一种原子层沉积设备的沉积腔室的制作方法

文档序号:35669002发布日期:2023-10-07 13:57阅读:38来源:国知局
一种原子层沉积设备的沉积腔室的制作方法

本发明涉及原子层沉积,具体涉及一种原子层沉积设备的沉积腔室。


背景技术:

1、原子层沉积是一种可以将物质以单原子膜形式一层一层的镀在基底表面的方法,但在原子层沉积过程中,新一层原子膜的化学反应是直接与之前一层相关联的,这种方式使每次反应只沉积一层原子,由原子层沉积工艺制作成的膜层具有高纯度和良好均匀性的优点,因此原子层沉积工艺被广泛地应用于半导体动态缓冲器制造中,以满足半导体动态缓冲器的小尺寸和大高宽比的工艺要求;原子层沉积是通过将气相前驱体脉冲交替地通入反应器并在沉积基体上化学吸附并反应而形成沉积膜的一种方法,当前驱体达到沉积基体表面,它们会在其表面化学吸附并发生表面反应,在前驱体脉冲之间需要用惰性气体对原子层沉积反应器进行清洗。

2、原子层沉积设备是一种用于制备薄膜材料的设备,在使用时,需要将用于制备材料的化学气相沉积前体分子逐层沉积在基底表面上,以形成具有特定性质的薄膜材料,在这一制备过程中,有一部分cvd前体分子不能被沉积,这些未能被沉积的前体分子会随废气一起排放出去,现有的沉积腔室密封性较差,废气在排放过程中,无法完全阻隔,导致废气中存在大量小颗粒,轻易地污染了空气,这些小颗粒具有一定的危害性,例如可能导致呼吸道疾病或者心血管疾病等。

3、为此提出一种原子层沉积设备的沉积腔室。


技术实现思路

1、本发明的目的在于:为解决上述背景技术中提出的问题,本发明提供了一种原子层沉积设备的沉积腔室。

2、本发明为了实现上述目的具体采用以下技术方案:

3、一种原子层沉积设备的沉积腔室,包括底架,所述底架顶面固定安装有沉积腔室,所述沉积腔室的表面设置有用于对沉积腔室内部的废气进行排出的排气机构,所述底架的内部设置有用于金属有机气体、反应气体以及冲洗气体进行充入的进气管道,所述排气机构的表面设置有用于对废气中的颗粒进行过滤收集的过滤机构,所述底架的表面设置有用于升降机构,且升降机构的相对面设置有底板,所述升降机构用于对底板进行升降,所述沉积腔室的内壁和底板的顶面设置有用于对沉积腔室和底板之间的缝隙处进行密封的密封组件,所述底板的表面设置有用于对基底进行存放且转动的转动机构。

4、进一步地,所述排气机构包括第一排气管,所述底架的左侧壁固定安装有支架,所述支架的顶端固定安装有气泵,所述气泵的输入端设置有第二排气管。

5、进一步地,所述过滤机构包括安装管道,所述第一排气管和第二排气管的端面螺纹套设有安装管道,所述安装管道的内壁设置有用于过滤网,所述安装管道的底面设置有接口,所述接口的表面螺纹套设有集尘机构。

6、进一步地,所述升降机构包括侧板,所述底架的底面固定安装有侧板,右侧所述侧板的右侧壁固定安装有第一电动机,所述第一电动机的输出端固定安装有转动轴,所述转动轴表面固定套设有第一圆锥齿轮,所述底架的底面转动插接有螺纹杆,且螺纹杆的底端固定安装有第二圆锥齿轮,且第二圆锥齿轮和第一圆锥齿轮呈啮合设置,所述螺纹杆的表面螺纹套设有螺纹套板。

7、进一步地,所述密封组件包括第一密封圈,所述沉积腔室的内壁固定安装有第一密封圈,所述第一密封圈斜面开设有安装槽,所述安装槽的内部插接安装有橡胶密封圈,所述底板的顶面固定安装有第二密封圈。

8、进一步地,所述转动机构包括第二电动机,所述底板的底面固定安装有第二电动机,所述第二电动机的输出端贯穿底板的底面并延伸至底板的顶面固定安装有转盘,所述转盘的顶面固定安装有第一网套和第二网套。

9、进一步地,所述过滤网在安装管道的内壁呈倾斜设置,且过滤网位于接口的上方。

10、进一步地,所述第二密封圈的侧面和第一密封圈侧面均呈斜面设置,且在底板和沉积腔室闭合时第一密封圈和第二密封圈呈啮合设置。

11、进一步地,所述第一网套的外部的和第二网套的内壁构建成用于对基底进行存放的腔体,且第一网套和第二网套位于进气管道的内部。

12、本发明的有益效果如下:

13、1、本发明通过将基底放置在转动机构的内部,通过升降机构带动底板和转动机构竖直移动,使得底板和沉积腔室闭合,通过密封组件进而使得对底板和沉积腔室之间的缝隙处进行密封,进而防止在对沉积腔室内部的充入气体时出现气体泄漏,通过进气管道使得对沉积腔室的内部依次的充入金属有机气体、反应气体以及冲洗气体使得对基底进行原子层沉积,在进行原子层沉积时,通过排气机构使得对沉积腔室的内部的废气进行排出,且在排出废气时,通过过滤机构进而使得对废气中的颗粒物质进行过滤集中清理。



技术特征:

1.一种原子层沉积设备的沉积腔室,其特征在于,包括底架(1),所述底架(1)顶面固定安装有沉积腔室(2),所述沉积腔室(2)的表面设置有用于对沉积腔室(2)内部的废气进行排出的排气机构(3),所述底架(1)的内部设置有用于金属有机气体、反应气体以及冲洗气体进行充入的进气管道(4),所述排气机构(3)的表面设置有用于对废气中的颗粒进行过滤收集的过滤机构(5),所述底架(1)的表面设置有用于升降机构(6),且升降机构(6)的相对面设置有底板(7),所述升降机构(6)用于对底板(7)进行升降,所述沉积腔室(2)的内壁和底板(7)的顶面设置有用于对沉积腔室(2)和底板(7)之间的缝隙处进行密封的密封组件(8),所述底板(7)的表面设置有用于对基底进行存放且转动的转动机构(9)。

2.根据权利要求1所述的一种原子层沉积设备的沉积腔室,其特征在于,所述排气机构(3)包括第一排气管(301),所述底架(1)的左侧壁固定安装有支架(302),所述支架(302)的顶端固定安装有气泵(303),所述气泵(303)的输入端设置有第二排气管(304)。

3.根据权利要求2所述的一种原子层沉积设备的沉积腔室,其特征在于,所述过滤机构(5)包括安装管道(501),所述第一排气管(301)和第二排气管(304)的端面螺纹套设有安装管道(501),所述安装管道(501)的内壁设置有用于过滤网(502),所述安装管道(501)的底面设置有接口(503),所述接口(503)的表面螺纹套设有集尘机构(504)。

4.根据权利要求1所述的一种原子层沉积设备的沉积腔室,其特征在于,所述升降机构(6)包括侧板(601),所述底架(1)的底面固定安装有侧板(601),右侧所述侧板(601)的右侧壁固定安装有第一电动机(602),所述第一电动机(602)的输出端固定安装有转动轴(603),所述转动轴(603)表面固定套设有第一圆锥齿轮(604),所述底架(1)的底面转动插接有螺纹杆(605),且螺纹杆(605)的底端固定安装有第二圆锥齿轮(606),且第二圆锥齿轮(606)和第一圆锥齿轮(604)呈啮合设置,所述螺纹杆(605)的表面螺纹套设有螺纹套板(607)。

5.根据权利要求1所述的一种原子层沉积设备的沉积腔室,其特征在于,所述密封组件(8)包括第一密封圈(801),所述沉积腔室(2)的内壁固定安装有第一密封圈(801),所述第一密封圈(801)斜面开设有安装槽(802),所述安装槽(802)的内部插接安装有橡胶密封圈(803),所述底板(7)的顶面固定安装有第二密封圈(804)。

6.根据权利要求1所述的一种原子层沉积设备的沉积腔室,其特征在于,所述转动机构(9)包括第二电动机(901),所述底板(7)的底面固定安装有第二电动机(901),所述第二电动机(901)的输出端贯穿底板(7)的底面并延伸至底板(7)的顶面固定安装有转盘(902),所述转盘(902)的顶面固定安装有第一网套(903)和第二网套(904)。

7.根据权利要求3所述的一种原子层沉积设备的沉积腔室,其特征在于,所述过滤网(502)在安装管道(501)的内壁呈倾斜设置,且过滤网(502)位于接口(503)的上方。

8.根据权利要求5所述的一种原子层沉积设备的沉积腔室,其特征在于,所述第二密封圈(804)的侧面和第一密封圈(801)侧面均呈斜面设置,且在底板(7)和沉积腔室(2)闭合时第一密封圈(801)和第二密封圈(804)呈啮合设置。

9.根据权利要求6所述的一种原子层沉积设备的沉积腔室,其特征在于,所述第一网套(903)的外部的和第二网套(904)的内壁构建成用于对基底进行存放的腔体,且第一网套(903)和第二网套(904)位于进气管道(4)的内部。


技术总结
本发明公开了一种原子层沉积设备的沉积腔室,涉及原子层沉积技术领域。本发明,包括底架,所述底架顶面固定安装有沉积腔室,所述沉积腔室的表面设置有用于对沉积腔室内部的废气进行排出的排气机构,所述底架的内部设置有用于金属有机气体、反应气体以及冲洗气体进行充入的进气管道,所述底架的表面设置有用于升降机构,且升降机构的相对面设置有底板。本发明通过进气管道使得对沉积腔室的内部依次的充入金属有机气体、反应气体以及冲洗气体使得对基底进行原子层沉积,在进行原子层沉积时,通过排气机构使得对沉积腔室的内部的废气进行排出,且在排出废气时,通过过滤机构进而使得对废气中的颗粒物质进行过滤集中清理。

技术研发人员:张小强,宋广伟,金在宽
受保护的技术使用者:东领科技装备有限公司
技术研发日:
技术公布日:2024/1/15
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