一种动态真空蒸发镀膜装置的制作方法

1.本实用新型涉及真空蒸发镀膜技术领域，具体涉及一种动态真空蒸发镀膜装置。


背景技术：

2.真空蒸发镀膜是在真空条件下，用蒸发器加热蒸发物质，使之升华，蒸发粒子流直接射向基片，并在基片上沉积形成固态薄膜，或加热蒸发镀膜材料的真空镀膜方法。
3.真空镀膜当前采用的是固定蒸发位置的方式，该方式存在膜层均匀性不理想的问题，尽管镀膜机被镀零件已经采用了公转的方式提高均匀性，但是还不满足需要。因此，本领域技术人员提供了一种动态真空蒸发镀膜装置，以解决上述背景技术中提出的问题。


技术实现要素：

4.为解决上述技术问题，本实用新型提供一种动态真空蒸发镀膜装置，包括真空舱体，所述真空舱体前端开口处铰接有舱门，舱门上安装有观察窗，方便观测真空舱体内部，真空舱体的舱壁上安装有石英晶体膜厚仪，真空舱体顶端安装有驱动电机，驱动电机连接驱动轴，且驱动轴通过密封轴承转动连接真空舱体，驱动轴位于真空舱体内部处安装有工件架。其中，真空舱体的底部安装有动态蒸发机构，动态蒸发机构包括能够往返移动的蒸发源装置，蒸发源装置下方设置有加热器。
5.作为本实用新型动态真空蒸发镀膜装置的进一步优化，真空舱体顶端内壁安装有基板，真空舱体的舱壁安装有真空机组和冷却泵机组。
6.作为本实用新型动态真空蒸发镀膜装置的进一步优化：加热器连接接线软管，接线软管贯穿真空舱体底部，接线软管内置螺纹状电源线，电源线连接蒸发电源。
7.作为本实用新型动态真空蒸发镀膜装置的进一步优化：加热器底端连接支撑架，支撑架末端连接活动块。
8.作为本实用新型动态真空蒸发镀膜装置的进一步优化：活动块连接往复丝杆，往复丝杆两端通过密封轴承转动连接真空舱体。
9.作为本实用新型动态真空蒸发镀膜装置的进一步优化：往复丝杆一端位于真空舱体外侧，且往复丝杆连接伺服电机，伺服电机固定连接真空舱体外壁。
10.作为本实用新型动态真空蒸发镀膜装置的进一步优化：活动块内插装有滑动连接的滑杆，滑杆两端固定连接真空舱体内壁。
11.本实用新型的技术效果和优点：
12.本实用新型中，通过动态蒸发机构带动蒸发源装置往返运动，配合工件转动，实现膜层均匀性更加理想的效果。
附图说明
13.图1是本申请实施例提供的动态真空蒸发镀膜装置结构示意图；
14.图2是本申请实施例提供的动态真空蒸发镀膜装置的后视图；
15.图3是本申请实施例提供的动态真空蒸发镀膜装置中真空舱体的内部结构示意图；
16.图4是本申请实施例提供的动态真空蒸发镀膜装置中动态蒸发机构的结构示意图；
17.图5是现有动态真空蒸发镀膜装置中离子密度余弦定理示意图；
18.图6是本申请实施例提供的动态真空蒸发镀膜装置中多状态叠加离子密度示意图。
19.图中：1、真空舱体，2、舱门，201、观察窗，3、石英晶体膜厚仪，4、动态蒸发机构，401、蒸发源装置，402、加热器，403、接线软管，404、蒸发电源，405、支撑架，406、活动块，407、往复丝杆，408、密封轴承，409、伺服电机，410、滑杆，5、驱动电机，6、驱动轴，7、工件架，8、基板，9、真空机组，10、冷却泵机组。
具体实施方式
20.下面结合附图和具体实施方式对本实用新型作进一步详细的说明。
21.请参阅图1～3，在本实施例中提供一种动态真空蒸发镀膜装置，包括真空舱体1，真空舱体1前端开口处铰接有舱门2，舱门2上安装有观察窗201，方便观测真空舱体1内部，真空舱体1的舱壁上安装有石英晶体膜厚仪3，真空舱体1底部处安装有动态蒸发机构4，真空舱体1顶端安装有驱动电机5，驱动电机5连接驱动轴6，且驱动轴6通过密封轴承转动连接真空舱体1，驱动轴6位于真空舱体1内部处安装有工件架7，工件放置在工件架7上，启动驱动电机5带动驱动轴6和工件架7转动，能带动工件转动，提高镀膜的均匀性，真空舱体1顶端内壁安装有基板8，真空舱体1的舱壁安装有真空机组9和冷却泵机组10，真空机组9在舱门2关闭后，可抽出真空舱体1内部空气，形成真空状态，冷却泵机组10在镀膜完成后，使得真空舱体1内部快速冷却。
22.请参阅图4，动态蒸发机构4包括蒸发源装置401，蒸发源装置401底端连接加热器402，加热器402连接接线软管403，接线软管403贯穿真空舱体1底部，接线软管403内置螺纹状电源线，从而方便蒸发源装置401移动，电源线连接蒸发电源404，加热器402底端通过螺钉连接支撑架405，支撑架405末端固定连接活动块406，活动块406连接往复丝杆407，往复丝杆407两端通过密封轴承408转动连接真空舱体1，往复丝杆407一端位于真空舱体1外侧，且往复丝杆407连接伺服电机409，伺服电机409固定连接真空舱体1外壁，活动块406内插装有滑动连接的滑杆410，滑杆410两端固定连接真空舱体1内壁，驱动伺服电机409带动往复丝杆407转动，带动活动块406做往返运动，带动支撑架405、加热器402和蒸发源装置401往返运动。
23.在真空蒸发镀膜领域，平面蒸发源的发射特性具有方向性，使在使在θ角方向蒸发的材料质量和cosθ成正比例,即遵从所谓余弦角度分布规律。余弦散射规律：碰撞于固体表面的分子，它们飞离表面的方向与原入射方向无关，并按与表面法线方向所成角度θ的余弦进行分布，真空镀膜的蒸发源离子密度遵循余弦特征，现有的蒸发源离子密度余弦分布规律如图5所示。本实用新型的蒸发源装置沿着真空舱体直径方向往返运动，蒸发源在一定范围内的移动产生多状态叠加的效果，会形成一定范围内离子密度相对一致的效果，叠加后的蒸发源离子密度余弦分布规律如图6所示。
24.本实用新型的工作原理是：通过动态蒸发机构4带动蒸发源装置401沿着真空舱体直径方向往返运动，配合工件转动，实现镀膜的膜层均匀性更加理想的效果。
25.显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域及相关领域的普通技术人员在没有作出创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例，都应属于本实用新型保护的范围。本实用新型中未具体描述和解释说明的结构、装置以及操作方法，如无特别说明和限定，均按照本领域的常规手段进行实施。


技术特征：
1.一种动态真空蒸发镀膜装置，包括真空舱体（1），所述真空舱体（1）前端开口处铰接有舱门（2），舱门（2）上安装有用于观测真空舱体（1）内部的观察窗（201），真空舱体（1）的舱壁上安装有石英晶体膜厚仪（3），真空舱体（1）顶端安装有驱动电机（5），驱动电机（5）连接驱动轴（6），且驱动轴（6）通过密封轴承转动连接真空舱体（1），驱动轴（6）位于真空舱体（1）内部处安装有工件架（7），其特征在于：所述真空舱体（1）的底部安装有动态蒸发机构（4），动态蒸发机构（4）包括能够往返移动的蒸发源装置（401），蒸发源装置（401）下方设置有加热器（402）。2.根据权利要求1所述的一种动态真空蒸发镀膜装置，其特征在于：所述真空舱体（1）顶端内壁安装有基板（8），真空舱体（1）的舱壁安装有真空机组（9）和冷却泵机组（10）。3.根据权利要求1所述的一种动态真空蒸发镀膜装置，其特征在于：加热器（402）连接接线软管（403），接线软管（403）贯穿真空舱体（1）底部，接线软管（403）内置螺纹状电源线，电源线连接蒸发电源（404）。4.根据权利要求1所述的一种动态真空蒸发镀膜装置，其特征在于：所述加热器（402）底端连接有支撑架（405），支撑架（405）末端连接有活动块（406）。5.根据权利要求4所述的一种动态真空蒸发镀膜装置，其特征在于：所述活动块（406）连接往复丝杆（407），往复丝杆（407）两端通过密封轴承（408）转动连接真空舱体（1）。6.根据权利要求5所述的一种动态真空蒸发镀膜装置，其特征在于：所述往复丝杆（407）一端位于真空舱体（1）外侧，且往复丝杆（407）连接伺服电机（409），伺服电机（409）固定连接真空舱体（1）外壁。7.根据权利要求4所述的一种动态真空蒸发镀膜装置，其特征在于，所述活动块（406）内插装有滑动连接的滑杆（410），滑杆（410）两端固定连接真空舱体（1）内壁。

技术总结
本实用新型公开了一种动态真空蒸发镀膜装置，包括真空舱体，所述真空舱体前端开口处铰接有舱门，舱门上安装有观察窗，方便观测真空舱体内部，真空舱体的舱壁上安装有石英晶体膜厚仪，真空舱体顶端安装有驱动电机，驱动电机连接驱动轴，且驱动轴通过密封轴承转动连接真空舱体，驱动轴位于真空舱体内部处安装有工件架，真空舱体底部处安装有动态蒸发机构，本实用新型中，通过动态蒸发机构带动蒸发源往返运动，配合工件转动，膜层更加均匀。膜层更加均匀。膜层更加均匀。


技术研发人员：李双双 张敏 范顺学 李佳琲
受保护的技术使用者：洛阳微米光电技术有限公司
技术研发日：2022.06.20
技术公布日：2022/9/16