一种在铜加工件内表面真空镀防腐膜的结构的制作方法

1.本实用新型涉及真空镀膜技术领域，具体为一种在铜加工件内表面真空镀防腐膜的结构。


背景技术：

2.公知的，随着科学技术的飞速发展，真空镀膜的技术已经得到普遍应用，在铜加工件内表面镀防腐薄膜时，真空室镀膜结构是一个重要的问题，镀膜结构设计不合理，会严重影响产品的沉积品质，铜加工件内表面镀防腐膜是指在铜加工件内表面镀上一层耐盐雾腐蚀的薄膜材料，它与加热温度、阴极布置、气路结构有关。
3.现有的铜加工件内壁薄膜制备防腐膜装置主要采用磁控溅射绕射技术，在使用过程中，存在如下缺陷：
4.在对工件内壁镀膜过程中，均匀性一般，稳定性不佳。


技术实现要素：

5.针对现有技术中存在的问题，本实用新型的目的在于提供一种在铜加工件内表面真空镀防腐膜的结构，以克服背景技术缺陷。
6.为解决上述问题，本实用新型采用如下的技术方案。
7.一种在铜加工件内表面真空镀防腐膜的结构，包括真空镀膜室，所述真空镀膜室的内部安装有底座，所述底座上设置有溅射阴极，所述溅射阴极的外侧套设有铜件，所述铜件的底部与底座接触，所述真空镀膜室的左侧安装有真空抽气系统，所述真空镀膜室的上安装有加热烘烤系统。
8.作为上述技术方案的进一步描述：
9.所述真空镀膜室上安装有溅射电源，所述溅射电源与溅射阴极电性连接。
10.作为上述技术方案的进一步描述：
11.所述真空镀膜室上安装有质量流量计。
12.相比于现有技术，本实用新型的优点在于：
13.本方案在镀膜作业时，可根据作业需求来依次调节加热烘烤系统的温度高低，质量流量计的氩气进气量大小，溅射电源的功率大小，搭配二极溅射阴极进行镀膜作业，稳定性与均匀性更佳。
附图说明
14.图1为本实用新型的结构示意图。
15.图中标号说明：
16.1、真空镀膜室；2、铜件；3、溅射阴极；4、质量流量计；5、真空抽气系统；6、加热烘烤系统；7、溅射电源。
具体实施方式
17.下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述；
18.请参阅图1，本实用新型中，一种在铜加工件内表面真空镀防腐膜的结构，包括真空镀膜室1，真空镀膜室1的内部安装有底座，底座上设置有溅射阴极3，溅射阴极3的外侧套设有铜件2，铜件2的底部与底座接触，真空镀膜室1的左侧安装有真空抽气系统5，真空镀膜室1的上安装有加热烘烤系统6。
19.本实用新型中，在使用时，可将铜件2放置在真空镀膜室1内的底座上，使其套设于溅射阴极3的外侧，接着利用真空抽气系统5保证环境真空性能，随后根据需要调整加热烘烤系统6的温度高低，运作溅射阴极3，即可在铜件2内表面均匀致密的制备防腐膜。
20.真空镀膜室1上安装有溅射电源7，溅射电源7与溅射阴极3电性连接。
21.真空镀膜室1上安装有质量流量计4。
22.本实用新型中，根据需要调整质量流量计4的氩气进气量大小，溅射电源7的功率大小，根据不同的作业需求来保证镀膜作业的稳定与镀膜均匀性。
23.需要说明的是，本申请中各设备的电路连接关系均属于简单的串联、并联连接电路，在电路连接这一块并不存在创新点，本领域技术人员可以较为容易的实现，属于现有技术，不再赘述。
24.工作原理：在使用时，可将铜件2放置在真空镀膜室1内的底座上，使其套设于溅射阴极3的外侧，接着利用真空抽气系统5保证环境真空性能，随后根据需要调整加热烘烤系统6的温度高低，质量流量计4的氩气进气量大小，溅射电源7的功率大小，根据不同的作业需求来保证镀膜作业的稳定与镀膜均匀性运作溅射阴极3，即可在铜件2内表面均匀致密的制备一层高质量的防腐膜，整个装置，通过二极溅射阴极3伸入铜件2内表面，并通过调节氩气流量计大小，调节溅射电源7功率大小，从而能均匀的将耐腐蚀材料溅射到铜加工件内表面，稳定性更佳。
25.以上所述，仅为本实用新型较佳的具体实施方式；但本实用新型的保护范围并不局限于此。任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内，根据本实用新型的技术方案及其改进构思加以等同替换或改变，都应涵盖在本实用新型的保护范围内。


技术特征：
1.一种在铜加工件内表面真空镀防腐膜的结构，包括真空镀膜室(1)，其特征在于：所述真空镀膜室(1)的内部安装有底座，所述底座上设置有溅射阴极(3)，所述溅射阴极(3)的外侧套设有铜件(2)，所述铜件(2)的底部与底座接触，所述真空镀膜室(1)的左侧安装有真空抽气系统(5)，所述真空镀膜室(1)的上安装有加热烘烤系统(6)。2.根据权利要求1所述的一种在铜加工件内表面真空镀防腐膜的结构，其特征在于：所述真空镀膜室(1)上安装有溅射电源(7)，所述溅射电源(7)与溅射阴极(3)电性连接。3.根据权利要求1所述的一种在铜加工件内表面真空镀防腐膜的结构，其特征在于：所述真空镀膜室(1)上安装有质量流量计(4)。

技术总结
本实用新型属于真空镀膜技术领域，公开了一种在铜加工件内表面真空镀防腐膜的结构，包括真空镀膜室，所述真空镀膜室的内部安装有底座，所述底座上设置有溅射阴极，所述溅射阴极的外侧套设有铜件，所述铜件的底部与底座接触，所述真空镀膜室的左侧安装有真空抽气系统，所述真空镀膜室的上安装有加热烘烤系统。该实用新型，通过二极溅射阴极伸入铜加工件内表面，并通过调节氩气流量计大小，调节电源功率大小，从而能均匀的将耐腐蚀材料溅射到铜加工件内表面，稳定性更佳。稳定性更佳。稳定性更佳。


技术研发人员：邹杨 孙蕾 邹松东
受保护的技术使用者：洛阳奥尔材料科技有限公司
技术研发日：2022.09.30
技术公布日：2023/1/6