一种带有PVD纳米镀层的金属表面增强结构的制作方法

一种带有pvd纳米镀层的金属表面增强结构
技术领域
1.本实用新型属于金属结构技术领域，具体为一种带有pvd纳米镀层的金属表面增强结构。


背景技术：

2.金属表面pvd纳米镀层以其高硬度、高耐磨、强抗腐蚀性、抗高温、抗黏着性等优越的使用性能广泛应用于工业中。但是现有pvd纳米镀层在与金属表面结合时，由于金属表面较为光滑，而且pvd纳米镀层与金属表面的接触面积无法增加，从而导致pvd纳米镀层与金属表面的附着力不强，容易在长时间使用后造成镀层脱落。


技术实现要素：

3.针对上述情况，为克服现有技术的缺陷，本实用新型提供一种带有pvd纳米镀层的金属表面增强结构，有效的解决了现有pvd纳米镀层与金属表面附着力不强的问题。
4.为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种带有pvd 纳米镀层的金属表面增强结构，包括金属本体，所述金属本体的表面设置有物理刻蚀层，物理刻蚀层的表面设置有化学刻蚀层，化学刻蚀层的表面设置有pvd纳米镀层，物理刻蚀层的内部设置有若干物理刻蚀孔，化学刻蚀层的内部设置有若干化学刻蚀纹路，化学刻蚀纹路与物理刻蚀孔为连通式结构。
5.优选的，所述物理刻蚀层的厚度为0.6-1.2mm。
6.优选的，所述化学刻蚀层的厚度为0.2-0.6mm。
7.优选的，所述pvd纳米镀层的厚度为1.4-1.8mm。
8.优选的，所述物理刻蚀孔由若干斜锥孔一、若干斜锥孔二、若干斜倒锥孔一和若干斜倒锥孔二构成，斜锥孔一与斜锥孔二的倾斜角度相反，斜倒锥孔一和斜倒锥孔二的倾斜角度相反，斜锥孔一、斜锥孔二、斜倒锥孔一和斜倒锥孔二为不规则排列结构。
9.优选的，所述化学刻蚀纹路由若干金属表面刻蚀纹路和若干物理刻蚀孔纹路构成，金属表面刻蚀纹路和物理刻蚀孔纹路均为不规则结构。
10.与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：
11.(1)、在工作中，通过设置由若干斜锥孔一、若干斜锥孔二、若干斜倒锥孔一和若干斜倒锥孔二构成的物理刻蚀孔以及由若干金属表面刻蚀纹路和若干物理刻蚀孔纹路构成的化学刻蚀纹路能够提高pvd纳米镀层与金属表面的附着力，避免造成pvd纳米镀层的脱落，提高金属使用寿命。
附图说明
12.附图用来提供对本实用新型的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与本实用新型的实施例一起用于解释本实用新型，并不构成对本实用新型的限制。
13.在附图中：
14.图1为本实用新型结构示意图；
15.图2为本实用新型物理刻蚀层结构示意图；
16.图3为本实用新型化学刻蚀层结构示意图；
17.图中：1、金属本体；2、物理刻蚀层；3、化学刻蚀层；4、pvd 纳米镀层；5、物理刻蚀孔；6、化学刻蚀纹路；7、斜锥孔一；8、斜锥孔二；9、斜倒锥孔一；10、斜倒锥孔二；11、金属表面刻蚀纹路； 12、物理刻蚀孔纹路。
具体实施方式
18.下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例；基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
19.由图1至图3给出，本实用新型包括金属本体1，金属本体1的表面设置有物理刻蚀层2，物理刻蚀层2的表面设置有化学刻蚀层3，化学刻蚀层3的表面设置有pvd纳米镀层4，物理刻蚀层2的内部设置有若干物理刻蚀孔5，化学刻蚀层3的内部设置有若干化学刻蚀纹路6，化学刻蚀纹路6与物理刻蚀孔5为连通式结构；
20.由图1至图3给出，物理刻蚀层2的厚度为0.6-1.2mm，化学刻蚀层3的厚度为0.2-0.6mm，pvd纳米镀层4的厚度为1.4-1.8mm，物理刻蚀孔5由若干斜锥孔一7、若干斜锥孔二8、若干斜倒锥孔一 9和若干斜倒锥孔二10构成，斜锥孔一7与斜锥孔二8的倾斜角度相反，斜倒锥孔一9和斜倒锥孔二10的倾斜角度相反，斜锥孔一7、斜锥孔二8、斜倒锥孔一9和斜倒锥孔二10为不规则排列结构，能够使得pvd纳米镀层4渗入斜锥孔一7、斜锥孔二8、斜倒锥孔一9 和斜倒锥孔二10的内部，通过斜锥孔一7、斜锥孔二8、斜倒锥孔一 9和斜倒锥孔二10提高pvd纳米镀层4的附着力，化学刻蚀纹路6 由若干金属表面刻蚀纹路11和若干物理刻蚀孔纹路12构成，金属表面刻蚀纹路11和物理刻蚀孔纹路12均为不规则结构，能够使得pvd 纳米镀层4渗入到金属表面刻蚀纹路11和物理刻蚀孔纹路12的内部，进一步提高pvd纳米镀层4的附着力；
21.镀膜时，pvd纳米镀层4首先渗入到斜锥孔一7、斜锥孔二8、斜倒锥孔一9和斜倒锥孔二10的内部，然后渗入到金属表面刻蚀纹路11和物理刻蚀孔纹路12的内部，提高pvd纳米镀层4与金属表面的附着面积，进而能够避免造成pvd纳米镀层4的脱落，提高使用寿命。
22.在工作中，通过设置由若干斜锥孔一、若干斜锥孔二、若干斜倒锥孔一和若干斜倒锥孔二构成的物理刻蚀孔以及由若干金属表面刻蚀纹路和若干物理刻蚀孔纹路构成的化学刻蚀纹路能够提高pvd纳米镀层与金属表面的附着力，避免造成pvd纳米镀层的脱落，提高金属使用寿命。


技术特征：
1.一种带有pvd纳米镀层的金属表面增强结构，包括金属本体(1)，其特征在于：所述金属本体(1)的表面设置有物理刻蚀层(2)，物理刻蚀层(2)的表面设置有化学刻蚀层(3)，化学刻蚀层(3)的表面设置有pvd纳米镀层(4)，物理刻蚀层(2)的内部设置有若干物理刻蚀孔(5)，化学刻蚀层(3)的内部设置有若干化学刻蚀纹路(6)，化学刻蚀纹路(6)与物理刻蚀孔(5)为连通式结构。2.根据权利要求1所述的一种带有pvd纳米镀层的金属表面增强结构，其特征在于：所述物理刻蚀层(2)的厚度为0.6-1.2mm。3.根据权利要求1所述的一种带有pvd纳米镀层的金属表面增强结构，其特征在于：所述化学刻蚀层(3)的厚度为0.2-0.6mm。4.根据权利要求1所述的一种带有pvd纳米镀层的金属表面增强结构，其特征在于：所述pvd纳米镀层(4)的厚度为1.4-1.8mm。5.根据权利要求1所述的一种带有pvd纳米镀层的金属表面增强结构，其特征在于：所述物理刻蚀孔(5)由若干斜锥孔一(7)、若干斜锥孔二(8)、若干斜倒锥孔一(9)和若干斜倒锥孔二(10)构成，斜锥孔一(7)与斜锥孔二(8)的倾斜角度相反，斜倒锥孔一(9)和斜倒锥孔二(10)的倾斜角度相反，斜锥孔一(7)、斜锥孔二(8)、斜倒锥孔一(9)和斜倒锥孔二(10)为不规则排列结构。6.根据权利要求1所述的一种带有pvd纳米镀层的金属表面增强结构，其特征在于：所述化学刻蚀纹路(6)由若干金属表面刻蚀纹路(11)和若干物理刻蚀孔纹路(12)构成，金属表面刻蚀纹路(11)和物理刻蚀孔纹路(12)均为不规则结构。

技术总结
本实用新型涉及金属结构技术领域，且公开了一种带有PVD纳米镀层的金属表面增强结构，解决了现有PVD纳米镀层与金属表面附着力不强的问题，其包括金属本体，所述金属本体的表面设置有物理刻蚀层，物理刻蚀层的表面设置有化学刻蚀层，化学刻蚀层的表面设置有PVD纳米镀层，物理刻蚀层的内部设置有若干物理刻蚀孔，化学刻蚀层的内部设置有若干化学刻蚀纹路，化学刻蚀纹路与物理刻蚀孔为连通式结构；通过该金属表面增强结构能够提高PVD纳米镀层与金属表面的附着力，避免造成PVD纳米镀层的脱落，进而提高使用寿命。而提高使用寿命。而提高使用寿命。


技术研发人员：徐忠堂 胡大纲 郭少华
受保护的技术使用者：江苏中远稀土新材料有限公司
技术研发日：2022.05.06
技术公布日：2022/12/1