环形屏蔽件及薄膜沉积设备的制作方法

本发明涉及薄膜沉积设备，特别是涉及一种用于对晶圆的边缘进行遮蔽的环形屏蔽件及薄膜沉积设备。

背景技术：

1、薄膜沉积设备在对晶圆进行镀膜工艺处理过程中，其加热器会进行旋转。在此过程中，容易出现遮盖在晶圆上方的屏蔽部件相对于加热器偏移，使得屏蔽部件无法对晶圆保持良好的遮蔽效果，从而导致晶圆的边缘会出现颗粒异常情况，影响对晶圆镀膜的品质，且由于屏蔽部件的偏移，容易导致屏蔽部件与晶圆产生摩擦、碰撞等，进而导致屏蔽部件及晶圆容易被损坏，存在安全隐患。且现有技术中薄膜沉积设备也无法监测屏蔽部件的偏移状况，在屏蔽部件出现偏移时也无法对其位置进行校正，影响机台作业连接性。

技术实现思路

1、鉴于以上所述现有技术的缺点，本发明要解决的技术问题在于提供一种能提高对晶圆镀膜品质的环形屏蔽件。

2、为实现上述目的，本发明提供一种环形屏蔽件，用于薄膜沉积设备，所述环形屏蔽件包括环形屏蔽体，所述环形屏蔽体上设有屏蔽件限位部，所述屏蔽件限位部用于与薄膜沉积设备的加热器上的加热器限位部相配合，以限制环形屏蔽件相对于加热器偏移。

3、进一步地，所述环形屏蔽体上设有定位针，所述屏蔽件限位部包括所述定位针，所述加热器上设有定位孔，所述加热器限位部包括所述定位孔，所述定位针用于插在定位孔中。

4、进一步地，所述环形屏蔽体上设有多个所述定位针，全部所述定位针沿环形屏蔽体的周向间隔分布，所述加热器上设有与所述定位针数量相等的定位孔，全部所述定位针分别与全部所述定位孔一一对应。

5、进一步地，所述环形屏蔽体的外侧边处设有沿上下方向延伸的环侧边，所述屏蔽件限位部包括环侧边，所述环侧边用于套设在所述加热器的外部，所述加热器限位部包括加热器的外侧壁。

6、进一步地，所述环形屏蔽体上设有测试部，所述薄膜沉积设备包括传感器，所述传感器能检测到所述测试部。

7、进一步地，所述环形屏蔽体上设有缺口，所述缺口构成所述测试部。

8、如上所述，本发明涉及的环形屏蔽件，具有以下有益效果：

9、在使用时，本环形屏蔽件将遮盖在位于加热器上的晶圆的边缘处，随着加热器的旋转，对晶圆进行相应的镀膜工艺处理，由于本环形屏蔽件上设有屏蔽件限位部，该屏蔽件限位部将与加热器限位部相配合，从而能限制环形屏蔽件相对于加热器偏移，使得环形屏蔽件与加热器同步旋转，进而保证环形屏蔽件能保持对晶圆具有良好的遮盖作用，有效防止因环形屏蔽件相对于加热器及晶圆偏移、导致晶圆的镀膜品质受影响，提高对晶圆的加工质量。

10、本发明要解决的另一个技术问题在于提供一种对晶圆镀膜质量更高的薄膜沉积设备。

11、为实现上述目的，本发明提供一种薄膜沉积设备，包括腔体、位于腔体中的加热器、能驱动加热器升降的加热器升降装置、及能驱动加热器旋转的加热器旋转装置，还包括所述环形屏蔽件，所述环形屏蔽件位于所述腔体中，所述加热器上设有加热器限位部，所述屏蔽件限位部用于与加热器限位部相配合。

12、进一步地，所述薄膜沉积设备，还包括多个与腔体位置相对固定的定位支撑装置，全部所述定位支撑装置沿腔体的周向间隔分布，所述定位支撑装置包括推动杆及安装在推动杆端部的台阶式矫正头，所述台阶式矫正头上设有支撑面及与支撑面相交的定位面，所述推动杆能带动台阶式矫正头沿靠近和远离环形屏蔽件方向移动。

13、进一步地，所述定位支撑装置包括与腔体位置相对固定的驱动缸，所述驱动缸的活塞杆能带动推动杆沿靠近和远离环形屏蔽件方向移动。

14、进一步地，所述驱动缸位于腔体的外部，所述推动杆穿设在腔体的通孔中，且所述推动杆装有台阶式矫正头的一端位于腔体的内部，所述腔体上且与通孔对应处安装有密封波纹管，所述密封波纹管的一端与腔体的外侧壁固接，所述密封波纹管的另一端设有密封连接板，所述推动杆的另一端延伸至密封波纹管中、并与密封连接板固接，所述驱动缸的活塞杆与密封连接板固接。

15、如上所述，本发明涉及的薄膜沉积设备，具有以下有益效果：

16、在进行镀膜工艺过程中，加热器升降装置带动加热器上升，加热器上升过程中将顶起晶圆及环形屏蔽件一起上升至设定位置，此时环形屏蔽件将晶圆的边缘处遮盖住，且屏蔽件限位部与加热器限位部相配合，加热器旋转装置再带动加热器旋转，进行相应镀膜工艺，此过程中，利用屏蔽件限位部与加热器限位部的配合作用，限制环形屏蔽件相对于加热器偏移，使得环形屏蔽件与加热器同步旋转，从而保证环形屏蔽件保持对晶圆具有良好的遮盖效果，有效防止因环形屏蔽件相对于加热器及晶圆偏移、导致对晶圆的遮盖效果受影响，进而保证对晶圆镀膜品质更高。

技术特征：

1.一种环形屏蔽件，用于薄膜沉积设备，所述环形屏蔽件包括环形屏蔽体（1），其特征在于，所述环形屏蔽体（1）上设有屏蔽件限位部，所述屏蔽件限位部用于与薄膜沉积设备的加热器（2）上的加热器限位部相配合，以限制环形屏蔽件相对于加热器（2）偏移。

2.根据权利要求1所述环形屏蔽件，其特征在于，所述环形屏蔽体（1）上设有定位针，所述屏蔽件限位部包括所述定位针，所述加热器（2）上设有定位孔，所述加热器限位部包括所述定位孔，所述定位针用于插在定位孔中。

3.根据权利要求2所述环形屏蔽件，其特征在于，所述环形屏蔽体（1）上设有多个所述定位针，全部所述定位针沿环形屏蔽体（1）的周向间隔分布，所述加热器（2）上设有与所述定位针数量相等的定位孔，全部所述定位针分别与全部所述定位孔一一对应。

4.根据权利要求1所述环形屏蔽件，其特征在于，所述环形屏蔽体（1）的外侧边处设有沿上下方向延伸的环侧边（11），所述屏蔽件限位部包括环侧边（11），所述环侧边（11）用于套设在所述加热器（2）的外部，所述加热器限位部包括加热器（2）的外侧壁。

5.根据权利要求1所述环形屏蔽件，其特征在于，所述环形屏蔽体（1）上设有测试部，所述薄膜沉积设备包括传感器（3），所述传感器（3）能检测到所述测试部。

6.根据权利要求5所述环形屏蔽件，其特征在于，所述环形屏蔽体（1）上设有缺口（12），所述缺口（12）构成所述测试部。

7.一种薄膜沉积设备，包括腔体（4）、位于腔体（4）中的加热器（2）、能驱动加热器（2）升降的加热器升降装置（5）、及能驱动加热器（2）旋转的加热器旋转装置（6），其特征在于，还包括如权利要求1至6任一项所述环形屏蔽件，所述环形屏蔽件位于所述腔体（4）中，所述加热器（2）上设有加热器限位部，所述屏蔽件限位部用于与加热器限位部相配合。

8.根据权利要求7所述薄膜沉积设备，其特征在于，还包括多个与腔体（4）位置相对固定的定位支撑装置（7），全部所述定位支撑装置（7）沿腔体（4）的周向间隔分布，所述定位支撑装置（7）包括推动杆（71）及安装在推动杆（71）端部的台阶式矫正头（72），所述台阶式矫正头（72）上设有支撑面及与支撑面相交的定位面，所述推动杆（71）能带动台阶式矫正头（72）沿靠近和远离环形屏蔽件方向移动。

9.根据权利要求8所述薄膜沉积设备，其特征在于，所述定位支撑装置（7）包括与腔体（4）位置相对固定的驱动缸（73），所述驱动缸（73）的活塞杆能带动推动杆（71）沿靠近和远离环形屏蔽件方向移动。

10.根据权利要求9所述薄膜沉积设备，其特征在于，所述驱动缸（73）位于腔体（4）的外部，所述推动杆（71）穿设在腔体（4）的通孔中，且所述推动杆（71）装有台阶式矫正头（72）的一端位于腔体（4）的内部，所述腔体（4）上且与通孔对应处安装有密封波纹管（41），所述密封波纹管（41）的一端与腔体（4）的外侧壁固接，所述密封波纹管（41）的另一端设有密封连接板，所述推动杆（71）的另一端延伸至密封波纹管（41）中、并与密封连接板固接，所述驱动缸（73）的活塞杆与密封连接板固接。

技术总结
本发明提供一种环形屏蔽件及薄膜沉积设备，所述环形屏蔽件包括环形屏蔽体，所述环形屏蔽体上设有屏蔽件限位部，所述屏蔽件限位部用于与薄膜沉积设备的加热器上的加热器限位部相配合，以限制环形屏蔽件相对于加热器偏移。在使用时，本环形屏蔽件将遮盖在位于加热器上的晶圆的边缘处，随着加热器的旋转，对晶圆进行相应的镀膜工艺处理，屏蔽件限位部将与加热器限位部相配合，从而能限制环形屏蔽件相对于加热器偏移，使得环形屏蔽件与加热器同步旋转，进而保证环形屏蔽件能保持对晶圆具有良好的遮盖作用，有效防止因环形屏蔽件相对于加热器及晶圆偏移、导致晶圆的镀膜品质受影响，提高对晶圆的加工质量。

技术研发人员：刘祥,宋维聪,周东平
受保护的技术使用者：上海陛通半导体能源科技股份有限公司
技术研发日：
技术公布日：2024/1/12