本技术涉及pvd镀膜设备,尤其涉及一种pvd镀膜转架机构。
背景技术:
1、物理气相沉积(pvd)是通过蒸发,电离或溅射等过程,产生金属粒子并与反应气体反应形成化合物沉积在工件表面。物理气相沉积镀膜技术主要分为三类,真空蒸发镀膜、真空溅射镀和真空离子镀膜。
2、其中,对于真空离子镀膜,是借助于惰性气体辉光放电,使镀料(如金属钛)气化蒸发离子化,离子经电场加速,以较高能量轰击工件表面,形成镀层。
3、一般待加工的工件是挂设在镀膜挂架(镀膜杆)上,挂架则安设在转架上。镀膜过程中,转架旋转带动被镀工件在镀膜腔体内旋转,旋转的工件绕经靶材附近时,靶材粒子沉积到工件表面进行镀膜。期间挂架也会自转,以使得镀件在经过靶材时,能够镀膜更为均匀。
4、但是一般转架采用行星齿轮结构进行自转并驱动挂架转动,采用行星齿轮结构一般行星太阳齿轮直径较大,尤其是对于大型转架来说,对齿轮要求更高,成本也会相对更高。同时,底部设置行星齿轮,会占用底部大量空间,也不利于转架后续从镀膜腔室内取出。
技术实现思路
1、本实用新型旨在至少在一定程度上解决相关技术中的技术问题之一。为此,本实用新型的一个目的在于提出一种pvd镀膜转架机构,底部通过间接传动方式,以减小传动齿轮大小。
2、本实用新型的技术方案如下:
3、一种pvd镀膜转架机构,包括转架,转架顶部和底部中心位置固定有转架轴,转架中部位置沿圆周方向分布有若干与转架转动连接的挂架轴,挂架轴上装配有镀件挂具,在底部的转架轴上固定有主动传动轮,挂架轴向下穿过转架,并对应主动传动轮在挂架轴底部安装有从动传动轮,从动传动轮沿圆周方向依次传动连接后与主动传动轮传动连接,形成环状的间接传输结构。
4、进一步的,主动传动轮和从动传动轮为齿轮、皮带轮或链轮。
5、进一步的,在转架底部两侧对称安装有轨道轮,以方便后续转移转架。
6、进一步的,转架轴端部设置为异形状。
7、进一步的,对应转架轴在真空腔室底部和顶部分别转动连接有驱动轴和定位轴,驱动轴中心位置对应转架轴端侧成型有形状匹配的卡合槽,用于形成卡合结构,传递扭矩。
8、进一步的,驱动轴和定位轴的卡合槽开径向开口并贯通设置。
9、进一步的,轨道轮在转架装配好后与真空腔室底部预留有间隙,以供后续可插设滑轨。
10、进一步的,驱动轴对应卡合槽成型有坡道,坡道底部高度与滑轨高度齐平,以便于转移转架时,轨道留有相应的安装间隙。
11、进一步的,定位轴的定位槽中预留活动空间。
12、本实用新型中的有益效果:通过设置间接传动结构,可以降低齿轮大小,节约成本,预留出更多的操作空间;设置轨道轮,方便后期转移转架;对应转架轴设置在真空腔室的转轴中部的卡合槽径向开口并贯通设置,便于后续平移方式进行转运;且底部的驱动轴对应开合槽设置坡道,便于后续安设滑轨转移。
1.一种pvd镀膜转架机构,包括转架,转架顶部和底部中心位置固定有转架轴,转架中部位置沿圆周方向分布有若干与转架转动连接的挂架轴,挂架轴上装配有镀件挂具,其特征在于:在底部的转架轴上固定有主动传动轮,挂架轴向下穿过转架,并对应主动传动轮在挂架轴底部安装有从动传动轮,从动传动轮沿圆周方向依次传动连接后与主动传动轮传动连接,形成环状的间接传输结构。
2.根据权利要求1所述的pvd镀膜转架机构,其特征在于:主动传动轮和从动传动轮为齿轮、皮带轮或链轮。
3.根据权利要求1所述的pvd镀膜转架机构,其特征在于:在转架底部两侧对称安装有轨道轮。
4.根据权利要求3所述的pvd镀膜转架机构,其特征在于:转架轴端部设置为异形状。
5.根据权利要求4所述的pvd镀膜转架机构,其特征在于:对应转架轴在真空腔室底部和顶部分别转动连接有驱动轴和定位轴,驱动轴中心位置对应转架轴端侧成型有形状匹配的卡合槽,用于形成卡合结构,传递扭矩。
6.根据权利要求5所述的pvd镀膜转架机构,其特征在于:驱动轴和定位轴的卡合槽开径向开口并贯通设置。
7.根据权利要求6所述的pvd镀膜转架机构,其特征在于:轨道轮在转架装配好后与真空腔室底部预留有间隙,以供后续可插设滑轨。
8.根据权利要求7所述的pvd镀膜转架机构,其特征在于:驱动轴对应卡合槽成型有坡道坡道底部高度与滑轨高度齐平,以便于转移转架时,给轨道留有相应的安装间隙。
9.根据权利要求8所述的pvd镀膜转架机构,其特征在于:定位轴的定位槽中预留活动空间。