一种增加镀膜均匀性的进气装置的制作方法

1.本实用新型涉及镀膜技术领域，具体涉及一种增加镀膜均匀性的进气装置。


背景技术：

2.在真空溅射镀膜、真空离子镀膜和真空化学气相沉积等镀膜设备上都设有进气系统。进气系统主要是从进气管道流出的气体依靠与机械部件表面的碰撞以及气体自身的扩散运动达到进气的均匀性，从而保证沉积膜层的均匀性和溅射沉积过程的稳定定性。为了得到均匀的膜层，合理设计进气系统是非常重要的。
3.由于传统设计的进气装置是气体通过一根进气管直接进真空腔内，进入气体压力高又未经过体积膨胀的减压过程而直接进入工作空间会导致进气小孔附近的“束流”效应明显，破坏气体工作空间的特性，导致沉积膜层的不均匀。


技术实现要素：

4.本实用新型提出的一种增加镀膜均匀性的进气装置，能够保证均匀进气，从而提高镀膜膜层均匀性的进气装置。
5.为实现上述目的，本实用新型采用了以下技术方案：
6.一种增加镀膜均匀性的进气装置，包括进气管、连接法兰、多层反射束流管和反射板；
7.所述多层反射束流管设置在真空腔体内，所述多层反射束流管包括内层束流管和外层束流管；
8.所述进气管与所述连接法兰外端面焊接为一体，所述多层反射束流管与所述连接法兰内端面焊接为一体，所述连接法兰与真空腔体连通，所述反射板与真空腔体焊接为一体。
9.进一步的，所述内层束流管和外层束流管中每层束流管上均匀布置多个小孔，且每层束流管之间孔位交错。
10.进一步的，所述多层反射束流管开的小孔，内层孔径小于外层孔径或者内层孔数小于外层孔数。
11.进一步的，所述发射板做成平面、弧面形式。
12.由上述技术方案可知，本实用新型进气装置设有与真空腔室连接的连接法兰，高压气体经过进气管进入多层发射束流管内，在内层束流管内气体分子与分子、分子与管壁多次碰撞，使气体密度变的均匀，然后从多层反射束流管内层束流管的小孔逸出，经外层束流管管壁的反射，在外层束流管内重复运动过程，最后通过外层束流管的小孔逸出，经反射板反射后进入真空室腔内，达到气体密度均匀。
13.总的来说，本实用新型的该方案不仅可以使进气密度均匀，同时可以消除进气孔附近产生的束流效应，保证了进气的均匀性，从而保证沉积膜层的均匀性和溅射沉积过程的稳定性。
附图说明
14.图1为本实用新型进气装置结构示意图。
具体实施方式
15.为使本实用新型实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。
16.如图1所示，本实施例所述的增加镀膜均匀性的进气装置，包括进气管1、连接法兰2、多层反射束流管3和反射板4，所述的多层反射束流管3包括内层束流管31和外层束流管32，所述的进气管1与所述的连接法兰外端面焊接为一体，所述的多层反射束流管3与所述的连接法兰2内端面焊接为一体，所述的连接法兰2与真空腔体5连通，所述的反射板4与真空腔体焊接为一体。
17.所述的多层反射束流管3中每层束流管上均匀布置多个小孔，且每层束流管之间孔位交错。
18.所述的多层反射束流管3开的小孔，内层孔径小于外层孔径或者内层孔数小于外层孔数。所述的发射板可以做成平面、弧面等形式。
19.使用时，连接法兰2与真空腔室连接，高压气体经进气管1进入多层反射束流管3内，经多层反射束流管3的内层束流管31内侧的开孔逸出，经外层束流管31内侧反射，从外层束流管31内侧的开孔逸出，流出的气体撞到反射板4上，从而消除气体的束流效应，而反射后的气体经过扩散削弱气体密度的不均匀性，保证了膜层在沉积过程中的均匀性。
20.以上实施例仅用以说明本实用新型的技术方案，而非对其限制；尽管参照前述实施例对本实用新型进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本实用新型各实施例技术方案的精神和范围。


技术特征：
1.一种增加镀膜均匀性的进气装置，包括进气管(1)、连接法兰(2)、多层反射束流管(3)和反射板(4)，其特征在于：所述多层反射束流管(3)设置在真空腔体内，所述多层反射束流管(3)包括内层束流管(31)和外层束流管(32)；所述进气管(1)与所述连接法兰(2)外端面焊接为一体，所述多层反射束流管(3)与所述连接法兰(2)内端面焊接为一体，所述连接法兰(2)与真空腔体连通，所述反射板(4)与真空腔体焊接为一体。2.根据权利要求1所述的增加镀膜均匀性的进气装置，其特征在于：所述内层束流管(31)和外层束流管(32)中每层束流管上均匀布置多个小孔，且每层束流管之间孔位交错。3.根据权利要求2所述的增加镀膜均匀性的进气装置，其特征在于：所述多层反射束流管(3)开的小孔，内层孔径小于外层孔径或者内层孔数小于外层孔数。4.根据权利要求1所述的增加镀膜均匀性的进气装置，其特征在于：所述反射板做成平面、弧面形式。

技术总结
本实用新型的一种增加镀膜均匀性的进气装置，包括进气管、连接法兰、多层反射束流管和反射板；所述多层反射束流管设置在真空腔体内，所述多层反射束流管包括内层束流管和外层束流管；所述进气管与所述连接法兰外端面焊接为一体，所述多层反射束流管与所述连接法兰内端面焊接为一体，所述连接法兰与真空腔体连通，所述反射板与真空腔体焊接为一体。本实用新型不仅可以使进气密度均匀，同时可以消除进气孔附近产生的束流效应，保证了进气的均匀性，从而保证沉积膜层的均匀性和溅射沉积过程的稳定性。的稳定性。的稳定性。


技术研发人员：孙坡 倪国华 安振华 李淩豪
受保护的技术使用者：中科等离子体科技（合肥）有限公司
技术研发日：2022.04.07
技术公布日：2022/9/16