本发明涉及阻尼布,具体为一种光学元件表面抛光用阻尼布及其生产工艺。
背景技术:
1、光学元件,光学系统的基本组成单元,大部分光学元件起成像的作用,如透镜、棱镜、反射镜等,另外还有一些在光学系统中起特殊作用(如分光、传像、滤波等)的零件,如分划板、滤光片、光栅用以光学纤维件等;光学元件在使用时,多采用阻尼布对光学元件表面进行抛光,以保障光学元件的正常使用。
2、公开号为cn114683183b的中国专利公开了一种用于贵重金属表面抛光的阻尼布及其生产工艺,属于精细加工技术领域,该种阻尼布从抛光接触面至吸附面依次包括助磨涂料层、拒水基垫和弹性垫;在抛光过程中助磨涂料层缓慢浸蚀,磨料均匀释放参与抛光,可降低抛光液的浓度,使得抛光液中的磨粒易分散,从而提高抛光精度,拒水基垫通过导电石墨配合电晕处理获得均匀的用于抛光切削的凸起,且拒水基垫为橡胶基材质,具有良好的防渗性能,抛光切削微粉可充分回收,解决现有技术中贵重金属抛光切削微难以回收造成成本高的问题。但是上述专利的阻尼布在实际使用过程中存在以下缺陷:
3、现有的阻尼布,在长时间抛光使用时,其耐磨性差,易断裂,导致阻尼布的使用寿命低下。
技术实现思路
1、本发明的目的在于提供一种光学元件表面抛光用阻尼布及其生产工艺,可提升阻尼布的整体抛光强度及耐磨性,避免阻尼布长时间抛光使用而导致的断裂,可充分保障阻尼布的正常使用,可延长阻尼布的使用寿命,解决了上述背景技术中提出的问题。
2、为实现上述目的,本发明提供如下技术方案:
3、一种光学元件表面抛光用阻尼布,包括底基层、支撑加强层及磨料层,所述支撑加强层的上端嵌在磨料层内,且支撑加强层通过热熔胶层连接磨料层,所述支撑加强层的下端嵌在底基层内,且支撑加强层通过热熔胶层连接底基层,其中热熔胶层由以下质量份数的原料构成:聚酯型tpu50-60份、填料3-8份、硅烷偶联剂1-3份、抗氧化剂1-3份和有机溶剂30-40份。
4、优选的,所述底基层的上端面和磨料层的下端面均设置有供支撑加强层嵌入的定位凹槽,所述支撑加强层与定位凹槽相匹配。
5、优选的,所述底基层以聚乙烯颗粒和聚丙烯颗粒为原料,经高温熔化、成型及分切,形成半成品编织丝,半成品编织丝经纵向及纬向的编织,形成底基层,其中聚乙烯颗粒和聚丙烯颗粒的质量比为1:1-1.2。
6、优选的,所述支撑加强层包括上支撑层和下支撑层,所述上支撑层和下支撑层通过热熔胶层连接,所述上支撑层嵌在磨料层内,且上支撑层通过热熔胶层连接磨料层,所述下支撑层嵌在底基层内,且下支撑层通过热熔胶层连接底基层。
7、优选的,所述支撑加强层还包括加强筋层,所述加强筋层通过热熔胶层连接在上支撑层和下支撑层的内壁上,所述加强筋层包括纵向加强筋和横向加强筋,所述纵向加强筋和横向加强筋纵横交错连接。
8、优选的,所述上支撑层和下支撑层均由以下质量份数的原料制成:聚氨酯纤维8-20份和聚酯纤维6-18份。
9、优选的,所述纵向加强筋和横向加强筋以碳-碳复合材料为原料,经加工处理、成型、分切及编织,形成纵横交错连接的纵向加强筋和横向加强筋。
10、优选的,所述磨料层由以下质量份数的原料制成:亚微米氧化铈52-65份、氧化锆2-5份、氧化铬5-12份、稀土8-14份、二氧化硅4-12份、余量为钴。
11、根据本发明的另一个方面,提供了一种根据上述所述的一种光学元件表面抛光用阻尼布的生产工艺,包括如下步骤:
12、s1、生产底基层:
13、将质量比为1:1-1.2的聚乙烯颗粒和聚丙烯颗粒加入到塑料挤出成型设备中,经高温熔化、成型及分切,形成半成品编织丝,半成品编织丝经纵向及纬向的编织,形成底基层;
14、s2、生产支撑加强层:
15、以碳-碳复合材料为原料,经加工处理、成型、分切及编织,形成纵横交错连接的纵向加强筋和横向加强筋,且将纵向加强筋和横向加强筋粘接在由聚氨酯纤维和聚酯纤维制成的上支撑层和下支撑层的内壁上,形成支撑加强层;
16、s3、生产磨料层:
17、将亚微米氧化铈、氧化锆、氧化铬、稀土、二氧化硅及余量的钴按一定的质量份数混合后充分研磨,形成磨料层;
18、s4、生产阻尼布:
19、在底基层的上端面和磨料层的下端面均设置的定位凹槽内设置热熔胶层,且使支撑加强层的上端粘接在磨料层上,支撑加强层的下端粘接在底基层上,经层压,形成阻尼布。
20、与现有技术相比,本发明的有益效果是:
21、1、本发明通过在底基层和磨料层之间增加支撑加强层,支撑加强层的上端嵌在磨料层内,且支撑加强层通过热熔胶层连接磨料层,支撑加强层的下端嵌在底基层内,且支撑加强层通过热熔胶层连接底基层,在阻尼布对光学元件表面进行抛光时,可提升阻尼布的整体抛光强度及耐磨性,避免阻尼布长时间抛光使用而导致的断裂,可充分保障阻尼布的正常使用,可延长阻尼布的使用寿命。
22、2、本发明通过上支撑层、下支撑层和加强筋层组成支撑加强层,且上支撑层和下支撑层采用聚氨酯纤维和聚酯纤维制成,在上支撑层和下支撑层内侧设置的纵横交错连接的纵向加强筋和横向加强筋采用碳-碳复合材料制成,使得生产的阻尼布结实耐磨,强度大,可提升阻尼布的整体抛光强度及耐磨性,避免阻尼布长时间抛光使用而导致的断裂。
1.一种光学元件表面抛光用阻尼布,包括底基层(1)、支撑加强层(2)及磨料层(3),其特征在于:所述支撑加强层(2)的上端嵌在磨料层(3)内,且支撑加强层(2)通过热熔胶层连接磨料层(3),所述支撑加强层(2)的下端嵌在底基层(1)内,且支撑加强层(2)通过热熔胶层连接底基层(1),其中热熔胶层由以下质量份数的原料构成:聚酯型tpu50-60份、填料3-8份、硅烷偶联剂1-3份、抗氧化剂1-3份和有机溶剂30-40份。
2.根据权利要求1所述的一种光学元件表面抛光用阻尼布,其特征在于:所述底基层(1)的上端面和磨料层(3)的下端面均设置有供支撑加强层(2)嵌入的定位凹槽,所述支撑加强层(2)与定位凹槽相匹配。
3.根据权利要求2所述的一种光学元件表面抛光用阻尼布,其特征在于:所述底基层(1)以聚乙烯颗粒和聚丙烯颗粒为原料,经高温熔化、成型及分切,形成半成品编织丝,半成品编织丝经纵向及纬向的编织,形成底基层(1),其中聚乙烯颗粒和聚丙烯颗粒的质量比为1:1-1.2。
4.根据权利要求3所述的一种光学元件表面抛光用阻尼布,其特征在于:所述支撑加强层(2)包括上支撑层(21)和下支撑层(22),所述上支撑层(21)和下支撑层(22)通过热熔胶层连接,所述上支撑层(21)嵌在磨料层(3)内,且上支撑层(21)通过热熔胶层连接磨料层(3),所述下支撑层(22)嵌在底基层(1)内,且下支撑层(22)通过热熔胶层连接底基层(1)。
5.根据权利要求4所述的一种光学元件表面抛光用阻尼布,其特征在于:所述支撑加强层(2)还包括加强筋层(23),所述加强筋层(23)通过热熔胶层连接在上支撑层(21)和下支撑层(22)的内壁上,所述加强筋层(23)包括纵向加强筋(231)和横向加强筋(232),所述纵向加强筋(231)和横向加强筋(232)纵横交错连接。
6.根据权利要求5所述的一种光学元件表面抛光用阻尼布,其特征在于:所述上支撑层(21)和下支撑层(22)均由以下质量份数的原料制成:聚氨酯纤维8-20份和聚酯纤维6-18份。
7.根据权利要求6所述的一种光学元件表面抛光用阻尼布,其特征在于:所述纵向加强筋(231)和横向加强筋(232)以碳-碳复合材料为原料,经加工处理、成型、分切及编织,形成纵横交错连接的纵向加强筋(231)和横向加强筋(232)。
8.根据权利要求7所述的一种光学元件表面抛光用阻尼布,其特征在于:所述磨料层(3)由以下质量份数的原料制成:亚微米氧化铈52-65份、氧化锆2-5份、氧化铬5-12份、稀土8-14份、二氧化硅4-12份、余量为钴。
9.一种根据权利要求8所述的一种光学元件表面抛光用阻尼布的生产工艺,其特征在于:包括如下步骤: