防反射薄膜的制造方法与流程

本发明涉及防反射薄膜的制造方法。

背景技术：

1、在液晶显示器、有机el显示器等图像显示装置的可视侧，以防止由外部光的反射导致的画质降低、提高对比度等为目的，配置有防反射薄膜。防反射薄膜在薄膜基材上具备由折射率不同的多个薄膜的层叠体构成的防反射层。

2、例如，专利文献1公开了一种防反射薄膜，其在薄膜基材(硬涂薄膜)上具备sio底漆层，并且其上具备由作为高折射率层的氧化铌(nb2o5)层和作为低折射率层的氧化硅(sio2)层的交替层叠体构成的防反射层。

3、另外，专利文献1记载了具有由上述交替层叠体构成的防反射层和偏光件的层叠体的制造方法。具体而言，专利文献1中，通过在实施了辉光等离子体处理的薄膜基材上将sio底漆层和防反射层成膜而得到防反射薄膜后，使该防反射薄膜与偏光件等层叠而得到上述层叠体。以下，有时将至少具有防反射层和偏光件的层叠体记载为“带偏光件的防反射薄膜”。带偏光件的防反射薄膜可以作为具备防反射功能的偏光板使用。

4、现有技术文献

5、专利文献

6、专利文献1：日本特开2009-47876号公报

技术实现思路

1、发明要解决的问题

2、通常，车载用的图像显示装置中使用的带偏光件的防反射薄膜与设想在室外使用的移动设备中使用的带偏光件的防反射薄膜相比，要求在更高温(例如90℃以上)下的变化(特别是颜色不均的产生等外观变化)小。即，车载用的图像显示装置中使用的防反射薄膜要求在与偏光件贴合时能够抑制高温下的薄膜的变化(例如颜色不均的产生等)。以下，有时将与偏光件贴合时能够抑制高温下的薄膜的变化的性能记载为“高温耐久性”。

3、在专利文献1所记载的技术中，难以在抑制制造时的薄膜基材的变形的同时得到高温耐久性优异的防反射薄膜。需要说明的是，薄膜基材若变形，则在以卷对卷方式制造防反射薄膜时，薄膜的输送性降低。

4、本发明是鉴于上述情况而完成的，其目的在于，提供一种防反射薄膜的制造方法，其能够得到在抑制制造时的薄膜基材的变形的同时、高温耐久性优异的防反射薄膜。

5、用于解决问题的方案

6、＜本发明的实施方式＞

7、本发明包括以下的实施方式。

8、[1]一种防反射薄膜的制造方法，其为具有薄膜基材、和设置于所述薄膜基材的一个主面侧的防反射层的防反射薄膜的制造方法，所述方法具备：

9、使用稀有气体和氧气对所述薄膜基材的所述一个主面进行轰击处理的工序sa、和

10、在经过所述轰击处理的所述主面侧成膜所述防反射层的工序sb；

11、所述防反射层由多层膜形成，所述多层膜包含氧化铌薄膜、以及与所述氧化铌薄膜折射率不同的无机薄膜。

12、[2]根据上述[1]所述的防反射薄膜的制造方法，其中，所述稀有气体为氩气。

13、[3]根据上述[1]或[2]所述的防反射薄膜的制造方法，其中，在所述工序sa中，所述氧气的导入量相对于所述稀有气体的导入量和所述氧气的导入量的总和之比为0.0009以上且0.0500以下。

14、[4]根据上述[1]～[3]的任一项所述的防反射薄膜的制造方法，其中，在所述工序sb中，通过溅射法成膜所述防反射层。

15、[5]根据上述[1]～[4]的任一项所述的防反射薄膜的制造方法，其中，在所述工序sa中，在压力0.1pa以上且1.0pa以下的条件下进行轰击处理。

16、[6]根据上述[1]～[5]的任一项所述的防反射薄膜的制造方法，其中，所述防反射层的厚度为100nm以上且300nm以下。

17、[7]根据上述[1]～[6]的任一项所述的防反射薄膜的制造方法，其中，所述薄膜基材具备透明薄膜、和设置于所述透明薄膜的一个主面侧的硬涂层，

18、在所述工序sa中，对所述硬涂层的与所述透明薄膜侧相反侧的主面进行轰击处理。

19、[8]根据上述[7]所述的防反射薄膜的制造方法，其中，所述硬涂层包含数均一次粒径为0.5μm以上的颗粒。

20、[9]根据上述[7]或[8]所述的防反射薄膜的制造方法，其中，所述透明薄膜为三乙酸纤维素薄膜。

21、[10]根据上述[1]～[9]的任一项所述的防反射薄膜的制造方法，其中，在所述工序sa之后且所述工序sb之前，还具备在经过所述轰击处理的所述主面侧成膜底漆层的工序sc，

22、在所述工序sb中，在所述底漆层的与所述薄膜基材侧相反侧的主面上成膜所述防反射层。

23、发明的效果

24、根据本发明，可以提供防反射薄膜的制造方法，其能够得到在抑制制造时的薄膜基材的变形的同时高温耐久性优异的防反射薄膜。

技术特征：

1.一种防反射薄膜的制造方法，其为具有薄膜基材、和设置于所述薄膜基材的一个主面侧的防反射层的防反射薄膜的制造方法，所述方法具备：

2.根据权利要求1所述的防反射薄膜的制造方法，其中，所述稀有气体为氩气。

3.根据权利要求1所述的防反射薄膜的制造方法，其中，在所述工序sa中，所述氧气的导入量相对于所述稀有气体的导入量和所述氧气的导入量的总和之比为0.0009以上且0.0500以下。

4.根据权利要求1所述的防反射薄膜的制造方法，其中，在所述工序sb中，通过溅射法成膜所述防反射层。

5.根据权利要求1所述的防反射薄膜的制造方法，其中，在所述工序sa中，在压力0.1pa以上且1.0pa以下的条件下进行轰击处理。

6.根据权利要求1所述的防反射薄膜的制造方法，其中，所述防反射层的厚度为100nm以上且300nm以下。

7.根据权利要求1所述的防反射薄膜的制造方法，其中，所述薄膜基材具备透明薄膜、和设置于所述透明薄膜的一个主面侧的硬涂层，

8.根据权利要求7所述的防反射薄膜的制造方法，其中，所述硬涂层包含数均一次粒径为0.5μm以上的颗粒。

9.根据权利要求7所述的防反射薄膜的制造方法，其中，所述透明薄膜为三乙酸纤维素薄膜。

10.根据权利要求1所述的防反射薄膜的制造方法，其中，在所述工序sa之后且所述工序sb之前，还具备在经过所述轰击处理的所述主面侧成膜底漆层的工序sc，

技术总结
提供一种防反射薄膜的制造方法，其能够得到在抑制制造时的薄膜基材的变形的同时、高温耐久性优异的防反射薄膜。防反射薄膜的制造方法具备工序Sa和工序Sb。在工序Sa中，使用稀有气体和氧气对薄膜基材(13)的一个主面(12a)进行轰击处理。在工序Sb中，在经过轰击处理的主面(12a)侧上成膜防反射层(19)。在工序Sb中成膜的防反射层(19)由多层膜形成，该多层膜包含氧化铌薄膜、以及与氧化铌薄膜折射率不同的无机薄膜。

技术研发人员：松冈秀展,高山侃也,木畑充裕,国方智
受保护的技术使用者：日东电工株式会社
技术研发日：
技术公布日：2024/3/4