一种PVD设备水路系统的制作方法

本申请涉及pvd设备，尤其涉及一种pvd设备水路系统。

背景技术：

1、pvd技术也即是物理气相沉积技术(physical vapor deposition)，是指在真空条件下，采用低电压、大电流的电弧放电技术，利用气体放电使靶材蒸发并使被蒸发物质与气体发生电离，利用电场加速作用，使被蒸发物质及其反应产物沉积在工件上形成特定薄膜的技术。

2、水路系统是pvd设备中的重要组成部分之一，目前的pvd设备的水路系统仍存在一些不足：其水路系统存在管道过长的情况，这会导致供水端压力波动大，水压过大则会对水路造成影响，进而影响水冷效果，导致水冷效果不佳。

技术实现思路

1、有鉴于此，本申请的目的是提供一种pvd设备水路系统，以解决背景技术中的技术问题。

2、为达到上述技术目的，本申请提供了一种pvd设备水路系统，包括进水管、出水管以及泄压组件；

3、所述泄压组件连接于所述进水管与所述出水管之间，用于对所述进水管进行泄压。

4、进一步地，所述泄压组件包括连通管路以及泄压阀；

5、所述连通管路由若干软管组成，连接于所述进水管与所述出水管之间；

6、所述泄压阀安装于所述连通管路上。

7、进一步地，所述泄压组件还包括单向阀；

8、所述单向阀安装于所述连通管路上。

9、进一步地，所述泄压组件还包括若干定型件；

10、所述定型件设有供软管穿过，且用于定型所述软管的定型腔道。

11、进一步地，所述泄压组件至少两个。

12、进一步地，所述泄压组件连接于所述进水管与所述出水管之间的中部位置。

13、进一步地，所述进水管的管壁上设有与所述泄压组件连接的第一支管；

14、所述出水管的管壁上设有与所述泄压组件连接的第二支管。

15、进一步地，所述第一支管与所述第二支管上均安装有开关阀。

16、进一步地，所述开关阀为手动开关阀。

17、进一步地，所述进水管与所述出水管的端部均设有接头。

18、从以上技术方案可以看出，本申请所设计的pvd设备水路系统，通过在水路系统中的进水管与出水管之间配置泄压组件，利用泄压组件来对进水管进行泄压，以保证进水管的压力处于稳定状态，避免对系统水路造成影响，进而保证水冷效果，而且进水管泄压流出的水直接经出水管一同排出处理，就不需要再去增加设置新的水路以处理进水管泄压流出的水，减少对水路系统的改动，节约成本。

技术特征：

1.一种pvd设备水路系统，其特征在于，包括进水管(1)、出水管(2)以及泄压组件(3)；

2.根据权利要求1所述的pvd设备水路系统，其特征在于，所述泄压组件(3)包括连通管路以及泄压阀(31)；

3.根据权利要求2所述的pvd设备水路系统，其特征在于，所述泄压组件(3)还包括单向阀(33)；

4.根据权利要求3所述的pvd设备水路系统，其特征在于，所述泄压组件(3)还包括若干定型件；

5.根据权利要求1所述的pvd设备水路系统，其特征在于，所述泄压组件(3)至少两个。

6.根据权利要求1所述的pvd设备水路系统，其特征在于，所述泄压组件(3)连接于所述进水管(1)与所述出水管(2)之间的中部位置。

7.根据权利要求1所述的pvd设备水路系统，其特征在于，所述进水管(1)的管壁上设有与所述泄压组件(3)连接的第一支管(11)；

8.根据权利要求7所述的pvd设备水路系统，其特征在于，所述第一支管(11)与所述第二支管(21)上均安装有开关阀(4)。

9.根据权利要求8所述的pvd设备水路系统，其特征在于，所述开关阀(4)为手动开关阀(4)。

10.根据权利要求1所述的pvd设备水路系统，其特征在于，所述进水管(1)与所述出水管(2)的端部均设有接头(5)。

技术总结
本申请公开了一种PVD设备水路系统，涉及PVD设备技术领域，包括进水管、出水管以及泄压组件；泄压组件连接于进水管与出水管之间，用于对进水管进行泄压。通过在水路系统中的进水管与出水管之间配置泄压组件，利用泄压组件来对进水管进行泄压，以保证进水管的压力处于稳定状态，避免对系统水路造成影响，进而保证水冷效果，而且进水管泄压流出的水直接经出水管一同排出处理，就不需要再去增加设置新的水路以处理进水管泄压流出的水，减少对水路系统的改动，节约成本。

技术研发人员：请求不公布姓名
受保护的技术使用者：广东利元亨智能装备股份有限公司
技术研发日：20221130
技术公布日：2024/1/11