的al。
8.根据权利要求1所述的一种低应力的铝基碳化硅材料的制备方法,其特征在于,在步骤s3中,真空压力熔渗工艺包括以下步骤:
9.根据权利要求1-8任一所述的一种低应力的铝基碳化硅材料的制备方法,其特征在于,在步骤s4中,所述冷热处理工艺包括以下步骤:
10.一种低应力的铝基碳化硅材料,其特征在于,所述一种低应力的铝基碳化硅材料通过上述权利要求1-9中任一项所述的一种低应力的铝基碳化硅材料的制备方法制得。