一种金属网格的制备方法与流程

本发明涉及金属网格，具体为一种金属网格的制备方法。

背景技术：

1、金属网格一般采用银、铜等低电阻金属，银和铜这类金属具有明显的金属亮泽，在可见光波长范围内反射率高，制成金属网格线在强光灯照射下较明显，但由于反射率高，金属网格的漫反射强，造成金属网格的雾度较高，影响金属网格的整体透过率。

2、目前金属网格膜的制备方法总体来说普遍是采用模板法，例如采用光刻技术及其他如高分子类聚合物模板等，而常用的光刻法强烈依赖于相应的光刻制备，并且高端的刻蚀设备极其昂贵，并且步骤复杂。此外，也可利用制备金属纳米线来组装制备金属网格，但是金属纳米线的制备也是一个复杂且需精细控制的过程，而且金属纳米线的镀膜或网格组装过程亦难以控制。

技术实现思路

1、本发明的目的在于提供一种金属网格的制备方法，以解决上述背景技术中提出的问题。

2、为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：一种金属网格的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：

3、s1：用去离子水处理基材；

4、s2：在基材上静电纺丝

5、s3：制备模板涂层溶液；

6、s4：制备基底模板：取衬底与s3中模板涂层溶液，并用模板涂层溶液在衬底上均匀沉积一层胺基薄膜；

7、s5：在纺丝的基材上，自组装一层掩膜；

8、s4：去除纤维模板，得到凹槽；

9、s5：在凹槽处蒸镀金属；

10、s6：去除自主装掩膜，得到金属网格透明电极。

11、优选的，所述s4中模板涂层溶液在衬底上均匀沉积一层胺基薄膜具体包括：将衬底浸入模板涂层溶液中或者将模板涂层溶液旋涂于衬底上，以使胺基薄膜均匀沉积于衬底上。

12、优选的，所述s2中衬底为聚苯乙烯胶体晶体或者聚甲基丙烯酸甲酯。

13、优选的，所述模板涂层溶液为聚多巴胺、聚乙烯亚胺或者聚丙烯胺中的一种或者多种混合物

14、优选的，所述s4中基底模板处理具体包括：s41：将沉积有胺基薄膜的基底衬底放入烘箱中10～40min并控温在50～80℃；s42：胺基薄膜覆于衬底上形成薄膜层模板，并利用掩膜板在薄膜层模板的表面进行光刻形成网格型薄膜层模板。

15、与现有技术相比，本发明的有益效果是：本发明以环保、可回收为理念。选用壳聚糖、聚乙烯醇(pva)等环保型高分子作为自主装的原料，溶于去离子水中，配制成30mg/ml-400mg/ml的高分子溶液。在透明基材上(pet、pi、透明玻璃)上，预先静电纺丝一层pvb纤维模板，纤维直径决定了金属网格的直径，之后在纤维模板空隙采用自主装的方法生长高分子掩膜，掩膜的的生长速率取决于浓度，掩膜的高度必须低于纤维直径。之后采用乙醇溶剂将纤维模板去除，并采用蒸镀的方法，在纤维去除的沟槽中蒸镀一层金属，最后去除高分子掩膜得到金属网格透明电极。

技术特征：

1.一种金属网格的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：

2.根据权利要求1所述的一种金属网格的制备方法，其特征在于：所述s4中模板涂层溶液在衬底上均匀沉积一层胺基薄膜具体包括：将衬底浸入模板涂层溶液中或者将模板涂层溶液旋涂于衬底上，以使胺基薄膜均匀沉积于衬底上。

3.根据权利要求2所述的一种金属网格的制备方法，其特征在于：所述s2中衬底为聚苯乙烯胶体晶体或者聚甲基丙烯酸甲酯。

4.根据权利要求1所述的一种金属网格的制备方法，其特征在于：所述模板涂层溶液为聚多巴胺、聚乙烯亚胺或者聚丙烯胺中的一种或者多种混合物。

5.根据权利要求1所述的一种金属网格的制备方法，其特征在于：所述s4中基底模板处理具体包括：s41：将沉积有胺基薄膜的基底衬底放入烘箱中10～40min并控温在50～80℃；s42：胺基薄膜覆于衬底上形成薄膜层模板，并利用掩膜板在薄膜层模板的表面进行光刻形成网格型薄膜层模板。

技术总结
本发明公开了一种金属网格的制备方法，该金属网格的制备方法的配方包括以下组份：石英粉10％‑20％、硅藻土0.1％‑2.5％、高强度石膏10％‑60％、CMC 0.01％‑1％、大理石10％‑20％、淀粉醚0.2％‑5％、缓凝剂0.1％‑0.5％、氮化碳0.2％‑5％、可再分散聚合物粉末15‑30％、干粉助剂0.1‑5％、方解石粉10％‑15％、碱激发剂5％‑7％，该制备方法包括以下步骤：原料收集，精磨，搅拌，添加试剂，煅烧，混水，制成；本发明所采用的配方均为国标规定原料，且本发明制备出的金属网格的制备方法得到较大提升，在石膏体系中加入氮化碳，可实现防霉的功能，可实现光催化除醛、抗菌功效并且通过硅藻泥和配方的优化使得生态灰泥具有调湿功效；且本发明制备金属网格的制备方法的成本有所降低，增加企业收益，适合推广。

技术研发人员：苏伟,邹万浪
受保护的技术使用者：深圳市志凌伟业技术股份有限公司
技术研发日：
技术公布日：2024/1/13